一种拼接型高纯铝管靶的抛光方法技术

本发明专利技术提供一种拼接型高纯铝管靶的抛光方法，所述抛光方法包括对拼接型高纯铝管靶表面依次进行第一砂纸处理、第二砂纸处理和百洁布处理，得到抛光后的拼接型高纯铝管靶；所述拼接型高纯铝管靶从内至外依次包括304不锈钢内管、铟焊料层和高纯铝管；所述高纯铝管的纯度≥99.9wt％。本发明专利技术所述抛光方法操作简单，抛光后的拼接型高纯铝管靶表面粗糙度符合要求，并且纹路一致，达到了铝管靶的溅射使用要求，具有大规模工业化推广应用前景。具有大规模工业化推广应用前景。具有大规模工业化推广应用前景。

【技术实现步骤摘要】
一种拼接型高纯铝管靶的抛光方法


[0001]本专利技术涉及半导体管靶
，尤其涉及一种拼接型高纯铝管靶的抛光方法。

技术介绍

[0002]半导体用拼接型高纯铝管靶分为两部分，内衬管为不锈钢材质，外管为分段式高纯铝。内管与外管经过钎焊焊接结合，才能在客户端溅射机台正常使用。分段式高纯铝在焊接时分为5段甚至更多段，每段抛光后除了需要达到所要求的粗糙度外，还需要保证每段拼接靶材的色泽与纹路一致。但铝管靶材在挤压以及焊接过程中，不可避免的对产品表面造成局部微小损伤，并且焊接过程容易沾染焊料与氧化物。局部微小的损伤如不去除会造成产品溅射过程中异常放电。
[0003]CN104032275A公开了一种拼接式旋转靶及其形成方法。所述拼接式旋转靶包括内管和与其同轴心的靶材坯料以及设置在所述内管与所述靶材坯料之间的接合层，所述靶材坯料由至少两个靶材坯料段构成，且所述两个靶材坯料段之间的接缝处存在拼接面。通过改变拼接部位的形状，将拼缝在时间上累积的影响分散到更大的面积区域，减小了拼接处的膜质差异，从而减小了器件不良发生的可能性，提高了产品合格率。但没有公开拼接式旋转靶的抛光方法。
[0004]CN113084674A公开了一种含铝靶材的自动抛光工艺方法，所述工艺方法包括以下步骤：采用自动抛光设备对含铝靶材的溅射面进行自动抛光，所述自动抛光过程包括四道抛光工序，抛光所用砂带的粒度依次递减，得到抛光后的含铝靶材。所述工艺方法根据靶材材质的选择，采用不同型号的砂带对靶材溅射面进行自动抛光，所用砂带的粒度依次减小，并通过抛光工艺参数的控制，以保证溅射面抛光后的粗糙度的可控性，使含铝靶材溅射面的粗糙度可达到0.2～0.7μm，满足后续的使用要求；所述抛光工艺自动化进行，稳定性好，减少了人工操作，提高了生产效率，也能够提高靶材生产的合格率。
[0005]CN112809455A公开了一种钨硅靶材及其溅射面的抛光方法，所述抛光方法包括往返进行的第一水磨抛光、第二水磨抛光与第三水磨抛光；所述往返的次数为15～25次；所述第一水磨抛光、第二水磨抛光与第三水磨抛光的靶材运行速度分别独立地为0.1～0.3m/s，且分别独立地采用水磨砂带进行；所述水磨砂带的转速为10～30r/min，规格包括600#白刚玉砂带或800#白刚玉砂带；所述第一水磨抛光、第二水磨抛光与第三水磨抛光的过程中分别独立地伴随着冷却水冲刷靶材溅射面；所述冷却水的冲刷速率为600～800mL/min，温度为5～25℃。所述抛光方法大幅度降低了靶材溅射面粗糙度的同时，避免了靶材出现开裂现象，并且降低了生产成本，易于推广应用。
[0006]目前还没有对拼接的铝靶进行有效的抛光打磨处理且处理后色泽纹路完全一致的方法。
[0007]因此，开发一种能够使得抛光后拼接型管靶表面粗糙度符合要求，并且纹路一致，从而保障产品表面质量的拼接型高纯铝管靶的抛光方法具有重要意义。

技术实现思路

[0008]鉴于现有技术中存在的问题，本专利技术提供一种拼接型高纯铝管靶的抛光方法，依次采用特定的砂纸和百洁布对拼接型高纯铝管靶进行抛光处理，使得抛光后靶材表面粗糙度符合要求，并且纹路一致，从而达到保障产品表面质量，提高产品合格率的目的。
[0009]为达此目的，本专利技术采用以下技术方案：
[0010]本专利技术提供一种拼接型高纯铝管靶的抛光方法，所述抛光方法包括对拼接型高纯铝管靶表面依次进行第一砂纸处理、第二砂纸处理和百洁布处理，得到抛光后的拼接型高纯铝管靶；
[0011]所述拼接型高纯铝管靶从内至外依次包括304不锈钢内管、铟焊料层和高纯铝管；所述高纯铝管的纯度≥99.9wt％。
[0012]本专利技术所述的拼接型高纯铝管靶的抛光方法对从内至外依次包括304不锈钢内管、铟焊料层和高纯铝管的拼接型高纯铝管靶依次进行第一砂纸处理、第二砂纸处理和百洁布处理，使得抛光抛光后拼接型高纯铝管靶表面粗糙度符合要求，并且纹路一致，满足铝管靶溅射使用要求。所述抛光方法操作简单，适合大规模推广应用。
[0013]优选地，所述拼接型高纯铝管靶在进行第一砂纸处理之前，刮除表面残留的铟焊料并固定在车床上。
[0014]本专利技术优选所述拼接型高纯铝管靶在进行第一砂纸处理之前，刮除表面残留的铟焊料以防止抛光过程中铟焊料过多导致铝管靶的管壁粗糙，最终抛光后的产品无法达到溅射使用要求。
[0015]本专利技术依次采用铲刀和白钢刀来刮除拼接型高纯铝管靶表面残留的铟焊料。
[0016]所述固定的方法包括拼接型高纯铝管靶的一端使用三爪卡盘进行紧固夹持，另一端使用锥形顶针顶住紧固。
[0017]优选地，所述第一砂纸处理使用180#砂纸进行。
[0018]优选地，所述180#砂纸包括180#氧化铝砂纸。
[0019]优选地，所述第一砂纸处理的过程中车床的转速为400～600r/min，例如可以是400r/min、450r/min、480r/min、500r/min、550r/min或600r/min等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
[0020]本专利技术优选所述第一砂纸处理的过程中车床的转速为400～600r/min，低于转速下限，抛光粗糙度无法达到要求，高于转速上限，则管靶容易发生弯曲。
[0021]优选地，所述第一砂纸处理重复2～3次，例如可以是2次或3次。
[0022]优选地，所述第一砂纸处理后拼接型高纯铝管靶的表面粗糙度Ra为1～3μm，例如可以是1μm、1.2μm、1.5μm、2μm、2.5μm或3μm等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
[0023]优选地，所述第二砂纸处理使用320#砂纸进行。
[0024]优选地，所述320#砂纸包括320#氧化铝砂纸。
[0025]本专利技术优选第一砂纸处理使用180#氧化铝砂纸，第二砂纸处理使用320#氧化铝砂纸，具有梯度过渡优势，管体表面不易形成划伤的优势。如果第一砂纸处理使用320#氧化铝砂纸，会导致抛光效率慢，粗痕不易抛掉。
[0026]优选地，所述第二砂纸处理的过程中车床的转速为400r/min以下，例如可以是
400r/min、350r/min、330r/min、300r/min、200r/min或100r/min等，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
[0027]本专利技术优选所述第二砂纸处理的过程中车床的转速为400r/min以下，确保得到的抛光后的拼接型高纯铝管靶的纹路一致，满足铝管靶的溅射使用要求。
[0028]优选地，所述第二砂纸处理重复3次以上，例如可以是3次、4次、5次或6次。
[0029]优选地，所述百洁布处理使用180#百洁布进行。
[0030]优选地，所述百洁布处理的过程中车床的转速为400r/min以下，例如可以是400r/min、350r/min、330r/min、300r/min、200r/min或100r/本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种拼接型高纯铝管靶的抛光方法，其特征在于，所述抛光方法包括对拼接型高纯铝管靶表面依次进行第一砂纸处理、第二砂纸处理和百洁布处理，得到抛光后的拼接型高纯铝管靶；所述拼接型高纯铝管靶从内至外依次包括304不锈钢内管、铟焊料层和高纯铝管；所述高纯铝管的纯度≥99.9wt％。2.根据权利要求1所述的抛光方法，其特征在于，所述拼接型高纯铝管靶在进行第一砂纸处理之前，刮除表面残留的铟焊料并固定在车床上。3.根据权利要求2所述的抛光方法，其特征在于，所述固定的方法包括拼接型高纯铝管靶的一端使用三爪卡盘进行紧固夹持，另一端使用锥形顶针顶住紧固。4.根据权利要求1～3任一项所述的抛光方法，其特征在于，所述第一砂纸处理使用180#砂纸进行；优选地，所述180#砂纸包括180#氧化铝砂纸。5.根据权利要求1～4任一项所述的抛光方法，其特征在于，所述第一砂纸处理的过程中车床的转速为400～600r/min；优选地，所述第一砂纸处理重复2～3次；优选地，所述第一砂纸处理后拼接型高纯铝管靶的表面粗糙度Ra为1～3μm。6.根据权利要求1～5任一项所述的抛光方法，其特征在于，所述第二砂纸处理使用320#砂纸进行；优选地，所述320#砂纸包括320#氧化铝砂纸。7.根据权利要求1～6任一项所述的抛光方法，其特征在于，所述第二砂纸处理的过程中车床的转速...

【专利技术属性】
技术研发人员：姚力军，潘杰，周鹏飞，王学泽，
申请(专利权)人：宁波江丰电子材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：