一种镀膜均匀的真空镀膜装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及真空镀膜技术领域，尤其涉及一种蒸镀用蒸发源装置，包括镀膜机，所述真空腔体内底部呈环形等距设置多组工位，所述工位内均设置蒸发源机构；所述蒸发源机构包括载盘以及底盘，所述底盘固定设置在冷却罩内底部，所述载盘上侧面上呈环形等距设置第一蒸发源、第二蒸发源、第三蒸发源以及第四蒸发源，所述第一蒸发源包括蒸发源环形导环，所述蒸发源环形导环与外接公用导环电性连接，且蒸发源环形导环滑动套接在外接公用导环上，所述外接公用导环设置在底盘上侧面，所述载盘底部设置用于驱动载盘转动的旋转机构，本实用新型专利技术能够对多组蒸发源的位置进行自动调节，保证镀膜持续性，提高镀膜效率，镀膜均匀性佳。镀膜均匀性佳。镀膜均匀性佳。

【技术实现步骤摘要】
一种镀膜均匀的真空镀膜装置


[0001]本技术涉及真空镀膜
，尤其涉及一种镀膜均匀的真空镀膜装置。

技术介绍

[0002]薄膜晶体管液晶显示(TFT
‑
LCD)已成为显示市场主流，新一代显示技术有源有机发光显示(AMOLED)开始产业化、AMOLED柔性显示等新型显示技术也在朝着产业化方向迈进。从彩色显像管(CRT)到TFT
‑
LCD是技术的中断和更替；从TFT
‑
LCD到AMOLED是技术的延伸和发展。TFT
‑
LCD、AMOLED等新型显示技术，它们的基础技术都是半导体技术，都可统称为半导体显示，通常的显像管在生产过程中，其需要对晶体进行蒸镀，通常使用蒸镀设备对其进行镀膜，传统的蒸镀设备仍存在各种各样的问题，难以满足实际使用需求。
[0003]如授权公告号为CN205774776U的技术所公开的一种多蒸发源镀膜装置，在所述真空镀膜室内设置有多个膜厚控制仪，其中一个所述膜厚控制仪设置在所述工件伞架的中心位置用于监控所述镀膜基片上的镀膜速率，其余的所述膜厚控制仪与所述蒸发源构成一一对应以分别监控和调节每个所述蒸发源的蒸发速率，其无法对蒸发源进行自动旋转，不便于进行快速镀膜，镀膜效率不高，镀膜均匀性不佳，为此我们提出一种蒸镀用蒸发源装置。

技术实现思路

[0004]为解决
技术介绍
中存在的技术问题，本技术提出一种镀膜均匀的真空镀膜装置，包括镀膜机以及设置在镀膜机一侧表面的密封门，所述镀膜机内设置真空腔体，所述真空腔体内底部呈环形等距设置多组工位，所述工位内均设置蒸发源机构；
[0005]所述蒸发源机构包括载盘以及底盘，所述载盘设置在底盘上侧面上，所述底盘固定设置在冷却罩内底部，所述冷却罩固定设置在工位内，所述载盘上侧面上呈环形等距设置第一蒸发源、第二蒸发源、第三蒸发源以及第四蒸发源，所述第一蒸发源、第二蒸发源、第三蒸发源以及第四蒸发源结构相同，所述第一蒸发源包括蒸发源环形导环，所述蒸发源环形导环与外接公用导环电性连接，且蒸发源环形导环滑动套接在外接公用导环上，所述外接公用导环设置在底盘上侧面，所述载盘底部设置用于驱动载盘转动的旋转机构。
[0006]优选的，所述外接公用导环包括导电区一、导电区二以及非导电区，所述导电区一与第一蒸发源中的蒸发源环形导环电性连接，所述导电区二与第二蒸发源中的蒸发源环形导环电性连接，所述第三蒸发源以及第四蒸发源中的蒸发源环形导环与非导电区相连接。
[0007]优选的，所述旋转机构包括转轴，所述转轴设置在载盘底部，且贯穿底盘并与位于镀膜机底部的调节盒转动连接，所述转轴上套接从动齿轮，所述从动齿轮与主动齿轮啮合，所述主动齿轮设置在伺服电机的驱动轴上，所述伺服电机设置在调节盒底部。
[0008]优选的，所述伺服电机通过数据线与伺服控制器相连接，所述伺服控制器设置在镀膜机一侧表面。
[0009]优选的，所述真空腔体内中部设置中心杆，所述中心杆外壁上呈环形等距设置多
组隔板，所述隔板将多组工位进行分隔。
[0010]优选的，所述镀膜机顶部设置对位机构，所述对位机构内设置第一调节架以及第二调节架，所述第一调节架内设置掩膜板，所述第二调节架内设置基板。
[0011]与现有技术相比，本技术的上述技术方案具有如下有益的技术效果：
[0012]本技术能够通过旋转机构带动载盘转动，同时使第二蒸发源、第三蒸发源以及第四蒸发源依次移动至第一蒸发源位置，能够对蒸发材料进行持续蒸镀，提高蒸镀效率，提高镀膜均匀性。
附图说明
[0013]图1为本技术的结构示意图；
[0014]图2为本技术的主视剖面结构示意图；
[0015]图3为本技术的俯视剖面结构示意图；
[0016]图4为本技术中工位的主视局部剖面结构示意图；
[0017]图5为本技术中蒸发源机构的俯视结构示意图；
[0018]图6为图5中A
‑
A部的剖面结构示意图；
[0019]图7为图6中B
‑
B部的剖面结构示意图；
[0020]图中：1、工位；2、蒸发源机构；3、膜厚检测器；4、第一调节架；5、基板；6、第二调节架；7、对位机构；8、掩膜板；9、伺服控制器；10、隔板；11、中心杆；12、密封门；13、镀膜机；21、第一蒸发源；22、第二蒸发源；23、载盘；24、第三蒸发源；25、第四蒸发源；26、蒸发源环形导环；27、外接公用导环；28、冷却罩；29、底盘；101、转轴；102、伺服电机；103、主动齿轮；104、调节盒；105、从动齿轮；271、导电区一；272、导电区二；273、非导电区。
具体实施方式
[0021]实施例一
[0022]如图1所示，本技术提出的一种镀膜均匀的真空镀膜装置，包括镀膜机13以及设置在镀膜机13一侧表面的密封门12，镀膜机13内设置真空腔体，真空腔体内底部呈环形等距设置多组工位1，工位1内均设置蒸发源机构2；
[0023]蒸发源机构2包括载盘23以及底盘29，载盘23设置在底盘29上侧面上，底盘29固定设置在冷却罩28内底部，冷却罩28固定设置在工位1内，冷却罩28内使用冷却水流动冷却，载盘23上侧面上呈环形等距设置第一蒸发源21、第二蒸发源22、第三蒸发源24以及第四蒸发源25，第一蒸发源21、第二蒸发源22、第三蒸发源24以及第四蒸发源25结构相同，第一蒸发源21包括蒸发源环形导环26，蒸发源环形导环26与外接公用导环27电性连接，且蒸发源环形导环26滑动套接在外接公用导环27上，外接公用导环27设置在底盘29上侧面，载盘23底部设置用于驱动载盘23转动的旋转机构，外接公用导环27包括导电区一271、导电区二272以及非导电区273，导电区一271与第一蒸发源21中的蒸发源环形导环26电性连接，并提供第一蒸发源21的电力输入，导电区二272与第二蒸发源22中的蒸发源环形导环26电性连接，并提供第二蒸发源22的电力输入，第三蒸发源24以及第四蒸发源25中的蒸发源环形导环26与非导电区273相连接。
[0024]本实施例中，首先第一蒸发源21上蒸发源环形导环26与导电区一271电性连接，第
一蒸发源21通电并对蒸发原料进行加热，此时第二蒸发源22上的蒸发源环形导环26与导电区二272电性连接，第二蒸发源22处于预加热状态，第三蒸发源24以及第四蒸发源25上的蒸发源环形导环26处于非导电区273，当第一蒸发源21内的蒸发原料蒸发材料消耗完后，通过旋转机构带动第二蒸发源22转动90
°
，使第二蒸发源22移动至第一蒸发源21的蒸发位置，同时第二蒸发源22上的蒸发源环形导环26移动至导电区一271，进而第二蒸发源22加热，此时第三蒸发源24上的蒸发源环形导环26移动至导电区二272，第三蒸发源24通电并进行预热，能够持续蒸镀，提高蒸镀镀膜效率，缩短蒸镀周期，提高镀膜均匀性。
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种镀膜均匀的真空镀膜装置，包括镀膜机(13)以及设置在镀膜机(13)一侧表面的密封门(12)，所述镀膜机(13)内设置真空腔体，其特征在于：所述真空腔体内底部呈环形等距设置多组工位(1)，所述工位(1)内均设置蒸发源机构(2)；所述蒸发源机构(2)包括载盘(23)以及底盘(29)，所述载盘(23)设置在底盘(29)上侧面上，所述底盘(29)固定设置在冷却罩(28)内底部，所述冷却罩(28)固定设置在工位(1)内，所述载盘(23)上侧面上呈环形等距设置第一蒸发源(21)、第二蒸发源(22)、第三蒸发源(24)以及第四蒸发源(25)，所述第一蒸发源(21)、第二蒸发源(22)、第三蒸发源(24)以及第四蒸发源(25)结构相同，所述第一蒸发源(21)包括蒸发源环形导环(26)，所述蒸发源环形导环(26)与外接公用导环(27)电性连接，且蒸发源环形导环(26)滑动套接在外接公用导环(27)上，所述外接公用导环(27)设置在底盘(29)上侧面，所述载盘(23)底部设置用于驱动载盘(23)转动的旋转机构。2.根据权利要求1所述的一种镀膜均匀的真空镀膜装置，其特征在于，所述外接公用导环(27)包括导电区一(271)、导电区二(272)以及非导电区(273)，所述导电区一(271)与第一蒸发源(21)中的蒸发源环形导环(26)电性连接，所述导电区二(272)与第二蒸发源(...

【专利技术属性】
技术研发人员：林腾光，
申请(专利权)人：江西光腾微纳材料有限公司，
类型：新型
国别省市：