用于光源的控制系统技术方案

一种光源，包括：光生成设备，被配置为：在第一时间段期间处于活动状态，在第二时间段期间处于空闲状态，并且在第三时间段期间处于活动状态；以及控制系统。第一时间段发生在第二时间段之前，第二时间段发生在第三时间段之前。激励信号在活动状态下被施加到光生成设备，而在空闲状态下不被施加到光生成设备。该控制系统被配置为基于第二时间段的持续时间和在第一时间段期间的性质的值来估计在第三时间段期间施加到光生成设备的激励信号的性质。质。质。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于光源的控制系统
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2020年3月3日提交的题为“CONTROL SYSTEM FOR A LIGHT SOURCE”的美国申请No.62/984,433的优先权，该申请通过引用被整体并入本文中。


[0003]本公开涉及一种用于光源(例如，深紫外光源)的控制系统。

技术介绍

[0004]光刻是在诸如硅晶片的衬底上对半导体电路系统进行图案化的工艺。光学源生成用于曝光晶片上的光致抗蚀剂的深紫外(DUV)光。DUV光可以包括例如从大约100纳米(nm)到大约400nm的波长。通常，光学源是激光源(例如准分子激光器)，并且DUV光是脉冲激光束。来自光学源的DUV光与投影光学系统相互作用，该投影光学系统通过掩模将光束投影到硅晶片上的光致抗蚀剂上。以此方式，将芯片设计层图案化到光致抗蚀剂上。随后对光致抗蚀剂和晶片进行蚀刻并清洁，然后重复光刻工艺。

技术实现思路

[0005]在一个方面，一种光源包括：光生成设备，被配置为：在第一时间段期间处于活动状态，在第二时间段期间处于空闲状态，并且在第三时间段期间处于活动状态；以及控制系统。第一时间段发生在第二时间段之前，并且第二时间段发生在第三时间段之前。激励信号在活动状态下被施加到光生成设备，而在空闲状态下不被施加到光生成设备。该控制系统被配置为：基于第二时间段的持续时间和激励信号的性质在第一时间段期间的值，估计在第三时间段期间施加到光生成设备的性质。
[0006]实施方式可以包括以下特征中的一个或多个。
[0007]光生成设备可以包括：放电室，被配置为容纳气态增益介质；以及放电室中的多个电极。激励信号可以包括被施加到多个电极中的至少一个电极的电压信号，并且激励信号的性质可以包括电压信号的幅度。电压信号可以包括时变电压信号。控制系统可以包括存储器模块，该存储器模块被配置为存储表示在第一时间段中被施加到电极的电压信号的幅度的至少一个值。该性质在第一时间段期间的值可以包括在第一时间段期间被施加到电极的最小电压。控制系统可以被配置为：基于第二时间段的持续时间、在第一时间段期间被施加到电极的最小电压、以及与第一时间段相关联的自适应参数，估计在第三时间段期间施加到光生成设备的激励信号的性质。气体增益介质可以包括被配置为响应于施加到电极中的至少一个电极的电压信号而发射深紫外(DUV)光的增益介质。气态增益介质可以包括氟化氩(ArF)、氟化氪(KrF)或氯化氙(XeCl)。
[0008]控制系统还可以被配置为：基于激励信号的经估计的性质和在第三时间段期间被施加到光生成设备的激励信号的性质的实际值，确定误差度量。控制系统可以被配置为：基于误差度量，更新自适应参数的值。控制系统可以被配置为：更新多个自适应参数中的每个
自适应参数的值，并且多个自适应参数中的每个自适应参数可以与第二时间段的不同持续时间相关联。
[0009]控制系统可以被配置为：基于激励信号的经估计的性质，确定是否启动预热过程。如果预热过程被启动，则控制系统可以被配置为确定与预热过程的持续时间相关的预热过程度量。预热过程度量可以是在预热过程期间激励光生成设备的次数。
[0010]光生成设备可以包括主振荡器和功率放大器。
[0011]光生成设备可以包括单个放电室。
[0012]光生成设备可以包括多个放电室，并且放电室中的每个放电室可以被配置为朝向束组合器发射脉冲光束。
[0013]在另一方面，用于光源的控制器包括控制系统。该控制系统被配置为：访问与光源的空闲时段的持续时间有关的信息；访问与在空闲时段之前发生的时间段期间被施加到光源的激励信号的性质的值有关的信息；以及基于空闲时段的持续时间和激励信号的性质在空闲时段之前发生的时间段期间的值，估计激励信号的性质的更新值。
[0014]实施方式可以包括以下特征中的一个或多个。
[0015]控制系统可以被配置为：在空闲时段之后将具有性质的更新值的激励信号施加到光源。控制系统可以被配置为：基于性质的经估计的更新值和在空闲时段之后被施加到光生成设备的激励信号的性质的实际值，确定误差度量。控制系统可以被配置为：基于误差度量，更新自适应参数的值。控制系统可以被配置为：更新多个自适应参数中的每个自适应参数的值，多个自适应参数中的每个自适应参数与第二时间段的不同持续时间相关联。
[0016]控制系统还可以被配置为：基于性质的经估计的更新值，确定是否启动用于光源的预热过程。
[0017]控制系统可以被配置为：从计算机可读存储器模块访问与光源的空闲时段的持续时间有关的信息和与激励信号的性质在空闲时段之前发生的时间段期间的值有关的信息。
[0018]控制系统还可以包括：计算机可读存储器模块；以及被耦合到该计算机可读存储器模块的一个或多个电子处理器。
[0019]在另一方面，一种方法包括：访问与光源的空闲时段的持续时间有关的信息；访问与在空闲时段之前发生的时间段期间被施加到光源的激励信号的性质的值有关的信息；以及基于空闲时段的持续时间和激励信号的性质在空闲时段之前发生的时间段期间的值，估计激励信号的性质的更新值。
[0020]上述任何技术的实现可以包括DUV光源、系统、方法、过程、装置、或设备。在附图和以下描述中阐述了一个或多个实现的细节。根据说明书和附图以及权利要求书，其它特征将是明显的。
附图说明
[0021]图1A至图1C是光源在三个不同时间下的框图。
[0022]图2A至图2C是另一光源在三个不同时间下的框图。
[0023]图3是用于估计激励信号的性质的值的过程的流程图。
[0024]图4是用于确定是否启动预热过程的过程的流程图。
[0025]图5A是空闲时间作为时间的函数的绘图。
[0026]图5B是电压度量作为时间的函数的绘图。
[0027]图5C是被施加到第一DUV光源的电极的电压作为时间的函数的绘图。
[0028]图5D是被施加到第二DUV光源的电极的电压作为时间的函数的绘图。
[0029]图5E是误差度量作为针对图5D的第二DUV光源的空闲时间的函数的绘图。
[0030]图5F是误差度量作为针对图5D的第二DUV光源的空闲时间的函数的绘图。
[0031]图6是光刻系统的框图。
[0032]图7A是光学光刻系统的框图。
[0033]图7B是用于图7A的光学光刻系统的投影光学系统的框图。
具体实施方式
[0034]图1A至图1C中的每个图是光源100在不同时间下的框图。图1A示出了在时间t1下的光源100。图1B示出了在时间t2下的光源100。图1C示出了在时间t3下的光源100。时间t1发生在第一时间段期间，时间t2发生在第二时间段期间，并且时间t3发生在第三时间段期间。第一时间段发生在第二时间段之前，并且第二时间段发生在第三时间段之前。出于说明的目的，示出了三个时间段。然而，光源100可以工作超过三个本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种光源，包括：光生成设备，被配置为：在第一时间段期间处于活动状态，在第二时间段期间处于空闲状态，并且在第三时间段期间处于所述活动状态，所述第一时间段发生在所述第二时间段之前，并且所述第二时间段发生在所述第三时间段之前，并且其中激励信号在所述活动状态下被施加到所述光生成设备，而在所述空闲状态下不被施加到所述光生成设备；以及控制系统，被配置为：基于所述第二时间段的持续时间和所述激励信号的性质在所述第一时间段期间的值，估计在所述第三时间段期间施加到所述光生成设备的所述性质。2.根据权利要求1所述的光源，其中所述光生成设备包括：放电室，被配置为容纳气态增益介质；以及所述放电室中的多个电极，并且其中所述激励信号包括被施加到所述多个电极中的至少一个电极的电压信号，并且所述激励信号的所述性质包括所述电压信号的幅度。3.根据权利要求2所述的光源，其中所述电压信号包括时变电压信号。4.根据权利要求2所述的光源，其中所述控制系统包括存储器模块，所述存储器模块被配置为存储表示在所述第一时间段中被施加到所述电极的所述电压信号的幅度的至少一个值。5.根据权利要求2所述的光源，其中所述性质在所述第一时间段期间的值包括在所述第一时间段期间被施加到所述电极的最小电压。6.根据权利要求5所述的光源，其中所述控制系统被配置为：基于所述第二时间段的持续时间、在所述第一时间段期间被施加到所述电极的所述最小电压、以及与所述第一时间段相关联的自适应参数，估计在所述第三时间段期间施加到所述光生成设备的所述激励信号的所述性质。7.根据权利要求2所述的光源，其中所述气体增益介质包括被配置为响应于施加到所述电极中的至少一个电极的所述电压信号而发射深紫外(DUV)光的增益介质。8.根据权利要求7所述的光源，其中所述气体增益介质包括氟化氩(ArF)、氟化氪(KrF)、或氯化氙(XeCl)。9.根据权利要求1所述的光源，其中所述控制系统还被配置为：基于所述激励信号的经估计的所述性质和在所述第三时间段期间被施加到所述光生成设备的所述激励信号的所述性质的实际值，确定误差度量。10.根据权利要求9所述的光源，其中所述控制系统还被配置为：基于所述误差度量，更新自适应参数的值。11.根据权利要求10所述的光源，其中所述控制系统被配置为更新多个自适应参数中的每个自适应参数的值，并且所述多个自适应参数中的每个自适应参数与所述第二时间段的不同持续时间相关联。12.根据权利要求1所述的光源，其中所述控制系统还被配置为：基于所述激励信号的经估计的所述性质，确定是否启动预热过程。13.根据权利要求12所述的光源，其中如果...

【专利技术属性】
技术研发人员：M，
申请(专利权)人：西默有限公司，
类型：发明
国别省市：