一种金属掩膜版及其制造方法技术

本发明专利技术公开了一种金属掩膜版及其制造方法，涉及显示技术领域，其可至少部分解决现有技术中掩膜版使用张网拉力时，掩膜版主体的边框区与网面区需要不同拉力，造成网面区折角处容易出现形变，影响掩膜版成品品质的问题。本发明专利技术实施例一的一种金属掩膜版，包括具有遮挡区的掩膜版主体，所述遮挡区的顶部半蚀刻有若干间隔式设置的减重单元，单位面积的减重单元分布密度沿遮挡区顶部的中间位置往边角位置呈规律式降低。呈规律式降低。呈规律式降低。

【技术实现步骤摘要】
一种金属掩膜版及其制造方法


[0001]本专利技术涉及显示
，具体涉及一种金属掩膜版及其制造方法。

技术介绍

[0002]金属掩膜版是AMOLED产品蒸镀工艺中的主要治具之一，通过掩膜版上的开口对蒸镀区域进行限制。金属掩膜版的制作需要通过张网工艺，将金属掩膜版使用一定张网拉力张拉之后再使用激光将掩膜版焊接在框架上，以抵抗网面重力造成的网面下垂量，但张网拉力本身会使网面产生面内形变，影响网面图案的位置精度。
[0003]在以往，为了解决上述的张网形变问题，常用的做法是：在设定形变预留量时，给金属掩膜版的整条边使用同一缩率。这种情况下，如图2，由于金属掩膜版的各顶角位置不易产生拉伸形变，故在这些位置会需要使用较大的张网拉力才能使其产生预定的形变预留量，但是过大的拉力会导致金属掩膜版的网面在各角位置更易出现形变，进而影响掩膜版成品品质。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的是提供一种金属掩膜版及其制造方法，用于解决现有技术中掩膜版使用张网拉力时，掩膜版主体的边框区与网面区需要不同拉力，造成网面区折角处容易出现形变，影响掩膜版成品品质的问题。
[0005]为解决上述技术问题，本专利技术采用了以下方案：
[0006]本专利技术的一个方面提供一种金属掩膜版，包括具有遮挡区的掩膜版主体，所述遮挡区的顶部半蚀刻有若干间隔式设置的减重单元，单位面积的减重单元分布密度沿遮挡区顶部的中间位置往边角位置呈规律式降低。
[0007]可选的，所述遮挡区包括边框遮挡区，所述减重单元的分布密度沿边框遮挡区的中间位置往边框遮挡区的折角处降低。
[0008]可选的，所述边框遮挡区包括长边框遮挡区和短边框遮挡区，长边框遮挡区和短边框遮挡区构成矩形状的边框遮挡区；
[0009]长边框遮挡区的长度和宽度均大于短边框遮挡区，长边框遮挡区的减重单元分布密度沿其中间位置往长边框遮挡区的折角处降低。
[0010]可选的，所述长边框遮挡区设有两列并列设置的减重单元，两列减重单元的分布密度均沿长边框遮挡区的中间位置往其折角处降低；所述短边框遮挡区设置有至少一列减重单元。
[0011]可选的，所述遮挡区还包括设于所述边框遮挡区内的网面遮挡区，减重单元的分布密度沿网面遮挡区的中心位置往边框遮挡区降低；
[0012]网面遮挡区的减重单元的分布密度小于边框遮挡区的分布密度。
[0013]可选的，所述减重单元的分布密度规律包括但不限于以下三种：
[0014]规律一：分布密度沿所述遮挡区顶部的中间位置往边角位置均匀降低；
[0015]规律二：分布密度沿其到边角位置的重力臂距离成正比例关系；
[0016]规律三：分布密度与其分布位置遮挡区的静置下垂量呈正比例关系。
[0017]可选的，所述减重单元的分布密度均采用规律一进行分布。
[0018]可选的，所述减重单元的形状包括但不限于以下几种：圆形、椭圆形、圆环形或正多边形的孔状。
[0019]可选的，所述减重单元的结构均相同，均为圆形的盲孔。
[0020]本专利技术的另一个方面提供一种金属掩膜版的制造方法，用于制造以上任一所述的一种金属掩膜版，具体包括以下步骤：
[0021]步骤S1：在所述掩膜版主体顶部半蚀刻蒸镀区的同时，在所述遮挡区半蚀刻减重单元；
[0022]步骤S2：在步骤S1的基础上，仅蚀刻蒸镀区，直至将蒸镀区蚀刻穿。
[0023]本专利技术具有的有益效果：
[0024]本专利技术的一种金属掩膜版，包括具有遮挡区的掩膜版主体，所述遮挡区的顶部半蚀刻有若干间隔式设置的减重单元，单位面积的减重单元分布密度沿遮挡区的中间位置往边角位置呈规律式降低。
[0025]其作用是：通过在掩膜版主体的顶部半蚀刻间隔式设置的减重单元，且单位面积的减重单元沿遮挡区的中间位置往边角位置呈规律式降低，可以降低并均衡掩膜版主体遮挡区各个位置处的重力矩，从而降低掩膜版主体中间位置的网面下垂量，降低张紧掩膜版主体遮挡区各个位置所需拉力，同时，设置的减重单元可以直接破坏掩膜版主体遮挡区的整体结构，降低其结构强度，从而降低拉动其变形所需的拉力，从而缩小网面区与遮挡区的拉力差，因此，通过在掩膜版主体顶部遮挡区设置分布密度从中部到边缘逐渐降低的减重单元，可从直接降低网面下垂以及平衡拉力两个方面减少掩膜版主体网面区四个折角处的形变量，提高掩膜版的成品品质，解决现有技术中网面遮挡区各个折角处容易出现形变，影响掩膜版成品品质的问题。
附图说明
[0026]图1为现有技术中金属掩膜版的俯视结构示意图；
[0027]图2为现有技术中金属掩膜版网面张紧时的俯视结构示意图；
[0028]图3为现有技术中金属掩膜版网面静置下垂时的左视结构示意图；
[0029]图4为实施例一中金属掩膜版的俯视结构示意图；
[0030]图5为实施例二中金属掩膜版的俯视结构示意图；
[0031]图6为实施例二中遮挡区各个位置处重力矩平衡后的左视示意图；
[0032]图7为实施例二中金属掩膜版网面张紧时的俯视结构示意图；
[0033]附图标记说明：1
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掩膜版主体，11
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边框遮挡区，111
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长边框遮挡区，112
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短边框遮挡区，12
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网面遮挡区，13
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减重单元，14
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蒸镀区。
具体实施方式
[0034]下面结合实施例及附图，对本专利技术作进一步的详细说明，但本专利技术的实施方式不限于此。
[0035]在本专利技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖向”、“纵向”、“侧向”、“水平”、“内”、“外”、“前”、“后”、“顶”、“底”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该专利技术产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。
[0036]在本专利技术的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“开有”、“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。
[0037]下面通过参考附图并结合实施例来详细说明本专利技术：
[0038]实施例一：
[0039]如图4，本专利技术的一个方面提供一种金属掩膜版，包括具有遮挡区的掩膜版主体1，所述遮挡区的顶部半蚀刻有若干间隔式设置的减重单元13，单位面积的减重单元13分布密度沿遮挡区顶部的中间位置往边角位置呈规律式降低。
[0040]通过在掩膜版主体1的顶部半蚀刻本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种金属掩膜版，包括具有遮挡区的掩膜版主体(1)，其特征在于，所述遮挡区的顶部半蚀刻有若干间隔式设置的减重单元(13)，单位面积的减重单元(13)分布密度沿遮挡区顶部的中间位置往边角位置呈规律式降低。2.根据权利要求1所述的一种金属掩膜版，其特征在于，所述遮挡区包括边框遮挡区(11)，所述减重单元(13)的分布密度沿边框遮挡区(11)的中间位置往边框遮挡区(11)的折角处降低。3.根据权利要求2所述的一种金属掩膜版，其特征在于，所述边框遮挡区(11)包括长边框遮挡区(111)和短边框遮挡区(112)，长边框遮挡区(111)和短边框遮挡区(112)构成矩形状的边框遮挡区(11)；长边框遮挡区(111)的长度和宽度均大于短边框遮挡区(112)，长边框遮挡区(111)的减重单元(13)分布密度沿其中间位置往长边框遮挡区(111)的折角处降低。4.根据权利要求3所述的一种金属掩膜版，其特征在于，所述长边框遮挡区(111)设有两列并列设置的减重单元(13)，两列减重单元(13)的分布密度均沿长边框遮挡区(111)的中间位置往其折角处降低；所述短边框遮挡区(112)设置有至少一列减重单元(13)。5.根据权利要求2所述的一种金属掩膜版，其特征在于，所述遮挡区还包括设于所述边框遮挡区(11)内的网面遮挡区(12)，...

【专利技术属性】
技术研发人员：李博，刘鑫，李哲，杨凡，吴义超，
申请(专利权)人：成都拓维高科光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：