掩模板框架及掩模板组件制造技术

本申请提供一种掩模板框架及掩模板组件，该掩模板框架用于使掩模板张网于掩模板框架上，掩模板相对两端具有焊接部；其中，掩模板框架具有镂空部，掩模板框架用于与掩模板接触的表面包括焊接区和支撑区，支撑区位于焊接区靠近镂空部的一侧，且支撑区具有凹凸结构，以向焊接部提供阻止褶皱生成的作用力。该掩模板框架可有效防止掩模板因焊接而产生褶皱和/或褶皱向掩模板的有效蒸镀区延伸，蒸镀精度较高。蒸镀精度较高。蒸镀精度较高。

【技术实现步骤摘要】
掩模板框架及掩模板组件


[0001]本专利技术涉及显示器制造
，尤其涉及一种掩模板及掩模板组件。

技术介绍

[0002]OLED(Organic Light
‑
Emitting Diode，有机发光二级管)因其响应时间快、可视角度大、对比度高、重量轻、功耗低等优势，成为最具发展潜力的显示器件。
[0003]OLED材料的形成是通过掩模板蒸镀工艺形成的。掩模板的载体是开口的框架。目前，产线使用的框架，其上表面具有一较宽的平面，焊接上掩模板后，此平面会和掩模板表面紧密接触。
[0004]然而，在将掩模板焊接于掩模板框架上时，由于当前的焊接方式，会导致焊点附近的部分掩模板褶皱延伸至有效蒸镀区，造成掩模板有效蒸镀区与产品基板的待蒸镀区对位偏差较大，蒸镀精度较差，引起显示面板的显示不良问题，导致产品良率下降。

技术实现思路

[0005]本申请实施例提供的掩模板框架及掩模板组件，旨在解掩模板因焊接导致焊点附近的部分掩模板褶皱延伸至有效蒸镀区，造成掩模板有效蒸镀区与产品基板的待蒸镀区对位偏差较大，蒸镀精度较差，引起显示面板的显示不良的问题。
[0006]为解决上述技术问题，本申请采用的一个技术方案是：提供一种掩模板框架。该掩模板框架用于使掩模板张网于所述掩模板框架上，所述掩模板的相对两端具有焊接部；其中，所述掩模板框架具有镂空部，所述掩模板框架用于与所述掩模板接触的表面包括焊接区和支撑区，所述支撑区位于所述焊接区靠近所述镂空部的一侧，且所述支撑区具有凹凸结构，以向所述焊接部提供阻止褶皱生成的作用力。
[0007]其中，所述支撑区具有波浪形表面，以形成所述凹凸结构；所述波浪形表面的形状与所述焊接部的仿真焊接生成的褶皱形状呈镜像，用于向所述焊接部提供阻止褶皱生成的作用力；
[0008]可选地，所述波浪形表面的峰值点所在的高度，不高于所述焊接区所在的高度。
[0009]其中，所述掩模板框架包括一体成型的框架主体，所述框架主体包括相对的两个第一侧边框，且两个所述第一侧边框间隔设置，所述第一侧边框朝向所述焊接部的表面包括所述焊接区和所述支撑区。
[0010]其中，所述掩模板框架包括：
[0011]框架主体，所述框架主体包括相对的两个第一侧边框，且两个所述第一侧边框间隔设置，所述第一侧边框朝向所述焊接部的表面为所述焊接区；
[0012]承载单元，可拆卸设置于所述第一侧边框靠近所述镂空部的一侧；其中，所述承载单元朝向所述焊接部的表面为所述支撑区；
[0013]可选地，所述承载单元的材质为金属材质或硅胶材质。
[0014]其中，所述第一侧边框靠近所述镂空部的表面为平面，所述承载单元固定连接于
所述第一侧边框靠近所述镂空部的表面；或
[0015]所述第一侧边框靠近镂空部的一侧形成台阶结构，所述台阶结构具有上台阶面和下台阶面，所述上台阶面具有所述焊接区，所述承载单元设置于所述下台界面上。
[0016]其中，所述承载单元整个设置于所述下台阶面上；或，所述承载单元部分设置于所述下台阶面上，部分延伸出所述下台阶面悬空设置。
[0017]其中，所述掩模板框架具有多个阵列排布的子镂空部，一个所述掩模板对应同一列所述子镂空部设置；沿着列方向，同一列所述子镂空部的两侧分别设置一个所述承载单元。
[0018]其中，所述框架主体的外表面具有环形凸缘。
[0019]为解决上述技术问题，本申请采用的另一个技术方案是：提供一种掩模板组件。该掩模板组件包括：掩模板框架和掩模板；其中，所述掩模板框架为上述所涉及的掩模板框架；掩模板设置于所述掩模板框架上；所述掩模板的相对两端具有焊接部，所述焊接部焊接固定于所述焊接区且被所述凹凸结构支撑。
[0020]其中，所述掩模板框架为上述所涉及的掩模板框架，其包括所述框架主体和所述承载单元；多个所述掩模板并排设置于所述掩模板框架上；所述掩模板的相对两端的所述焊接部之间具有有效蒸镀区，所述承载单元与所述有效蒸镀区间隔设置。
[0021]本申请实施例提供的掩模板框架及掩模板组件，该掩模板框架具有镂空部，使得掩模板张网于掩模板框架上时，掩模板的有效蒸镀区可对位于镂空部，从而与显示基板的待蒸镀区精确对位，实现对显示基板的待蒸镀区的有效蒸镀；同时，通过使该掩模板框架用于与掩模板接触的表面包括焊接区和支撑区，使支撑区位于焊接区靠近镂空部的一侧，且使支撑区具有凹凸结构，使得该凹凸结构的多个凸起对掩模板的相对两端的焊接部具有多个支撑点，支撑点对焊接部具有较为集中的支持力和压强，从而可有效避免因焊接而产生褶皱和/或褶皱向掩模板的有效蒸镀区延伸；并且，该凹凸结构的凸起可对褶皱的凹陷具有向上的支持力，以使褶皱的凹陷舒展，凹凸结构的相邻凸起之间的凹陷可使褶皱的凸起悬空，使得褶皱的凸起因重力作用下沉，从而使得已生成的褶皱可被舒展开，进一步阻止了因焊接导致焊点附近的部分掩模板褶产生的皱延伸至有效蒸镀区，避免因褶皱造成掩模板有效蒸镀区与显示基板的待蒸镀区对位偏差较大，蒸镀精度变差，从而引起显示面板的显示不良的问题。
附图说明
[0022]图1为本申请一实施例提供的掩模板组件的俯视结构示意图；
[0023]图2为图1中掩模板组件的A
‑
A向截面示意图；
[0024]图3a为本申请一实施例中掩模板焊接部褶皱的受力状态示意图；
[0025]图3b为图3a中掩模板焊接部的褶皱被凹凸结构舒展后的状态示意图；
[0026]图4为本申请第二实施例提供的掩模板框架的截面示意图；
[0027]图5为本申请第三实施例提供的掩模板框架的截面示意图；
[0028]图6为本申请第四实施例提供的掩模板框架的截面示意图；
[0029]图7为本申请另一实施例提供的掩膜版组件的俯视结构示意图；
[0030]图8为图7中实施例提供的掩模板框架的俯视结构示意图；
[0031]图9为图7中掩模板组件的B
‑
B向截面示意图。
具体实施方式
[0032]下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本申请的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
[0033]本申请中的术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”、“第三”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。本申请的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。本申请实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后
……
)仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种掩模板框架，用于使掩模板张网于所述掩模板框架上，所述掩模板的相对两端具有焊接部；其特征在于，所述掩模板框架具有镂空部，所述掩模板框架用于与所述掩模板接触的表面包括焊接区和支撑区，所述支撑区位于所述焊接区靠近所述镂空部的一侧，且所述支撑区具有凹凸结构，以向所述焊接部提供阻止褶皱生成的作用力。2.根据权利要求1所述的掩模板框架，其特征在于，所述支撑区具有波浪形表面，以形成所述凹凸结构；所述波浪形表面的形状与所述焊接部的仿真焊接生成的褶皱形状呈镜像，用于向所述焊接部提供阻止褶皱生成的作用力；可选地，所述波浪形表面的峰值点所在的高度不高于所述焊接区所在的高度。3.根据权利要求1所述的掩模板框架，其特征在于，所述掩模板框架包括一体成型的框架主体，所述框架主体包括相对的两个第一侧边框，且两个所述第一侧边框间隔设置，所述第一侧边框朝向所述焊接部的表面包括所述焊接区和所述支撑区。4.根据权利要求1所述的掩模板框架，其特征在于，所述掩模板框架包括：框架主体，所述框架主体包括相对的两个第一侧边框，且两个所述第一侧边框间隔设置，所述第一侧边框朝向所述焊接部的表面为所述焊接区；承载单元，可拆卸设置于所述第一侧边框靠近所述镂空部的一侧；其中，所述承载单元朝向所述焊接部的表面为所述支撑区；可选地，所述承载单元的材质为金属材质或硅胶材质。5.根据权利要求4所述的掩模板框架，其特征在于，所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵莹，张磊，王盼盼，李慧，朱修剑，
申请(专利权)人：昆山国显光电有限公司，
类型：发明
国别省市：