蒸镀方法技术

本发明专利技术提供一种蒸镀方法，所述蒸镀方法用于形成衬底上的金属膜，所述方法包括：将块体金属材料源置于容器内，所述块体金属材料源的底部表面上形成有凹槽；以及使所述容器内的所述块体金属材料源的表面的金属材料蒸发，以将蒸发的金属材料形成在所述衬底上，由此在所述衬底上形成所述金属膜。衬底上形成所述金属膜。衬底上形成所述金属膜。

【技术实现步骤摘要】
蒸镀方法


[0001]本专利技术涉及蒸镀方法，尤其涉及一种用于形成衬底上的金属膜的蒸镀方法。

技术介绍

[0002]声表面波(SAW：Surface Acoustic Wave)滤波器、体声波(BAW：Bulk Acoustic Wave)滤波器以及薄膜体声波谐振器(FBAR：Film Bulk Acoustic Resonator)是当前滤波器领域的三大主流技术。当前电子系统向小型化，高可靠性，抗干扰能力强等方向进一步发展，SAW滤波器受到越来越多的青睐。SAW滤波器的制作中，实现电信号和声信号的转换是由叉指换能器(IDT：Interdigital Transducer)来完成的。铝、铜或铝铜合金具有很高的导电性，声阻抗小且易于加工，常用来作为叉指换能器的组成材料。其中Al因其低电阻和廉价性，常用来作为接收端SAW器件。
[0003]现有的制备IDT电极的通常技术方案为当LiTaO3或LiNiO3晶圆表面蒸镀一层较薄的Ti或Cr膜后，再在其上镀上一层纯Al或Al
‑
Cu合金金属膜。Al膜的均匀性通过提高设备蒸发距离和设置特殊尺寸要求的均匀性补正板来实现。然而对于设备本身而言，蒸发距离越大，设备的制造成本越高，且工艺腔体较大，抽真空时间较长，生产效率也受影响。补正板在一定程度上可以提高膜厚均匀性，但比较有限。对于均匀性要求较高的膜层，例如高频器件，膜厚偏差对频率变化比较敏感，对膜厚均匀性要求会比较高。
[0004]现有的用于改进蒸发镀膜膜厚均匀性的技术(例如中国专利CN203960326U)一般通过设计特殊结构或形状的均匀性补正板来保证膜厚的均匀性。这种方法对于蒸发距离较小的点状源蒸发镀膜设备而言，需要经常定期修正补正板。对于批量生产而言不好控制，且实施起来比较复杂。

技术实现思路

[0005]专利技术所要解决的技术问题
[0006]本专利技术为了解决上述问题而完成，其目的在于，提供一种用于形成衬底上的金属膜的蒸镀方法，能够大幅度改善镀膜膜厚均匀性，同时工艺简单且几乎无任何设备或工艺成本增加。
[0007]解决技术问题的技术方案
[0008]在解决上述问题的本专利技术的一个实施例中，提供了一种蒸镀方法，所述蒸镀方法用于形成衬底上的金属膜，所述方法包括：将块体金属材料源置于容器内，所述块体金属材料源的与所述容器的底部接触的底部表面上形成有凹槽；以及使所述容器内的所述块体金属材料源的上表面的金属材料蒸发，以将蒸发的金属材料形成在所述衬底上，由此在所述衬底上形成所述金属膜。
[0009]在本专利技术的一实施例中，所述块体金属材料源的形状呈圆台形。
[0010]在本专利技术的一实施例中，所述凹槽为形成在所述块体金属材料源的所述底部表面的中心处的圆柱形凹槽。
[0011]在本专利技术的一实施例中，所述凹槽的直径为所述块体金属材料源的所述底部表面的直径的1/3。
[0012]在本专利技术的一实施例中，所述蒸镀方法进一步包括：对所述容器的底部和侧壁进行冷却。
[0013]在本专利技术的一实施例中，所述蒸镀方法进一步包括：对所述容器的底部和侧壁进行冷却包括：使冷却水流过所述容器的底部和侧壁。
[0014]在本专利技术的一实施例中，在所述块体金属材料源的高度由于蒸发而下降达预定高度时，在所述块体金属材料源的表面添加由与所述块体金属材料源相同的材料构成的金属材料颗粒，使得添加到所述块体金属材料源的顶面的所述金属材料颗粒的铺开后的顶面高度比所述容器的外边沿高度要低预定距离。
[0015]专利技术效果
[0016]根据本专利技术，实现了大幅度地改善镀膜膜厚均匀性，同时工艺简单且几乎不存在任何设备或工艺成本的增加。
附图说明
[0017]为了能够详细地理解本专利技术，可参考实施例得出上文所简要概述的本专利技术的更具体的描述，一些实施例在附图中示出，为了促进理解，已尽可能使用相同附图标记来标示各图所共有的相同要素。然而，应当注意，附图仅仅示出本专利技术的典型实施例，并且因此不应视为限制本专利技术的范围，因为本专利技术可允许其他等效实施例，在附图中：
[0018]图1是根据本专利技术的实施例的用于形成衬底上的金属膜的蒸镀方法的示例的流程图。
[0019]图2是根据本专利技术的实施例的块体金属材料源的一个示例的结构示意图。
[0020]图3是示出根据本专利技术的实施例的处于冷却过程的状态下的示意图。
[0021]图4是示出根据本专利技术的实施例的示例镀膜的膜厚均匀性的示意图。
[0022]可以预期的是，本专利技术的一个实施例中的要素可有利地适用于其他实施例而无需赘述。
具体实施方式
[0023]以下通过具体实施例来进行说明，本领域技术人员可由本说明书所公开的内容清楚地了解本专利技术的其它优点与技术效果。此外，本专利技术并不限于下述具体实施例，也可通过其它不同的实施例加以施行或应用，并且，对于本说明书中的各项具体内容，可在不背离本专利技术的精神下进行各种修改与变更。
[0024]本申请使用了特定词语来描述本申请的实施例。如“一个实施例”、“其他实施例”、和/或“一些实施例”意指与本申请至少一个实施例相关的某一特征、结构或特点。因此，应强调并注意的是，本说明书中在不同位置两次或多次提及的“一个实施例”或“其他实施例”或“一些实施例”并不一定是指同一实施例。此外，本申请的一个或多个实施例中的某些特征、结构或特点可以进行适当的组合。
[0025]应当注意的是，为了简化本申请披露的表述，从而帮助对一个或多个实施例的理解，后文对本申请实施例的描述中，有时会将多种特征归并至一个实施例、附图或对其的描
述中。但是，这种披露方法并不意味着本申请对象所需要的特征比权利要求中提及的特征多。实际上，实施例的特征要少于在下文披露的单个实施例的全部特征。
[0026]下面，基于附图对本专利技术的具体实施例进行详细叙述。所列举的附图仅为简单说明，并非依实际尺寸描绘，未反应出相关结构的实际尺寸，先予叙明。为了便于理解，在各附图中使用了相同的参考标号，以指示附图中共用的相同元素。附图并未依比例绘制并且可为了清晰而被简化。一个实施例的元素及特征可有利地并入其它实施例中，而无须进一步叙述。
[0027]以下，参照图1至图4，对本专利技术涉及的用于形成衬底上的金属膜的蒸镀方法的示例进行说明。
[0028]图1是本专利技术涉及的用于形成衬底上的金属膜的蒸镀方法的示例的示意性流程图。
[0029]作为示例的蒸镀方法100开始于图1中的步骤101。在步骤101处，可将块体金属材料源210置于容器220内。
[0030]作为非限制性的示例，块体金属材料源210的一个示例的侧视图可参见图2。如图2所示，块体金属材料源210的侧视图轮廓可为梯形，立体结构可以是圆台形。块体金属材料源210的高度可以是t1，并且块体金属材料源210的底部表面211(即，块体金属材料源210当被置于容器220内时与容器220的底部接触的表面)可以呈直径为D1的圆形，而块体金属材料源210的顶部本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀方法，所述蒸镀方法用于形成衬底上的金属膜，所述方法包括：将块体金属材料源置于容器内，所述块体金属材料源的与所述容器的底部接触的底部表面上形成有凹槽；以及使所述容器内的所述块体金属材料源的上表面的金属材料蒸发，以将蒸发的金属材料形成在所述衬底上，由此在所述衬底上形成所述金属膜。2.如权利要求1所述的蒸镀方法，其特征在于，所述块体金属材料源的形状呈圆台形。3.如权利要求2所述的蒸镀方法，其特征在于，所述凹槽为形成在所述块体金属材料源的所述底部表面的中心处的圆柱形凹槽。4.如权利要求3所述的蒸镀方法，其特征在于，所述凹槽的直径为所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：翁志坤，张德文，曾沣，
申请(专利权)人：广东广纳芯科技有限公司，
类型：发明
国别省市：