本发明专利技术提供了一种坩埚和蒸镀装置，其中，该坩埚包括本体和涂层，其中，所述本体包括内壁；所述涂层至少位于所述底部的内壁上；所述本体的材料为钽。通过本发明专利技术提供的坩埚，由于其底部包括双层结构即本体和涂层，且本体的材料为钽，由于钽和涂层的存在，能有效避免现有技术中的坩埚存在的容易出现破损的问题，且可有效降低蒸镀材料与坩埚的内壁的附着性，坩埚内材料不易粘附在坩埚底部、容易取出，避免材料的浪费，同时还可避免坩埚受力产生的形变，延长坩埚使用寿命。延长坩埚使用寿命。延长坩埚使用寿命。
【技术实现步骤摘要】
一种坩埚和蒸镀装置
[0001]本专利技术涉及了蒸镀
，具体涉及了一种坩埚和蒸镀装置。
技术介绍
[0002]随着显示行业的发展，有机发光显示OLED(Organic Light
‑
Emitting Diode)技术是目前最有前景的屏幕显示技术之一，而且OLED器件的大部分核心功能膜层是采用坩埚进行膜层蒸镀形成的。
[0003]但是，现有技术中的坩埚存在容易出现破损，坩埚内材料粘附在坩埚底部、难以取出的问题。
技术实现思路
[0004]有鉴于此，本专利技术实施例提供了一种坩埚和蒸镀装置，以改善现有技术中存在的问题。
[0005]本专利技术第一方面提供了一种坩埚，包括：
[0006]本体，所述本体包括相互连接的底部和侧部，所述本体还包括内壁和外壁；
[0007]涂层，所述涂层至少位于所述底部的内壁上，用于降低所述本体与所述坩埚内材料的粘附性；
[0008]其中，所述本体的材料为钽。
[0009]在一个实施例中，所述涂层的材料包括热解氮化硼、氮化硅或氧化硅。通过设置涂层，可使得蒸镀材料容易从坩埚中取出、利于回收，避免材料的浪费。
[0010]在一个实施例中，所述涂层的厚度小于5微米。在保证顺利取出坩埚内蒸镀材料的基础上有效简化制备工艺，节约制备原料。
[0011]在一个实施例中，所述涂层的面积占所述本体的所述内壁面积的30％
‑
90％；
[0012]优选地，所述涂层的面积占所述本体的所述内壁面积的50％
‑
90％。可以合理设置涂层的面积，使得其更容易取出坩埚内的蒸镀材料，避免蒸镀材料的浪费。
[0013]在一个实施例中，所述坩埚还包括开口，在沿所述开口到所述底部的方向上，所述侧部的所述内壁和所述外壁之间的距离逐渐增大。可有效增大坩埚底部强度，避免坩埚损坏，同时还可避免坩埚受力产生形变。
[0014]在一个实施例中，所述侧部包括第一部分和第二部分，所述第二部分与所述底部连接，所述第二部分的所述内壁和所述外壁之间的距离大于所述底部的所述内壁和所述外壁之间的距离。通过在坩埚易损坏的位置设置更厚的结构，能进一步增大坩埚底部附近的强度，避免坩埚损坏，增大坩埚使用寿命。
[0015]在一个实施例中，所述第一部分的所述内壁和所述外壁之间的距离小于或等于所述底部的所述内壁和所述外壁之间的距离。通过合理设置本体的厚度，能在保证坩埚具有有益效果的基础上更大程度的节约原料。
[0016]在一个实施例中，所述第一部分设置有凸起；
[0017]优选地，所述涂层位于所述凸起的下方。涂层制备时沿该凸起向下制作，增加涂层的粘附性，避免涂层脱落，有效保护涂层。
[0018]在一个实施例中，所述凸起的高度为0.1mm
‑
1.5mm；优选地，所述凸起的高度为0.1mm
‑
1mm。通过限定凸起的高度可以限定涂层的起始涂覆位置。
[0019]本专利技术另一方面提供了一种蒸镀装置，包括上述任一实施例所述的坩埚。
[0020]本专利技术提供了一种坩埚和蒸镀装置，其中，该坩埚包括本体和涂层，其中，所述本体包括内壁；所述涂层至少位于所述底部的内壁上；所述本体的材料为钽。通过本专利技术提供的坩埚，由于其底部包括双层结构即本体和涂层，且本体的材料为钽，能有效避免现有技术中的坩埚存在的容易出现破损的问题，且由于涂层的存在，可有效降低蒸镀材料与坩埚的内壁的附着性，坩埚内材料不易粘附在坩埚底部、容易取出、利于回收，避免材料的浪费，同时还可避免坩埚受力产生的形变，延长坩埚使用寿命。
附图说明
[0021]图1所示为本专利技术一实施例提供的一种坩埚的结构示意图；
[0022]图2所示为图1的分解的结构示意图；
[0023]图3所示为本专利技术另一实施例提供的一种坩埚的结构示意图；
[0024]图4所示为本专利技术另一实施例提供的一种外围结构的结构示意图。
[0025]附图标记：
[0026]1‑
坩埚；10
‑
本体；110
‑
底部；120
‑
侧部；122
‑
第一部分；124
‑
第二部分；126
‑
内壁；128
‑
外壁；20
‑
涂层；30
‑
开口；40
‑
凸起；50
‑
外围结构；X
‑
第一方向；h
‑
高度；d
‑
距离。
具体实施方式
[0027]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然所描述的实施例仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他的实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0028]在本专利技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术，而不是指示所指的装置或元件必须具有特定的方位，因此不能理解为对本专利技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。此外，需要说明的是，下面所描述的本专利技术不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。
[0029]所应说明的是，以上现有技术中的方案所存在的缺陷，均是专利技术人在经过实践并仔细研究后得出的结果，因此，上述技术问题的发现过程以及下文中本申请实施例针对上述问题所提出的解决方案，都应该是专利技术人在专利技术创造过程中对本申请做出的贡献，而不应当理解为本领域技术人员所公知的
技术实现思路
。
[0030]本申请的专利技术人经过长期研究发现，在用蒸镀工艺蒸镀OLED的各个膜层时，若具体的蒸镀工艺为点源蒸镀时，现有技术的坩埚通常会使用的两种材料为：热解氮化硼和钽，当使用的坩埚的材料是热解氮化硼(PBN)时，其缺点是易浸润泄漏，且其本身硬度较小，碰
撞中容易破裂出现裂纹，因此在实际生产时，容易出现坩埚破损异常，造成生产延迟；如果该坩埚的材料是钽(Ta)时，蒸镀完后坩埚内剩余材料会粘附在坩埚底部，难以取出，并且温度降低后，坩埚底部会受力收缩，产生形变。
[0031]基于上述一系列的问题，本专利技术提供了一种坩埚，能够有效改善现有技术中的坩埚存在的容易出现破损，坩埚内材料粘附在坩埚底部、难以取出的问题，具体方案如下所示。
[0032]本专利技术一实施例中提供了一种坩埚，具体可参见图1和图2，图1所示为本专利技术一实施例提供的一种坩埚的结构示意图。图2所示为图1的分解的结构示意图。具体的，该坩埚1包括本体10和涂层20，其中，本体10包括相互连接的底部110和侧部120，本体10还包括内壁126和外壁128，且本体10的材料为钽(Ta)；涂层20至少位于底部本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种坩埚，其特征在于，包括：本体，所述本体包括相互连接的底部和侧部，所述本体还包括内壁和外壁；涂层，所述涂层至少位于所述底部的内壁上，用于降低所述本体与所述坩埚内材料的粘附性；其中，所述本体的材料为钽。2.根据权利要求1所述的坩埚，其特征在于，所述涂层的材料包括热解氮化硼、氮化硅或氧化硅。3.根据权利要求1或2所述的坩埚，其特征在于，所述涂层的厚度小于5微米。4.根据权利要求1
‑
3任一项所述的坩埚，其特征在于，所述涂层的面积占所述本体的所述内壁面积的30％
‑
90％；优选地，所述涂层的面积占所述本体的所述内壁面积的50％
‑
90％。5.根据权利要求1
‑
4任一项所述的坩埚，其特征在于，所述坩埚还包括开口，在沿所述开口到所述底部的方向上，所述侧部的所述内壁和所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：闵卿旭，黄永振，
申请(专利权)人：云谷固安科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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