一种晶圆研磨设备及其工艺制造技术

技术编号:35564161 阅读:24 留言:0更新日期:2022-11-12 15:47
本发明专利技术公开了一种晶圆研磨设备及其工艺,包括内部呈环形阵列活动安装有用于对硅棒进行研磨加工的研磨组件,研磨组件包括内缘面顶部和底部均焊接固定有缓和组件的弧形条板,缓和组件包括一端焊接固定于弧形条板的侧板,侧板远离弧形条板的一端可拆卸安装有U型板,U型板远离侧板的一面顶部构造有延伸板,延伸板的上端面居中开设有矩形凹槽,且延伸板的上端面刻画有用于指示硅棒表面打磨量的刻度尺,矩形凹槽内居中焊接固定有定位轴,定位轴的外缘面上滑动安装有滑块,且定位轴的外缘面上套设有抵接于滑块并起到缓和减震作用的缓冲弹簧,该晶圆研磨设备及其工艺,结构合理,便于对硅棒研磨加工的同时提供缓和减震,实用性强。实用性强。实用性强。

【技术实现步骤摘要】
一种晶圆研磨设备及其工艺


[0001]本专利技术属于晶圆研磨设备
,具体涉及一种晶圆研磨设备及其工艺。

技术介绍

[0002]晶圆是指硅半导体集成电路制作所用的硅晶片,由于其形状为圆形,故称为晶圆;在硅晶片上可加工制作成各种电路元件结构,而成为有特定电性功能之IC产品。晶圆的原始材料是硅,而地壳表面有用之不竭的二氧化硅。二氧化硅矿石经由电弧炉提炼,盐酸氯化,并经蒸馏后,制成了高纯度的多晶硅,其纯度高达99.999999999%。
[0003]目前晶圆的生产需要使用激光切割设备,将硅棒切割呈极薄的硅片,接着用光学和化学蚀刻的方法把电路、电子元器件做上去,形成晶圆,而对硅棒进行激光切割之前,其在运输的过程表面和端部容易产生磨损划痕,因此需要事先使用研磨设备对其表面进行研磨,使其表面平整。
[0004]现有的硅棒在研磨加工过程中,硅棒与研磨辊之间硬性接触,导致研磨时容易因受力不均而出现损坏,造成次品率的增加,且提高了生产成本。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的在于提供一种晶圆研磨设备及其工艺,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0006]为实现上述目的,本专利技术提供如下技术方案为:
[0007]一种晶圆研磨设备及其工艺,包括内部呈环形阵列活动安装有用于对硅棒进行研磨加工的研磨组件;
[0008]所述研磨组件包括内缘面顶部和底部均焊接固定有缓和组件的弧形条板,所述缓和组件包括一端焊接固定于弧形条板的侧板,所述侧板远离弧形条板的一端可拆卸安装有U型板,所述U型板远离侧板的一面顶部构造有延伸板;
[0009]所述延伸板的上端面居中开设有矩形凹槽,且延伸板的上端面刻画有用于指示硅棒表面打磨量的刻度尺,所述矩形凹槽内居中焊接固定有定位轴,所述定位轴的外缘面上滑动安装有滑块,且定位轴的外缘面上套设有抵接于滑块并起到缓和减震作用的缓冲弹簧,滑块的顶部构造有打磨结构。
[0010]进一步地,打磨结构包括构造于滑块顶部的连接臂,所述连接臂的一端构造有承载板,位于所述研磨组件内缘面顶部的侧板内开设有轴孔,且位于研磨组件内缘面顶部的侧板上端面居中固定安装有电动机二。
[0011]进一步地,设置于所述研磨组件内缘面底部的承载板下端面居中构造有长轴,所述电动机二通过电机轴连接有可旋转安装于两个缓和组件之间的研磨辊。
[0012]进一步地,所述延伸板上端面朝向U型板的一端居中等距开设有限位螺孔,所述U型板的上端面设置有一端可螺旋拧入限位螺孔内的限位螺栓。
[0013]进一步地,所述长轴的外缘面上可直线滑动安装有直线轴承,所述直线轴承的外
缘面上固定安装有转轮。
[0014]进一步地,所述承装组件包括承装桶,所述承装桶的底部呈环形阵列开设有用于供长轴端部插入活动的条形通槽,且承装桶的内壁底部居中构造有环体,所述承装桶的底端构造有环形支撑板。
[0015]进一步地,所述承装桶的下端面居中固定安装有电动机一,所述电动机一通过电机轴连接有可旋转安装于环体内的转块,所述转块的外缘面上呈环形阵列构造有切面呈圆形并用于供转轮抵接滚动的弧形弯条。
[0016]进一步地,所述承装桶的内缘面上呈环形阵列构造有弧形凸板,所述弧形凸板的内缘面上居中开设有调节槽,所述调节槽内居中可旋转安装有螺纹轴,所述螺纹轴的外缘面上螺纹配合安装有调节块,所述调节块的一侧焊接固定于弧形条板。
[0017]一种晶圆研磨工艺,包括晶圆研磨设备,其特征在于,包括以下步骤:
[0018]S1、硅棒表面修整;
[0019]S2、硅棒施压研磨;
[0020]S3、硅棒错位打磨,
[0021]S1:硅棒放置于承装桶中呈环形阵列的研磨组件之间,使其外表面与研磨辊的表面相抵接,通过启动电动机二,由电动机二的电机驱动研磨辊旋转,通过研磨辊与硅棒表面的摩擦实现对硅棒表面的修整;
[0022]S2:通过启动电动机一,由电动机一的电机轴转动带动转块旋转,使得呈环形阵列构造于转块外缘面上的弧形弯条转动,通过转轮与其滚动抵接实现对呈环形阵列的研磨组件整体朝向硅棒收束,从而通过研磨辊对硅棒施压,实现施压打磨;
[0023]施压打磨过程中,硅棒对研磨辊施加反作用力,通过反作用力推动连接臂移动,使得滑块于定位轴外缘面滑动并使得缓冲弹簧受压形变,通过缓冲弹簧的形变实现硅棒加工过程中的缓和减震,且通过观察连接臂指向刻度尺的位置,可对硅棒打磨量进行大致判断;
[0024]S3:螺纹轴由外力驱动旋转,通过螺纹轴的旋转带动调节块移动,从而使得通过弧形条板焊接固定于调节块的研磨组件整体位置发生变化,使得呈环形阵列的研磨组件彼此错开,提升对硅棒的研磨效果。
[0025]与现有技术相比,本专利技术具有如下有益效果:得益于承装桶、弧形条板、侧板、U型板、延伸板、矩形凹槽、刻度尺、定位轴、缓冲弹簧以及打磨结构的设置,在对硅棒进行打磨加工的同时,硅棒与打磨结构之间产生作用力与反作用力,反作用力作用于滑块,使得滑块于定位轴的外缘面上滑动,使得缓冲弹簧受压形变,通过缓冲弹簧的形变作用实现对硅棒打磨过程的缓和减震,即软性接触,有利于降低加工过程中硅棒因受力不均而损坏的情况出现;
[0026]得益于承装桶、条形通槽、环体、电动机一、转块、弧形弯条、长轴、直线轴承以及转轮的设置,通过启动电动机一,可使其电机轴转动带动转块旋转,带动弧形弯条旋转,使得呈环形阵列构造于转块外缘面上的弧形弯条转动,通过转轮与其滚动抵接实现对呈环形阵列的研磨组件整体朝向硅棒收束,从而通过研磨辊对硅棒施压,完成对硅棒表面的磨削,进一步使得表面平整,提升表面平整性。
附图说明
[0027]图1为本专利技术的结构示意图;
[0028]图2为本专利技术承装组件与研磨组件的拆分示意图;
[0029]图3为本专利技术研磨组件的结构示意图;
[0030]图4为本专利技术缓和组件的结构示意图;
[0031]图5为本专利技术承装组件的剖视图。
[0032]图中:1、承装组件;101、承装桶;102、弧形凸板;103、环形支撑板;104、条形通槽;105、环体;106、电动机一;107、转块;108、弧形弯条;109、调节槽;110、螺纹轴;2、调节块;3、研磨组件;301、弧形条板;302、电动机二;303、研磨辊;304、长轴;305、直线轴承;306、转轮;4、缓和组件;401、侧板;402、U型板;403、限位螺栓;404、延伸板;405、矩形凹槽;406、刻度尺;407、定位轴;408、缓冲弹簧;409、连接臂;410、承载板;411、轴孔。
具体实施方式
[0033]为使本专利技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体实施方式,进一步阐述本专利技术。
[0034]如图1图4所示,该晶圆研磨设备及其工艺,包括内部呈环形阵列活动安装有用于对硅棒进行研磨加工的研磨组件3,所述研磨组件3包括内缘面顶部和底部均焊接固定有缓和组件4的弧形条板301,本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种晶圆研磨设备,包括内部呈环形阵列活动安装有用于对硅棒进行研磨加工的研磨组件(3);其特征在于:所述研磨组件(3)包括内缘面顶部和底部均焊接固定有缓和组件(4)的弧形条板(301),所述缓和组件(4)包括一端焊接固定于弧形条板(301)的侧板(401),所述侧板(401)远离弧形条板(301)的一端可拆卸安装有U型板(402),所述U型板(402)远离侧板(401)的一面顶部构造有延伸板(404);所述延伸板(404)的上端面居中开设有矩形凹槽(405),且延伸板(404)的上端面刻画有用于指示硅棒表面打磨量的刻度尺(406),所述矩形凹槽(405)内居中焊接固定有定位轴(407),所述定位轴(407)的外缘面上滑动安装有滑块,且定位轴(407)的外缘面上套设有抵接于滑块并起到缓和减震作用的缓冲弹簧(408),滑块的顶部构造有打磨结构。2.根据权利要求1所述的一种晶圆研磨设备,其特征在于:打磨结构包括构造于滑块顶部的连接臂(409),所述连接臂(409)的一端构造有承载板(410),位于所述研磨组件(3)内缘面顶部的侧板(401)内开设有轴孔(411),且位于研磨组件(3)内缘面顶部的侧板(401)上端面居中固定安装有电动机二(302)。3.根据权利要求2所述的一种晶圆研磨设备,其特征在于:设置于所述研磨组件(3)内缘面底部的承载板(410)下端面居中构造有长轴(304),所述电动机二(302)通过电机轴连接有可旋转安装于两个缓和组件(4)之间的研磨辊(303)。4.根据权利要求2所述的一种晶圆研磨设备,其特征在于:所述延伸板(404)上端面朝向U型板(402)的一端居中等距开设有限位螺孔,所述U型板(402)的上端面设置有一端可螺旋拧入限位螺孔内的限位螺栓(403)。5.根据权利要求3所述的一种晶圆研磨设备,其特征在于:所述长轴(304)的外缘面上可直线滑动安装有直线轴承(305),所述直线轴承(305)的外缘面上固定安装有转轮(306)。6.根据权利要求5所述的一种晶圆研磨设备,其特征在于:所述承装组件(1)包括承装桶(101),所述承装桶(101)的底部呈环形阵列开设有用于供长轴(304)端部插入活动的条形通槽(104),且承装桶(101)的内壁底部居中构造有环体(105),所述承装桶(101)的底端构造有...

【专利技术属性】
技术研发人员:古德宗廖浚男范光宇
申请(专利权)人:浙江睿兆芯半导体科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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