一种有机硼化合物及含其的有机光电元件与应用制造技术

本发明专利技术提供了一种有机硼化合物及包含其的有机光电元件，特别是有机电致发光二极管，其中有机硼化合物的结构如式I所示：其中，X1至X4独立地为不存在、或独立选自单键、O、S、NR4、CR4R5、SiR4R5、O＝P

【技术实现步骤摘要】
一种有机硼化合物及含其的有机光电元件与应用


[0001]本专利技术属于有机光电
，尤其涉及一种有机硼化合物及含其的有机光电元件。

技术介绍

[0002]有机光电元件中，尤其是有机电致发光器件(OLED)、有机场效应晶体管(OFET)、有机太阳能电池(OPV)引起了众多科学家和产业界的研究。其中，OLED作为新一代的平板显示技术逐渐进入人们的视野，其广泛的应用前景和近年来技术上的突飞猛进使得OLED成为平板信息显示领域和科学研究产品开发最热门的研究之一。OLED技术在显示和照明领域的发展一直受蓝光OLED的效率和寿命的制约，高效率蓝光OLED可明显提高显示逼真性，降低显示和照明器件的功耗。尤其是蓝光OLED器件发光效率低的主要原因有两点，一、核心蓝光客体材料发光效率低；二、蓝光主体材料和客体材料之间能量传输效率低，主要是三线态激子利用率不高。

技术实现思路

[0003]为了解决现有OLED技术中存在的OLED元件电流效率低，操作电压高等问题，本专利技术的目的在于提供一种有机化合物及含有该化合物的有机光电元件，从新材料设计角度给出具有高效发光效率的有机化合物；从有机光电元件角度，明显改善有机光电器件中电荷传输平衡性好和三线态激子能量利用率高的元件结构，可以使得使用本专利技术提供的有机化合物和含有该化合物的有机光电元件，特别是OLED具有更高电流效率，低的操作电压，明显改善OLED的综合性能。
[0004]本专利技术提供了一种有机硼化合物，所述的有机硼化合物由结构式I所示：
[0005][0006]其中，X1至X4独立地为不存在、或独立选自单键、O、S、NR4、CR4R5、SiR4R5、O＝P
‑
R4、B
‑
R4中的一种；Y1至Y4独立选自碳原子、氮原子、硼原子中的一个，且至少有一个为硼原子，相邻的Y1至Y4不形成B—N、N—N、或B—B键；环CY1至环CY3为至少含有1个C的五元环或六元环；Z1至Z6为CR7或N；
[0007]但不包含满足条件(1)或条件(2)的结构式，条件(1)：同时满足CY1、CY2、CY3为苯环，Z1至Z6为CR7，X4为单键，Y1为B，Y4为N，X2、X3均不存在，X1为N
‑
取代苯基；条件(2)：同时
满足CY1、CY2、CY3为苯环，Z1至Z6为CR7，X1、X4同时为单键，X3、Y1同时为B，Y4为N，X2为不存在；
[0008]R1至R7独立选自氢、氘、CN、卤素、C1～C60烷基、C1～C60烷氧基、含C1～C60烷硅基、含C1～C60烷氧硅基、取代或未取代C6～C60的芳基、取代或未取代C1～C60的杂芳基、取代或未取代的烯基、取代或未取代的芳基醚基、取代或未取代的杂芳基醚基、取代或未取代的芳基胺基、取代或未取代的杂芳基胺基、取代或未取代的芳基硅基、取代或未取代的杂芳基硅基、取代或未取代的芳基氧硅基、取代或未取代的芳基酰基、取代或未取代的杂芳基酰基、取代或未取代的氧膦基中的任意一种；杂芳基是指含有B、N、O、S、P(＝O)、Si、P中至少一个杂原子；当R1至R7为两个或以上时，可以相同或不同，相邻的基团可以成环；n根据价键原理独立选自0，1，2，3，4，5，或6；所有基团可以被部分氘代或全氘代，可以被部分氟代或全氟代。
[0009]优选地，本专利技术要保护的有机硼化合物由I
‑
A或式I
‑
B所示的结构表示，但不代表限于此：
[0010][0011]在式I
‑
A中，X1至X4独立地为不存在、或独立选自单键、O、S、NR6、CR6R7、SiR6R7、O＝P
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R6、B
‑
R6中的一种；Y1至Y4构成独立选自碳原子、氮原子、硼原子中的一个，且至少有一个为硼原子，相邻的Y1至Y4不形成B—N、N—N、或B—B键；Z1至Z6独立选自N或CR1；Z7至Z9独立选自O、S、NR2、CR2R2、SiR2R2、O＝P
‑
R2、B
‑
R2中的一种；环CY1、CY3构成五元环或六元环；
[0012]在式I
‑
B中，X1至X4独立地为不存在、或独立选自单键、O、S、NR4、CR4R5、SiR4R5、O＝P
‑
R4、B
‑
R4中的一种；Z1至Z10独立选自N或CR1；环CY1、CY3构成五元环或六元环；式I
‑
B不包含满足条件(1)和条件(2)的结构式，条件(1)：同时满足CY1、CY2、CY3为苯环，Z1至Z6为CR7，X4为单键，Y1为B，Y4为N，X2、X3均不存在，X1为N
‑
取代苯基；
[0013]条件(2)：同时满足CY1、CY2、CY3为苯环，Z1至Z6为CR7，X1、X4同时为单键，X3、Y1同时为B，Y4为N，X2为不存在；R1至R7独立选自氢、氘、CN、卤素、C1～C60烷基、C1～C60烷氧基、含C1～C60烷硅基、含C1～C60烷氧硅基、取代或未取代C6～C60的芳基、取代或未取代C1～C60的杂芳基、取代或未取代的烯基、取代或未取代的芳基醚基、取代或未取代的杂芳基醚基、取代或未取代的芳基胺基、取代或未取代的杂芳基胺基、取代或未取代的芳基硅基、取代或未取代的杂芳基硅基、取代或未取代的芳基氧硅基、取代或未取代的芳基酰基、取代或未取代的杂芳基酰基、取代或未取代的氧膦基中的任意一种；杂芳基是指含有B、N、O、S、P(＝O)、Si、P中至少一个杂原子；当R1至R7为两个或以上时，可以相同或不同，相邻的基团可以形成稠环或并环；n根据价键原理独立选自0，1，2，3，4，5，或6；所有基团可以被部分氘代或全氘代，可以被部分氟代或全氟代。
[0014]优选地，本专利技术的有机硼化合物选自以下代表结构的一种或多种，但不代表限于
此：
[0015][0016]其中，X独立选自O、S、NR6、CR6R7、SiR6R7、O＝P
‑
R6、B
‑
R6中的一种；X1、X2、R1至R7与上述的定义相同。
[0017]优选地，本专利技术的有机硼化合物选自以下代表结构的一种或多种，但不代表限于此：
[0018][0019][0020][0021][0022][0023][0024][0025][0026][0027][0028][0029]优选地，以上系列结构式中，R1至R7独立选自以下结构的一种或多种，但不代表限于此：
[0030][0031][0032]优选地，本专利技术所述的有机硼化合物选自以下代表结构的一种，但不代表限于此：
[0033][0034][0035][0036]本专利技术还提供一种制剂，用本专利技术所述的有机硼化合物可以和至少一种溶剂或有机化合物组成。所用的有机溶剂或有机化合物没有特别限制，可以是如甲苯、二甲苯、均三甲苯、四氢化萘、十氢萘、双环己烷、正丁基苯、仲丁基苯、叔丁基苯等不饱和烃溶剂、四氯化碳、氯仿、二氯甲烷、二氯乙本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种有机硼化合物，其特征在于，所述有机硼化合物的结构如式I所示：其中，X1至X4独立地为不存在、或独立选自单键、O、S、NR4、CR4R5、SiR4R5、O＝P
‑
R4、B
‑
R4中的一种；Y1至Y4独立选自碳原子、氮原子、硼原子中的一个，且至少有一个为硼原子，相邻的Y1至Y4不形成B—N、N—N、或B—B键；环CY1至环CY3为至少含有1个C的五元环或六元环；Z1至Z6为CR7或N；但不包含满足条件(1)或条件(2)的结构式，条件(1)：同时满足CY1、CY2、CY3为苯环，Z1至Z6为CR7，X4为单键，Y1为B，Y4为N，X2、X3均不存在，X1为N
‑
取代苯基；条件(2)：同时满足CY1、CY2、CY3为苯环，Z1至Z6为CR7，X1、X4同时为单键，X3、Y1同时为B，Y4为N，X2为不存在；R1至R7独立选自氢、氘、CN、卤素、C1～C60烷基、C1～C60烷氧基、含C1～C60烷硅基、含C1～C60烷氧硅基、取代或未取代C6～C60的芳基、取代或未取代C1～C60的杂芳基、取代或未取代的烯基、取代或未取代的芳基醚基、取代或未取代的杂芳基醚基、取代或未取代的芳基胺基、取代或未取代的杂芳基胺基、取代或未取代的芳基硅基、取代或未取代的杂芳基硅基、取代或未取代的芳基氧硅基、取代或未取代的芳基酰基、取代或未取代的杂芳基酰基、取代或未取代的氧膦基中的任意一种；杂芳基是指含有B、N、O、S、P(＝O)、Si、P中至少一个杂原子；当R1至R7为两个或以上时，可以相同或不同，相邻的基团可以成环；n根据价键原理独立选自0，1，2，3，4，5，或6；所有基团可以被部分氘代或全氘代，可以被部分氟代或全氟代。2.一种有机硼化合物，其特征在于，所述有机硼化合物由式I
‑
A或式I
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B所示的结构表示：在式I
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A中，X1至X4独立地为不存在、或独立选自单键、O、S、NR6、CR6R7、SiR6R7、O＝P
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R6、B
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R6中的一种；Y1至Y4构成独立选自碳原子、氮原子、硼原子中的一个，且至少有一个为硼原子，相邻的Y1至Y4不形成B—N、N—N、或B—B键；Z1至Z6独立选自N或CR1；Z7至Z9独立选自O、S、NR2、CR2R2、SiR2R2、O＝P
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R2、B
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R2中的一种；环CY1、CY3构成五元环或六元环；在式I
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B中，X1至X4独立地为不存在、或独立选自单键、O、S、NR4、CR4R5、SiR4R5、O＝P
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R4、B
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R4中的一种；Z1至Z10独立选自N或CR1；环CY1、CY3构成五元环或六元环；式I
‑
B不包含满足条件(1)和条件(2)的结构式，条件(1)：同时满足CY1、CY2、CY3为苯环，Z1至Z6为CR7，X4为单键，Y1为B，Y4为N，X2、X3均不存在，X1为N
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取代苯基；条件(2)：同时满足CY1、CY2、CY3为苯环，Z1至Z6为CR7，X1、X4同时为单键，X3、Y1同时为B，Y4为N，X2为不存在；R1至R7独立选自...

【专利技术属性】
技术研发人员：ꢀ七四专利代理机构，
申请(专利权)人：上海弗屈尔光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：