一种异形管材内表面打磨抛光设备制造技术

本发明专利技术提供一种异形管材内表面打磨抛光设备，涉及管材内表面抛光领域，包括抛光组合体，抛光组合体两端密实，其内部设有贯穿抛光组合体两端并向外延伸的轴管；在所述轴管相对于抛光组合体向外延伸部分设置封闭组件；所述封闭组件包括圈套在所述轴管向外延伸部分的囊部件以及设置在所述囊部件内并圈套在所述轴管向外延伸部分的带孔套管；所述带孔套管表面具有多个通孔，本发明专利技术结合抛光组合体、轴管、气囊、活动板、定位板以及带孔套管等部件，旨在将设备置于异形管道后，通过注入气流至抛光组合体两侧设置的气囊内，使气囊在异形管道内膨胀，将抛光组合体所处位置划定为密闭区域，以达到对所处区域的精确抛光处理。达到对所处区域的精确抛光处理。达到对所处区域的精确抛光处理。

【技术实现步骤摘要】
一种异形管材内表面打磨抛光设备


[0001]本专利技术涉及管材内表面抛光领域，尤其涉及一种异形管材内表面打磨抛光设备。

技术介绍

[0002]抛光是指利用机械、化学或电化学的作用，使工件表面粗糙度降低，以获得光亮、平整表面的加工方法。
[0003]流体抛光是抛光大类中一个重要分支，对于流体抛光，可简述为，使用具有研磨功能的介质，于待抛光面反复摩擦接触，以达到相对应的抛光效果。流体抛光广泛应用于管材加工中，诸如常规管材或者剖面形状各异的异形管材，流体抛光均具有优质的研磨效果。
[0004]结合具体需求来看，流体抛光对于较为偏门的抛光需求，仍具有一定的有限性，即，目前流体抛光设备难以划定区域，在该划定区域内实施对应的抛光操作，例如，异形管道内壁仅有一处区域需要抛光，而目前抛光设备在实施抛光操作时，需对该管道内壁实施全面抛光，才能对所需求的区域进行相应抛光处理，即，抛光难以精确到具体某一区域的需求上，使用存在一定局限性，因此，结合以上所述，亟需一种针对异形管材内表面的任意位置进行封闭打磨抛光的抛光设备。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的在于提供一种异形管材内表面打磨抛光设备，解决目前流体抛光设备难以划定区域，在该划定区域内实施对应的抛光操作，例如，异形管道内壁仅有一处区域需要抛光，而目前抛光设备在实施抛光操作时，需对该管道内壁实施全面抛光，才能对所需求的区域进行相应抛光处理，即，抛光难以精确到具体某一区域的需求上，使用存在局限性的技术问题。
[0006]本专利技术为解决上述技术问题，采用以下技术方案来实现：一种异形管材内表面打磨抛光设备，包括抛光组合体，抛光组合体两端密实，其内部设有贯穿抛光组合体两端并向外延伸的轴管；
[0007]在所述轴管相对于抛光组合体向外延伸部分设置封闭组件；
[0008]所述封闭组件包括圈套在所述轴管向外延伸部分的囊部件以及设置在所述囊部件内并圈套在所述轴管向外延伸部分的带孔套管；
[0009]所述带孔套管表面具有多个通孔；
[0010]在所述带孔套管圈套范围内的所述轴管表面设置与多个通孔一一对应的气孔，用于所述轴管连接气泵后，通过气流沿所述气孔进入所述囊部件内，使囊部件膨胀为与异形管材剖面形状相对应的封闭体。
[0011]优选的，所述囊部件包括气囊以及分设在所述气囊两侧的活动板和定位板；
[0012]其中，所述活动板圈套在所述轴管向外延伸部分并与所述轴管向外延伸部分滑动适配，所述定位板背离所述抛光组合体与所述轴管向外延伸部分固定，使所述气囊与所述抛光组合体的间距保持不变。
[0013]优选的，所述抛光组合体包括介质筒以及以所述介质筒为轴四散在所述介质筒外围的多个开槽控制杆件；
[0014]所述介质筒为盛装研磨介质的容器；
[0015]多个所述开槽控制杆件为具有弹性的软质杆件；
[0016]多个所述开槽控制杆件未受力时始终紧贴所述介质筒表面，使所述介质筒形成封闭容器；
[0017]在所述介质筒两端安装与活动板尺寸一致的介质筒定位板；
[0018]多个所述开槽控制杆件的两端贯穿相邻介质筒定位板并较相邻介质筒定位板向外延伸。
[0019]优选的，多个所述开槽控制杆件的端部直指活动板。
[0020]优选的，在所述活动板相对侧设置圈套在轴管向外延伸部分并与轴管向外延伸部分滑动适配的磁极，磁极固定在气囊内，并且磁极与带孔套管呈正向相对布置。
[0021]优选的，在所述带孔套管的相对侧设置固定在所述定位板处的电磁部件，所述电磁部件与所述磁极磁性适配，用于改变电磁部件电流方向时，使所述磁极抵近接触带孔套管或远离带孔套管。
[0022]优选的，所述介质筒包括筒本体以及开设在筒本体平直筒壁处与所述开槽控制杆件一一对应的开槽，所述筒本体表面配置电磁构件，用于通电时，使抛光介质紧贴所述筒本体表面。
[0023]优选的，所述开槽控制杆件包括数量与所述开槽一致的托撑杆以及套接在所述托撑杆处与所述开槽开合适配的封堵杆；
[0024]在所述托撑杆两端安装插设在介质筒定位板内并与介质筒定位板滑动适配的戳杆；
[0025]所述戳杆较介质筒定位板向外延伸，用于改变电磁部件电流方向时，由所述活动板挤压或远离戳杆，使所述封堵杆抵触或远离所述开槽。
[0026]优选的，所述气囊未充气时其活动区域仅限于所述活动板和所述定位板之间所划定的区域内。
[0027]优选的，所述研磨介质为能够与磁体磁性适配的金属研磨介质。
[0028]本专利技术的有益效果是：
[0029]1.本专利技术结合抛光组合体、轴管、气囊、活动板、定位板以及带孔套管等部件，旨在将设备置于异形管道后，通过注入气流至抛光组合体两侧设置的气囊内，使气囊在异形管道内膨胀，将抛光组合体所处位置划定为密闭区域，以达到对所处区域的精确抛光处理。
[0030]2.本专利技术结合开槽控制杆件、介质筒、轴管、电磁部件、封闭组件以及介质筒定位板等部件，旨在在划定封闭区间后，利用有限的抛光介质，对封闭区域内的异形管材的内表面实施有效抛光处理。
附图说明
[0031]图1为本专利技术一种异形管材内表面打磨抛光设备的结构示意图；
[0032]图2为本专利技术中电磁构件通电且气囊向外延伸时的剖面结构示意图；
[0033]图3为本专利技术中电磁构件断电且气囊向外延伸时的剖面结构示意图；
[0034]图4为本专利技术去除气囊相关部件以及料筒后的立体结构示意图；
[0035]图5为本专利技术去除气囊相关部件后的剖面结构示意图；
[0036]图6为本专利技术中气囊以及部分电磁构件的剖面结构示意图；
[0037]图7为本专利技术A处放大结构示意图；
[0038]图8为本专利技术中研磨介质未外流时的设备剖面示意图；
[0039]图9为本专利技术中研磨介质外流时的设备剖面示意图；
[0040]附图标记：1、开槽控制杆件；11、封堵杆；12、托撑杆；13、戳杆；2、介质筒；21、开槽；22、筒本体；3、轴管；4、电磁部件；5、封闭组件；51、气囊；52、活动板；53、定位板；54、带孔套管；55、磁极；6、介质筒定位板。
具体实施方式
[0041]为了使本专利技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施例和附图，进一步阐述本专利技术，但下述实施例仅仅为本专利技术的优选实施例，并非全部。基于实施方式中的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得其它实施例，都属于本专利技术的保护范围。
[0042]下面结合附图描述本专利技术的具体实施例。
[0043]实施例1
[0044]在本实施例中提出了一种异形管材内表面打磨抛光设备，包括抛光组合体，抛光组合体两端密实，其内部设有贯穿抛光组合体两端并向外延伸的轴管3；
[0045]在轴管3相对于抛光组合体向外延伸部分设置封闭组件5；
[0046]封闭组件5包括圈套在轴管3向外本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种异形管材内表面打磨抛光设备，其特征在于，包括抛光组合体，抛光组合体两端密实，其内部设有贯穿抛光组合体两端并向外延伸的轴管；在所述轴管相对于抛光组合体向外延伸部分设置封闭组件；所述封闭组件包括圈套在所述轴管向外延伸部分的囊部件以及设置在所述囊部件内并圈套在所述轴管向外延伸部分的带孔套管；所述带孔套管表面具有多个通孔；在所述带孔套管圈套范围内的所述轴管表面设置与多个通孔一一对应的气孔，用于所述轴管连接气泵后，通过气流沿所述气孔进入所述囊部件内，使囊部件膨胀为与异形管材剖面形状相对应的封闭体。2.根据权利要求1所述的一种异形管材内表面打磨抛光设备，其特征在于：所述囊部件包括气囊以及分设在所述气囊两侧的活动板和定位板；其中，所述活动板圈套在所述轴管向外延伸部分并与所述轴管向外延伸部分滑动适配，所述定位板背离所述抛光组合体与所述轴管向外延伸部分固定，使所述气囊与所述抛光组合体的间距保持不变。3.根据权利要求1所述的一种异形管材内表面打磨抛光设备，其特征在于：所述抛光组合体包括介质筒以及以所述介质筒为轴四散在所述介质筒外围的多个开槽控制杆件；所述介质筒为盛装研磨介质的容器；多个所述开槽控制杆件为具有弹性的软质杆件；多个所述开槽控制杆件未受力时始终紧贴所述介质筒表面，使所述介质筒形成封闭容器；在所述介质筒两端安装与活动板尺寸一致的介质筒定位板；多个所述开槽控制杆件的两端贯穿相邻介质筒定位板并较相邻介质筒定位板向外延伸。4.根据权利要求3所述的一种异形管材内表面打磨抛光设备，其特征在于：多个所述开槽...

【专利技术属性】
技术研发人员：汪嵘，
申请(专利权)人：安徽中科大禹科技有限公司，
类型：发明
国别省市：