一种真空镀膜设备的真空室及真空镀膜设备制造技术

本实用新型专利技术涉及蒸镀技术领域，尤其涉及一种真空镀膜设备的真空室及真空镀膜设备，包括真空室本体、设置在真空室本体内顶部的加热源、设置在真空室本体底部的底座以及设置在真空室本体一侧表面的密封门；所述真空室本体内底部设置载料组件，所述载料组件底部设置传动组件，所述传动组件底部设置平移组件，所述平移组件包括调节丝杆，所述调节丝杆转动设置在凹槽内，所述凹槽开设在底座内下侧面上，所述调节丝杆上设置丝母，所述丝母一端与载台连接，所述载台一端与传动组件连接，所述调节丝杆一端与位于底座一侧表面的第一电机的驱动轴连接，本实用新型专利技术能够对基片进行快速移出以及顶升，便于基片的取放，且受热均匀，镀膜厚度均匀。均匀。均匀。

【技术实现步骤摘要】
一种真空镀膜设备的真空室及真空镀膜设备


[0001]本技术涉及蒸镀
，尤其涉及一种真空镀膜设备的真空室及真空镀膜设备。

技术介绍

[0002]真空镀膜是在真空条件下，对光学零件镀膜的工艺过程；真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。针对不同的镀膜工艺，基片上方通常会有相应的高温烘烤以及相应的蒸发源等。
[0003]传统的镀膜机的真空室无法将镀膜后的基片进行快速移出，不便于对基片进行取放，同时无法对基片进行自动顶升，基片取放不便，且无法进行旋转，基片受热不均，影响镀膜厚度的均匀性。

技术实现思路

[0004]为解决
技术介绍
中存在的技术问题，本技术提出一种真空镀膜设备的真空室，包括真空室本体、设置在真空室本体内顶部的加热源、设置在真空室本体底部的底座以及设置在真空室本体一侧表面的密封门；
[0005]所述真空室本体内底部设置载料组件，所述载料组件底部设置传动组件，所述传动组件底部设置平移组件，所述平移组件包括调节丝杆，所述调节丝杆转动设置在凹槽内，所述凹槽开设在底座内下侧面上，所述调节丝杆上设置丝母，所述丝母一端与载台连接，所述载台一端与传动组件连接，所述调节丝杆一端与位于底座一侧表面的第一电机的驱动轴连接。
[0006]优选的，所述传动组件包括支撑盒，所述支撑盒设置在底座内上部，所述支撑盒上侧面上设置导套，所述支撑盒内一侧转动设置转轴，所述转轴转动设置在导套内，且转轴一端与载料组件连接，所述转轴外表面一侧设置第一齿轮，所述第一齿轮与第二齿轮啮合，所述第二齿轮设置在第二电机的驱动轴一侧，所述第二电机设置在支撑盒下表面一侧。
[0007]优选的，所述导套滑动设置在调节口内，所述调节口开设在真空室本体下侧面上。
[0008]优选的，所述导套外表面两侧对称设置导向块，所述导向块一端滑动设置在导向槽内，所述导向槽开设在调节口内两侧表面。
[0009]优选的，所述载料组件包括支撑台，所述支撑台设置在转轴上侧面上，所述支撑台上表面呈环形等距设置支撑柱，所述支撑台下侧面上设置电动推杆，所述电动推杆的活塞杆一端设置蒸镀板，所述蒸镀板上侧面呈环形等距设置蒸镀台。
[0010]优选的，所述支撑柱一端活动设置在蒸镀台中部。
[0011]一种真空镀膜设备，包括上述所述的真空室。
[0012]与现有技术相比，本技术的上述技术方案具有如下有益的技术效果：
[0013]1、本技术通过调节丝杆、丝母以及载台的设置，能够将基片快速移出真空室本体外，同时通过载料组件的设置，能够对基片进行快速顶升，便于对基片进行取放，使用
效果佳。
[0014]2、本技术通过传动组件的设置，能够带动载料组件匀速转动，提高了基片受热均匀性，保证了基片镀膜厚度均匀性。
附图说明
[0015]图1为实施例一的真空镀膜设备的真空室的结构示意图；
[0016]图2为真空镀膜设备的真空室的右视剖面结构示意图；
[0017]图3为真空镀膜设备的真空室中载料组件的右视结构示意图；
[0018]图4为真空镀膜设备的真空室中传动组件的右视结构示意图。
[0019]附图标记：1、平移组件；2、载料组件；3、加热源；4、真空室本体；5、密封门；6、底座；7、传动组件；11、第一电机；12、载台；13、丝母；14、调节丝杆；15、凹槽；16、调节口；17、导向槽；21、电动推杆；22、支撑台； 23、蒸镀板；24、支撑柱；25、蒸镀台；71、第二电机；72、第二齿轮；73、支撑盒；74、导套；75、转轴；76、第一齿轮。
具体实施方式
[0020]实施例一
[0021]如图1
‑
2所示，本技术提出的，一种真空镀膜设备的真空室，包括真空室本体4、设置在真空室本体4内顶部的加热源3、设置在真空室本体4底部的底座6以及设置在真空室本体4一侧表面的密封门5；
[0022]真空室本体4内底部设置载料组件2，载料组件2底部设置传动组件7，传动组件7底部设置平移组件1，平移组件1包括调节丝杆14，调节丝杆14转动设置在凹槽15内，凹槽15开设在底座6内下侧面上，调节丝杆14上设置丝母13，丝母13一端与载台12连接，载台12一端与传动组件7连接，调节丝杆14 一端与位于底座6一侧表面的第一电机11的驱动轴连接。
[0023]本实施例中，当需要对基片进行取放时，通过第一电动带动调节丝杆14转动，丝母13带动载台12移动，载台12带动传达组件移动，传动组件7带动载料组件2移动，载料组件2将基片移出真空室本体4外，并对基片进行取放。
[0024]实施例二
[0025]如图4所示，本技术提出的一种真空镀膜设备的真空室，相较于实施例一，本实施例还包括支撑盒73，传动组件7包括支撑盒73，支撑盒73设置在底座6内上部，支撑盒73上侧面上设置导套74，支撑盒73内一侧转动设置转轴75，转轴75转动设置在导套74内，且转轴75一端与载料组件2连接，转轴75外表面一侧设置第一齿轮76，第一齿轮76与第二齿轮72啮合，第二齿轮72设置在第二电机71的驱动轴一侧，第二电机71设置在支撑盒73下表面一侧。
[0026]本实施例中，通过第二电动带动第二齿轮72转动，第二齿轮72带动第一齿轮76转动，第一齿轮76齿轮带动转轴75转动，转轴75带动支撑台22转动，支撑台22带动蒸镀板23转动，进而带动基片转动，提高了基片受热均匀性，保证镀膜厚度均匀。
[0027]导套74滑动设置在调节口16内，调节口16开设在真空室本体4下侧面上，导套74外表面两侧对称设置导向块，导向块一端滑动设置在导向槽17内，导向槽17开设在调节口16内两侧表面，导套74移动带动导向块在导向槽17内移动，提高导套74移动的导向性
[0028]实施例三
[0029]如图3所示，本技术提出的一种真空镀膜设备的真空室，相较于实施例一或实施例二，本实施例还包括载料组件2，载料组件2包括支撑台22，支撑台22设置在转轴75上侧面上，支撑台22上表面呈环形等距设置支撑柱24，支撑台22下侧面上设置电动推杆21，电动推杆21的活塞杆一端设置蒸镀板 23，蒸镀板23上侧面呈环形等距设置蒸镀台25，支撑柱24一端活动设置在蒸镀台25中部。
[0030]本实施例中，当载料组件2移出真空室本体4外后，通过电动推杆21带动蒸镀板23移动，蒸镀板23移动带动，进而支撑柱24从蒸镀台25移出，支撑柱24将基片顶起，便于基片的取放。
[0031]一种真空镀膜设备，包括上述真空室。
[0032]上面结合附图对本技术的实施方式作了详细说明，但是本技术并不限于此，在所属
的技术人员所具备的知识范围内，在不脱离本技术宗旨的前提下还可以作出各种变化。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜设备的真空室，其特征在于，包括真空室本体(4)、设置在真空室本体(4)内顶部的加热源(3)、设置在真空室本体(4)底部的底座(6)以及设置在真空室本体(4)一侧表面的密封门(5)；所述真空室本体(4)内底部设置载料组件(2)，所述载料组件(2)底部设置传动组件(7)，所述传动组件(7)底部设置平移组件(1)，所述平移组件(1)包括调节丝杆(14)，所述调节丝杆(14)转动设置在凹槽(15)内，所述凹槽(15)开设在底座(6)内下侧面上，所述调节丝杆(14)上设置丝母(13)，所述丝母(13)一端与载台(12)连接，所述载台(12)一端与传动组件(7)连接，所述调节丝杆(14)一端与位于底座(6)一侧表面的第一电机(11)的驱动轴连接。2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜设备的真空室，其特征在于，所述传动组件(7)包括支撑盒(73)，所述支撑盒(73)设置在底座(6)内上部，所述支撑盒(73)上侧面上设置导套(74)，所述支撑盒(73)内一侧转动设置转轴(75)，所述转轴(75)转动设置在导套(74)内，且转轴(75)一端与载料组件(2)连接，所述转轴(75)外表面一侧设置第一齿轮(76)，所述第一齿轮(76)与第二齿轮(7...

【专利技术属性】
技术研发人员：吕清水，
申请(专利权)人：江西光腾微纳材料有限公司，
类型：新型
国别省市：