掩膜支撑结构及掩膜组件制造技术

本申请实施例提供了一种掩膜支撑结构及掩膜组件。该掩膜支撑结构包括由第一磁性材料制成的第一支撑层和由第二磁性材料制成的第二支撑层，且由于第二磁性材料的磁性小于第一磁性材料的磁性，使得完整的掩膜支撑结构不会产生过大的磁场力从而降低压伤待蒸镀基板的风险；高精度金属掩膜板包括多个子掩膜板，子掩膜板宽度小于相邻第一支撑部之间的距离，也就是子掩膜板的边缘与第一支撑部之间存储缝隙，这更有利于高精度金属掩膜的边缘进行舒展，从而使得高精度金属掩膜板边缘的褶皱能够展平，能够改善显示屏边缘材料蒸镀阴影过大引起混色等不良的问题，从而有利于提升蒸镀品质。质。质。

【技术实现步骤摘要】
掩膜支撑结构及掩膜组件


[0001]本申请涉及OLED生产
，具体而言，本申请涉及一种掩膜支撑结构及掩膜组件。

技术介绍

[0002]OLED(Organic Light
‑
Emitting Diode)显示面板具有响应时间快，可视角度大，对比度高，重量轻，功耗低等优点，是当下显示器件研究热门领域之一，并且由于其特有的柔性，应用范围越来越广泛。
[0003]制备OLED显示面板的包括多个工序，蒸镀是其中一个重要工序，蒸镀过程涉及使用永磁体磁板构件和相应的掩膜板。具体地，所使用的掩膜板是将支撑板F
‑
Mask焊接到框架(Frame)上，再将精细金属掩膜板(Fine Metal Mask，FMM)焊接到框架上以组成掩膜板。
[0004]但由于F
‑
Mask的磁性较强，受磁力作用较大，在蒸镀过程中容易产生F
‑
Mask向上凸起以及F
‑
Mask引起的FMM向上凸起的情况，这会增加压伤显示屏的风险。

技术实现思路

[0005]本申请针对现有方式的缺点，提出一种掩膜支撑结构及掩膜组件，用以解决现有技术存在的F
‑
Mask的磁性较强使得F
‑
Mask向上凸起而引起的压伤显示屏的技术问题。
[0006]第一个方面，本申请实施例提供了一种掩膜支撑结构，该掩膜支撑结构包括：
[0007]第一支撑层，多第一磁性材料制成，包括多个沿第一方向延伸的第一支撑条和沿第二方向延伸的第二支撑条；
[0008]第二支撑层，由第二磁性材料制成且位于所述第一支撑层上，包括沿所述第一方向延伸的第三支撑条和沿所述第二方向延伸的第四支撑条，所述第三支撑条在第一支撑层上的正投影位于所述第一支撑条内，所述第四支撑条在第一支撑层上的正投影位于所述第二支撑条内；
[0009]所述第二磁性材料的磁性弱于所述第一磁性材料的磁性。
[0010]可选地，所述第三支撑条包括第一支撑部和位于所述第一支撑部两侧的第二支撑部。
[0011]可选地，所述第四支撑条包括第一支撑部和位于所述第一支撑部两侧的第二支撑部，所述第一支撑部的厚度大于所述第二支撑部的厚度。
[0012]可选地，所述第一支撑条和/或所述第二支撑条靠近所述第二支撑层的一侧设置有刻蚀槽；或者所述第一支撑条和/或所述第二支撑条设置有刻蚀通孔，所述刻蚀通孔的宽度小于所述第一支撑部的宽度。
[0013]可选地，位于同一所述第三支撑条或所述第四支撑条上的所述第一支撑部与所述第二支撑部之间具有缝隙。
[0014]可选地，位于同一所述第三支撑条或所述第四支撑条上的所述第一支撑部与所述第二支撑部相连接。
[0015]可选地，所述第三支撑条包括第一支撑部和第二支撑部，所述第四支撑条仅包括第二支撑部，且所述第四支撑条所述包括第二支撑部与所述第三支撑条所包括的第二支撑部连接；或者所述第四支撑条包括第一支撑部和第二支撑部，所述第三支撑条仅包括第二支撑部，且所述第三支撑条所述包括第二支撑部与所述第四支撑条所包括的第二支撑部连接。
[0016]第二个方面，本申请实施例提供了一种掩膜组件，该掩膜组件包括：
[0017]支撑框架；
[0018]上述的掩膜支撑结构，固定在所述支撑框架上；
[0019]高精度金属掩膜板，位于第二支撑层远离第一支撑层的一侧。
[0020]可选地，所述第一支撑部与所述第二支撑部的厚度差等于所述高精度金属掩膜板的厚度。
[0021]可选地，所述第三支撑条包括第一支撑部和第二支撑部，所述第四支撑条仅包括第二支撑部，且所述第四支撑条所述包括第二支撑部与所述第三支撑条所包括的第二支撑部连接；或者所述第四支撑条包括第一支撑部和第二支撑部，所述第三支撑条仅包括第二支撑部，且所述第三支撑条所述包括第二支撑部与所述第四支撑条所包括的第二支撑部连接。
[0022]可选地，当所述第三支撑条包括所述第一支撑部和所述第二支撑部时，所述高精度金属掩膜板包括多个沿第一方向延伸的子掩膜板，则沿所述第一方向延伸的相邻所述第一支撑部之间的距离大于所述子掩膜板在与所述第一方向垂直的方向上的长度；或者
[0023]当所述第四支撑条包括所述第一支撑部和所述第二支撑部时，所述高精度金属掩膜板包括多个沿第二方向延伸的子掩膜板，则沿所述第二方向延伸的相邻所述第一支撑部之间的距离大于所述子掩膜板在与所述第二方向垂直的方向上的长度。
[0024]本申请实施例提供的技术方案带来的有益技术效果包括：
[0025](1)本申请实施例提供的掩膜支撑结构及掩膜组件中，掩膜支撑结构包括由第一磁性材料制成的第一支撑层和由第二磁性材料制成的第二支撑层，且由于第二磁性材料的磁性小于第一磁性材料的磁性，使得完整的掩膜支撑结构不会产生过大的磁场力，也就是掩膜支撑结构不容易向上凸起，从而降低压伤待蒸镀基板的风险。
[0026](2)在使用掩膜支撑结构的过程中，需要将高精度金属掩膜板安装在第二支撑部上，通过将第一支撑部的厚度设计为大于第二支撑部的厚度，能够提升包括掩膜支撑结构与高精度金属掩膜板的掩膜组件与待蒸镀基板的接触面的平坦度，从而进一步防止高精度金属掩膜板划伤待蒸镀基板。
[0027](3)高精度金属掩膜板包括多个子掩膜板，子掩膜板宽度小于相邻第一支撑部之间的距离，也就是子掩膜板的边缘与第一支撑部之间存储缝隙，这更有利于高精度金属掩膜的边缘进行舒展，从而使得高精度金属掩膜板边缘的褶皱能够展平，能够改善显示屏边缘材料蒸镀阴影过大引起混色等不良的问题。从而有利于提升蒸镀品质。
[0028]本申请附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，这些将从下面的描述中变得明显，或通过本申请的实践了解到。
附图说明
[0029]本申请上述的和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：
[0030]图1为现有技术中的一种支撑框架与支撑板的结构示意图；
[0031]图2为现有技术中的一种掩膜板的结构示意图；
[0032]图3为现有技术中的一种掩膜板因磁性作用而引起的向上凸起的结构示意图；
[0033]图4为本申请实施例提供的一种掩膜支撑结构的示意图；
[0034]图5为图4中的掩膜支撑结构沿A
‑
A线的一种截面结构示意图；
[0035]图6为图4中的掩膜支撑结构沿A
‑
A线的另一种截面结构示意图；
[0036]图7为图4中的掩膜支撑结构沿A
‑
A线的又一种截面结构示意图；
[0037]图8为图4中的掩膜支撑结构沿A
‑
A线的再一种截面结构示意图；
[0038]图9为图4中的掩膜支撑结构沿A
‑
A线的另又一种截面结构示意图；
[0039]图10为图4中的掩膜支撑结构沿A
‑...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种掩膜支撑结构，其特征在于，包括：第一支撑层，由第一磁性材料制成，包括多个沿第一方向延伸的第一支撑条和沿第二方向延伸的第二支撑条；第二支撑层，由第二磁性材料制成且位于所述第一支撑层上，包括沿所述第一方向延伸的第三支撑条和沿所述第二方向延伸的第四支撑条，所述第三支撑条在第一支撑层上的正投影位于所述第一支撑条内，所述第四支撑条在第一支撑层上的正投影位于所述第二支撑条内；所述第二磁性材料的磁性弱于所述第一磁性材料的磁性。2.根据权利要求1所述的掩膜支撑结构，其特征在于，所述第三支撑条包括第一支撑部和位于所述第一支撑部两侧的第二支撑部，或者所述第四支撑条包括第一支撑部和位于所述第一支撑部两侧的第二支撑部，所述第一支撑部的厚度大于所述第二支撑部的厚度。3.根据权利要求2所述的掩膜支撑结构，其特征在于，所述第一支撑条和/或所述第二支撑条靠近所述第二支撑层的一侧设置有刻蚀槽。4.根据权利要求2所述的掩膜支撑结构，其特征在于，所述第一支撑条和/或所述第二支撑条设置有刻蚀通孔，所述刻蚀通孔的宽度小于所述第一支撑部的宽度。5.根据权利要求2所述的掩膜支撑结构，其特征在于，位于同一所述第三支撑条或所述第四支撑条上的所述第一支撑部与所述第二支撑部之间具有缝隙。6.根据权利要求2所述的掩膜支撑结构，其特征在于，位于同一所述第三支撑条或所述第四支撑条上的所述第一支撑部与...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘佳宁，沈阔，刘华猛，关新兴，白珊珊，李彦松，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：