掩膜版及工具掩膜制造技术

本实用新型专利技术公开了一种掩膜版和工具掩膜。掩膜版包括多个像素开口，多个像素开口呈阵列排布，在初始形状下，相邻行像素开口之间的距离沿第一方向逐渐减小，第一方向与像素开口的行方向交叉。行方向交叉。行方向交叉。

【技术实现步骤摘要】
掩膜版及工具掩膜


[0001]本技术涉及但不限于显示
，尤指一种掩膜版及工具掩膜。

技术介绍

[0002]有机发光二极管(Organic Light
‑
Emitting Diode，OLED)具有功耗低、响应速度快、清晰度高、更轻薄、可视角度更大等诸多优点，是目前可实现量产的最新一代显示技术。随着OLED技术和消费者需求的进步，OLED显示产品正在从中小尺寸向大尺寸发展，出于提高玻璃利用率的考虑，需要采用更大的玻璃基板，比如8.5代线OLED的全尺寸玻璃产品。
[0003]一些技术中，OLED显示产品的制作过程中需要用到真空蒸镀技术，通过掩膜版将有机发光材料蒸镀到玻璃基板上对应的像素开口位置，常用的蒸镀方式为水平蒸镀。但在水平蒸镀时，玻璃基板和掩膜版水平放置，在重力的影响下会产生下垂的现象，影响掩膜版的像素位置对位(Pixel Position Align， PPA)精度。随着玻璃基板尺寸的增加，玻璃基板和掩膜版的下垂量也不断增大，给对位和蒸镀过程带来了极大的困难。
[0004]而垂直蒸镀技术中，蒸镀掩膜本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种掩膜版，其特征在于，包括多个像素开口，所述多个像素开口呈阵列排布，在初始形状下，相邻行像素开口之间的距离沿第一方向逐渐减小，所述第一方向与所述像素开口的行方向交叉。2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述掩膜版包括通刻区，所述多个像素开口位于所述通刻区，沿所述第一方向，所述通刻区在所述像素开口的行方向上的宽度逐渐减小。3.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述相邻行像素开口之间的距离沿第一方向逐渐减小，包括：沿所述第一方向，相邻行像素开口之间的距离呈线性关系逐渐减小。4.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述掩膜版沿在第二方向的中线呈对称结构，在沿第二方向的同一行内，所述像素开口的位置与所述中线的距离为第一距离，在所述中线两侧，同一列像素开口的所述第一距离沿所述第一方向逐行减小；所述第一方向和所述第二方向交叉。5.根据权利要求4所述的掩膜版，其特征在于，所述在所述中线两侧，同一列像素开口的所述第一距离沿所述第一方向逐行减小，包括：在所述中线两侧，同一列像素开口的所述第一距离沿所述第一方向呈线性关系逐行减小。6.根据权利要求4所述的掩膜版，其特征在于，所述掩膜版在进行垂直蒸镀时呈现蒸镀形状，在所述蒸镀形状下，在沿所述第二方向的...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴建鹏，崔宏达，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：