上釉机器制造技术

本发明专利技术提供一种用于在陶瓷制品(T)上施加水基材料的上釉机器(1)，其包括：上釉腔室(3)；输送机(4)，用于输送多个陶瓷制品(T)穿过上釉腔室(3)；多个喷嘴(7)，用于将在压力下的水基材料释放到上釉腔室(3)中；以及移动组件(9)，该移动组件被配置为使喷嘴(7)沿着相应的移动路径(M1、M2)移动并且包括多个线性引导件(10)和多个滑架(11)，所述线性引导件(10)在所述输送机(4)上方横向于输送方向(A)延伸，每个滑架(11)适于承载喷嘴(7)并且以滑动的方式耦合至至少一个线性引导件(10)。至少一个线性引导件(10)。至少一个线性引导件(10)。

【技术实现步骤摘要】
上釉机器
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本专利申请要求于2022年5月16日提交的意大利专利申请第102022000010100号的优先权，该专利申请的全部公开内容通过引用并入本文。


[0003]本专利技术涉及一种用于在陶瓷制品上施加水基材料的上釉机器。
[0004]特别地，本专利技术在各种形式的陶瓷制品(例如，陶瓷板和/或陶瓷砖)的生产领域中获得了有利的应用，下面的描述将对此做出明确的参考，但不因此丧失一般性。

技术介绍

[0005]在陶瓷制品(特别是陶瓷板和陶瓷砖)的生产领域中，已知的是，对基础陶瓷制品进行表面处理，所述表面处理被设计为给制品赋予所需的美学、机械和功能特性。最常见的表面处理是被设计为使基础陶瓷制品具有所需的美学外观的装饰处理，这些装饰处理在上釉操作之前和之后，在上釉操作期间，在陶瓷制品上施加水基材料(通常为陶瓷釉)的均质层，即，包含适当预熔化的玻璃(陶瓷玻璃料)、无机氧化物(例如，氧化锌、氧化铝、氧化锆)、矿物和粘土原材料(例如，高岭石、长石、碳酸盐、石英岩)以及可能的有机材料的水性悬浮液。特别地，生产陶瓷制品的已知系统提供了在刚形成的未处理的陶瓷制品上施加通常为白色釉底料的第一层水基材料，以便形成将会接收实际装饰的基底层，并且提供了在已经形成了装饰之后立即施加通常为透明的釉料的另一层水基材料以便固定装饰本身。
[0006]该水基材料的施加通常借助级联/下落式上釉系统(cascade/fall
‑
type glazing system，其通过使陶瓷制品本身穿过水基材料的下落前部来提供水基材料的施加)来进行，或者特别是在大体积陶瓷制品以及生产大量陶瓷制品的情况下，借助通过喷射来施加水基材料的无空气型的施加系统来进行。
[0007]后一种方案是现在最广泛的，借助上釉机器来实现，该上釉机器具有真空上釉室，该真空上釉室设置有多个喷嘴，该多个喷嘴适于喷射在室内的高压下的水基材料，以便形成雾化的水基材料的“雨”，该雾化的水基材料的“雨”沉积在穿过室本身的陶瓷制品上，在陶瓷制品本身上形成水基材料层。过量的材料(即，被分配但没有沉积在陶瓷制品上的材料)终结在分配室的内壁上，所述内壁被构造为将这种过量水基材料朝向专用收集罐引导，所述专用收集罐是回收材料本身的水基材料回收回路的一部分。
[0008]特别地，已知类型的上釉机器具有喷嘴移动系统，该喷嘴移动系统设置在上釉室内并且具有多个线性引导件，该多个线性引导件横向于陶瓷制品的输送方向延伸，并且各自承载安装有至少一个分配喷嘴的相应的滑架。这些滑架中的每一个通常能沿着线性引导件滑动，使得它们承载的喷嘴在分配水基材料时形成多个施加路径，从而在陶瓷制品上形成尽可能均质的水基材料层。
[0009]事实上，为了获得美学外观满足市场需求的陶瓷制品，重要的是，水基材料层尽可能均匀地施加。事实上，由于集中量的未被雾化的水基材料落在陶瓷制品上(即，直径大于
约0.5mm的液滴)或者由于这种水基材料的不均匀分布而造成的缺陷导致陶瓷制品被剔除，从而导致经济损失，陶瓷制品本身尺寸越大，经济损失越大。
[0010]正是由于这个原因，多年来，已经开发了各种方案，其特征在于不同数量的分配喷嘴、就分配直径、释放射流的角度开口等而言的不同类型的喷嘴、这些喷嘴的不同分布(例如，就与陶瓷制品的输送平面的距离而言)、用于使承载分配喷嘴的不同滑架的移动相对于喷嘴本身的输送速度同步的不同系统、分配室的壁的不同几何形状等。
[0011]然而，特别是在用于给大尺寸的陶瓷制品上釉时，这种已知类型的方案仍然具有缺点，包括以下缺点。
[0012]如上所述，已知方案的主要问题之一与集中量的水基材料落在陶瓷制品表面上，导致在陶瓷制品上形成缺陷，从而导致制品本身被剔除的风险有关。这种现象主要归因于过量水基材料(即，没有沉积在陶瓷制品上的材料)，其终结在上釉室的内壁上并且存在在到达收集罐之前与壁本身分离，从而损害陶瓷制品的外观的风险。这种风险在上釉室的输入部分和输出部分处较高，在输入部分和输出部分处，过量材料遇到上釉室的输入开口或输出开口的边缘并因此倾向于分离，从而存在在下落时遇到陶瓷制品并损害其外观的风险。为了试图避免这种风险，上釉室的输入部分和输出部分的输入开口和输出开口通常具有上倾斜边缘，以便将过量水基材料朝向收集罐引导。然而，这种构造导致输入开口和输出开口的截面增加，随之带来了与更大量的空气进入上釉室相关的缺点。
[0013]还应当理解，陶瓷制品的尺寸越大，水基材料在与上釉室的壁分离时将遇到陶瓷制品的风险就越大。
[0014]此外，通常，要处理的陶瓷制品的尺寸越大，由水基材料射流直接覆盖的区域与周围区域之间的差异就越显著。在这些情况下，为了试图保持产品的更均匀的分布，通常增加横杆和分配喷嘴的数量，以及通常增加承载不同喷嘴的滑架的移动速度并且更一般地，通常增加随陶瓷制品的输送速度而变的各个滑架之间的往复移动的数量，以便覆盖这些大尺寸的陶瓷制品的整个区域。然而，这种部件的数量的增加以及往复移动的速度和数量的甚至更多的增加导致了上釉机器所经受的振动的增加。这不仅导致部件的磨损问题，而且还甚至更多地增加了大量水基材料从上釉室的内壁落在陶瓷制品的输送平面上并因此落在制品本身上的风险。

技术实现思路

[0015]本专利技术的目的是提供一种用于在陶瓷制品上施加水基材料的上釉机器，其可以至少部分地克服现有技术的局限性，同时易于制造且制造成本低廉。
[0016]根据本专利技术，提供了一种如所附独立权利要求中所述并且优选如直接或间接地从属于独立权利要求的任何权利要求所述的用于在陶瓷制品上施加水基材料层的上釉机器。
[0017]权利要求描述了本专利技术的优选实施方式。
附图说明
[0018]现在将参照示出实施方式的一些非限制性例子的附图来描述本专利技术，在附图中：
[0019]图1示出了根据本专利技术的实施方式的上釉机器的立体图；
[0020]图2是处于拆卸构造的图1的上釉机器的一些部件的侧视图；
[0021]图3是根据本专利技术的第一变型的图1中的机器的一部分的立体图；
[0022]图3A是图3的细节3A的放大比例的视图；
[0023]图4是根据本专利技术的另一个变型的图3所示的机器的与图1的机器的相同部分的立体图；
[0024]图4A是图4的细节4A的放大比例的视图；
[0025]图5和图6以立体和示意性的方式示出了图1的上釉机器的具有不同喷射角度的一些喷嘴的两个可能的操作构造；
[0026]图7是用于更好地使机器的上釉室的输出开口可视化的图1的机器的侧视图，以剖面线示出了按照已知类型的上釉机器中的输出开口的上边缘所截取的路线(course)；
[0027]图8表示在输出开口附近的图1的机器的一部分的立体图，其中一些部分已经被省略以使其他部件可视化；
[0028]图8A以放大比例示出了图8的一部分；以及
[0029]图9以放大比例示出了图8本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于在陶瓷制品(T)上施加水基材料的上釉机器(1)；所述上釉机器(1)包括：支撑结构(2)，其限定至少一个上釉腔室(3)；输送机(4)，其在输送方向(A)上沿着输送路径(P)输送多个陶瓷制品(T)穿过所述上釉腔室(3)；多个喷嘴(7)，每个喷嘴被设置和配置为将在压力下的所述水基材料的射流(G)释放到所述上釉腔室(3)中；以及移动组件(9)，其被配置为使所述多个喷嘴(7)中的每个喷嘴(7)沿着相应的移动路径(M1、M2)移动，并且包括多个线性引导件(10)和多个滑架(11)，所述多个线性引导件(10)在所述输送机(4)上方横向于所述输送方向(A)延伸，每个滑架(11)被配置为承载所述多个喷嘴(7)中的至少一个相关的喷嘴(7)，以滑动的方式耦合至所述多个线性引导件(10)中的相关的线性引导件(10)，并且能够被操作为沿着相关的线性引导件(10)平移以便使相应的喷嘴(7)沿着相应的移动路径(M1、M2)移动；其特征在于，所述多个线性引导件(10)中的至少一个线性引导件(10)包括：平行的一对导轨(13)，它们横向于所述输送方向(A)延伸；第一滑架(11
’
)和第二滑架(11”)，所述第一滑架(11
’
)以滑动的方式耦合至所述一对导轨(13)中的第一导轨(13
’
)，所述第二滑架(11”)以滑动的方式耦合至所述一对导轨(13)中的第二导轨(13”)；操作马达(12)；以及传动组件(14)，用于将运动从所述操作马达(12)传递到所述第一滑架(11
’
)和所述第二滑架(11”)，以引起所述第一滑架(11
’
)和所述第二滑架(11”)分别沿着所述第一导轨(13
’
)和所述第二导轨(13”)在相反的方向上根据直线往复运动移动，以便使相关的喷嘴(7)分别沿着第一移动路径(M1)和第二移动路径(M2)移动；所述第一移动路径(M1)和所述第二移动路径(M2)基本上彼此平行且彼此相对并且相对于彼此反相。2.根据权利要求1所述的上釉机器(1)，其中：所述至少一个线性引导件的所述操作马达被配置为引起所述第二滑架(11”)从所述线性引导件(10)的第一侧端部(E1)到所述线性引导件(10)的与所述第一侧端部(E1)相对的第二侧端部(E2)根据所述直线往复运动以第二平移速度(V2)移动，并且反之亦然；并且所述传动组件(14)被配置为将所述第一滑架(11
’
)拖曳成所述第一滑架(11
’
)从所述线性引导件(10)的所述第二侧端部(E2)到所述第一侧端部(E1)根据直线往复运动以第一平移速度(V1)移动，并且反之亦然，所述第一平移速度(V1)等于所述第二平移速度(V2)并且与所述第二平移速度(V2)相反。3.根据权利要求1或2所述的上釉机器(1)，其中：所述传动组件(14)包括铰接接头(15)(特别地，由所述铰接接头(15)组成)，所述铰接接头(15)可操作地插入在所述操作马达(12)与所述第一滑架(11
’
)和所述第二滑架(11”)之间。4.根据权利要求1或2所述的上釉机器(1)，其中：所述传动组件(14)包括皮带和滑轮传动装置(16)(特别地，由所述皮带和滑轮传动装置(16)组成)，所述皮带和滑轮传动装置(16)可操作地插入在所述操作马达(12)与所述第一滑架(11
’
)和所述第二滑架(11”)之间。5.根据权利要求4所述的上釉机器(1)，其中，所述操作马达(12)具有能围绕第一轴线(Z1)旋转的驱动轴，并且所述皮带和滑轮传动装置(16)包括：第一驱动轮(17)，该第一驱动轮花键连接至所述驱动轴并且被配置为操作所述第二滑架(11”)的平移；第二驱动轮(18)，
该第二驱动轮能围绕平行于所述第一轴线(Z1)的第二轴线(Z2)旋转，并且被配置为将所述第一滑架(11
’
)拖曳成所述第一滑架(11
’
)平移；皮带(19)，该皮带装配在所述第一驱动轮(17)和所述第二驱动轮(18)之间，以便将运动从所述第一驱动轮(17)传递到所述第二驱动轮(18)；以及偏转元件(20)，该偏转元件使所述驱动皮带(19)偏转，使得所述第一滑架(11
’
)被操作为根据具有与所述第二滑架(11”)的直线往复运动相反的方向的直线往复运动。6.根据权利要求1所述的上釉机器(1)，其中，所述上釉腔室(3)设置有输出开口(8)和输入开口；所述输出开口(8)和所述输入开口中的至少一个开口具有直线上边缘(21)；并且所述上釉机器(1)还包括在所述输出开口(8)和所述输入开口中的所述至少一个开口处的清洁组件(22)，用于清除所述直线上边缘(21)上的可能的过量水基材料；所述清洁组件(22)包括被配置为去除所述过量水基材料的相应的清洁装置(23)和被配置为控制所述清洁装置(23)的操作的控制单元(CU)。7.一种用于在陶瓷制品(T)上施加水基材料的上釉机器(1)；所述上釉机器(1)包括：...

【专利技术属性】
技术研发人员：皮耶鲁戈，
申请(专利权)人：萨克米科技股份公司，
类型：发明
国别省市：