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本实用新型公开了一种掩膜版和工具掩膜。掩膜版包括多个像素开口，多个像素开口呈阵列排布，在初始形状下，相邻行像素开口之间的距离沿第一方向逐渐减小，第一方向与像素开口的行方向交叉。行方向交叉。行方向交叉。
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该专利属于京东方科技集团股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过京东方科技集团股份有限公司授权不得商用。

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