一种含有液体供给系统的镀膜设备和镀膜方法技术方案

本发明专利技术公开了一种含有液体供给系统的镀膜设备，包括供给系统和真空蒸镀机，所述供给系统包括：储液瓶，其用于存储液体原料，储液瓶内部密封，在储液瓶的顶部具有进气管和出液管，进气管连接高压气源，所述进气管高于液体原料的液面，出液管淹没于液体原料的底部；第一阀门，其通过输送管道连接出液管；过滤器，其通过输送管道连接第一阀门；液体质量流量计，其通过输送管道连接过滤器；气液分离器，其通过输送管道连接液体质量流量计；第二阀门，其通过输送管道连接气液分离器和真空蒸镀机；加热装置，其布置于输送管道上，本发明专利技术可以精确控制液体流量；并且设有输送管道加热装置，可以通过加热液体，改善其流动性，适用于不同粘度的液体输送。度的液体输送。度的液体输送。

【技术实现步骤摘要】
一种含有液体供给系统的镀膜设备和镀膜方法


[0001]本专利技术属于工件镀膜
，更具体的说涉及一种含有液体供给系统的镀膜设备和镀膜方法。

技术介绍

[0002]利用液体原料给工件镀膜在工业界的应用越来越多，例如反指纹涂层。这些涂层材料，通常由含F和Si的高分子化合物构成，溶于酒精等溶剂中，室温下为液体，而且其粘度更接近油脂。因此需要针对不同粘度的液体，设计专门供液系统，将其输送至真空腔体中，作为镀膜原料，同时，又要防止在供液系统中混入气体，以避免在镀膜时产生气泡，影响涂层质量，目前尚无一能够通用的供给系统达成上述目的。

技术实现思路

[0003]针对现有技术的不足，本专利技术提供了一种可以精确控制液体流量；并且设有输送管道加热装置，可以通过加热液体，改善其流动性；该系统又设有气液分离，可以有效防止气体混入液体中，提高适用范围。
[0004]为实现上述目的，本专利技术提供了如下技术方案：一种含有液体供给系统的镀膜设备，包括供给系统和真空蒸镀机，所述供给系统包括：
[0005]储液瓶，其用于存储液体原料，储液瓶内部密封，在储液瓶的顶部具有进气管和出液管，进气管连接高压气源，所述进气管高于液体原料的液面，出液管淹没于液体原料的底部；
[0006]第一阀门，其通过输送管道连接出液管；
[0007]过滤器，其通过输送管道连接第一阀门；
[0008]液体质量流量计，其通过输送管道连接过滤器；
[0009]气液分离器，其通过输送管道连接液体质量流量计；
[0010]第二阀门，其通过输送管道连接气液分离器和真空蒸镀机；
[0011]加热装置，其布置于输送管道上。
[0012]进一步的所述储液瓶的瓶口处设置有密封盖子，所述密封盖子为具有弹性的塑料塞或胶塞，所述进气管和出液管均为硬质管。
[0013]进一步的所述储液瓶连接有升降机构，所述进气管和出液管的底端为针孔状的尖头。
[0014]进一步的所述进气管和出液管为不锈钢管。
[0015]进一步的所述加热装置包括加热带和温控装置，加热带缠绕在输送管道上，温控装置连接加热带控制加热带的温度。
[0016]进一步的所述进气管和出液管的内径为1
‑
2mm，高压气源的压力为10
‑
100PSI。
[0017]进一步的所述真空蒸镀机包括真空腔体，在真空腔体内设置有工件架，工件架连接有旋转马达，工件架下方设置有离子源和金属坩埚，金属坩埚连接有蒸发电源，所述第二
阀门通过输送管道连接至金属坩埚。
[0018]一种采用上述镀膜设备的镀膜方法，包括如下步骤：
[0019]S1，打开真空腔体的门，上载工件至工件架，关闭真空腔体的门；
[0020]S2，对真空腔体抽真空，当真空达到设定值时，转动工件架；
[0021]S3，启动离子源，对工件表面作预清洁；
[0022]S4，启动液体供给系统，通过进气管向储液瓶中通入高压惰性气体，使液体原料由出液管被挤出，液体原料依次经过第一阀门和过滤器，在过滤器处过滤可能含有的杂质，再经过液体质量流量计进行精准控制单位时间内的液体原料流量，经气液分离器将可能溶于液体原料中的气体分离出来，最后经第二阀门进入真空腔体的金属坩埚中；
[0023]S5，启动蒸发电源加热金属坩埚，使金属坩埚中的液体原料蒸发至工件表面，形成涂层；
[0024]S6，真空腔体充气至大气压，打开真空腔体的门，下载工件。
[0025]进一步的在真空腔体内还具有膜厚测量仪，在步骤S5中，膜厚测量仪实时测量蒸镀的涂层厚度，并在厚度达到指定值时，关闭蒸发电源和液体供给系统。
[0026]进一步的高压惰性气体的压力为10
‑
100PSI；液体原料的流量为40
‑
100000g/hr；蒸发电源为直流电源，其电压在0
‑
12V之间，电流在10
‑
1000A之间。
[0027]与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：通过该液体供给系统，可以精确控制液体流量；并且设有管道加热装置，可以通过加热液体，改善其流动性，并且根据不同的液体粘度，通过控制加热带的温度，即可使该液体供给系统适用于不同的液体输送；该系统又设有气液分离，可以有效防止气体混入液体中，避免产生气泡。
附图说明
[0028]图1为本专利技术含有液体供给系统的镀膜设备的结构示意图；
[0029]图2为镀膜方法的工艺流程图。
[0030]附图标记：1、进气管；2、液体原料；3、储液瓶；4、出液管；5、第一阀门；6、过滤器；7、液体质量流量计；8、加热带；9、温控装置；10、气液分离器；11、第二阀门；12、旋转马达；13、膜厚测量仪；14、工件架；15、工件；16、离子源；17、金属坩埚；18、蒸发电源。
具体实施方式
[0031]参照图1和图2对本专利技术含有液体供给系统的镀膜设备和镀膜方法的实施例做进一步说明。
[0032]在本专利技术的描述中，需要说明的是，对于方位词，如有术语“中心”，“横向(X)”、“纵向(Y)”、“竖向(Z)”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示方位和位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于叙述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定方位构造和操作，不能理解为限制本专利技术的具体保护范围。
[0033]此外，如有术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或隐含指明技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”特征可以明示或者隐含包括
一个或者多个该特征，在本专利技术描述中，“数个”、“若干”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
[0034]一种含有液体供给系统的镀膜设备，包括供给系统和真空蒸镀机，所述供给系统包括：
[0035]储液瓶3，其用于存储液体原料2，储液瓶3内部密封，在储液瓶3的顶部具有进气管1和出液管4，进气管1连接高压气源，所述进气管1高于液体原料2的液面，出液管4淹没于液体原料2的底部；
[0036]第一阀门5，其通过输送管道连接出液管4，第一阀门5便于输送管道控制、维护；
[0037]过滤器6，其通过输送管道连接第一阀门5；
[0038]液体质量流量计7，其通过输送管道连接过滤器6；
[0039]气液分离器10，其通过输送管道连接液体质量流量计7；
[0040]第二阀门11，其通过输送管道连接气液分离器10和真空蒸镀机，第二阀门11便于输送管道控制、维护，并控制液体原料2进入真空蒸镀机；
[0041]加热装置，其布置于输送管道上。
[0042]通常来说真空蒸镀机其结构可以采用与现有技术相同，具体的如图1所示，所述真空本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种含有液体供给系统的镀膜设备，包括供给系统和真空蒸镀机，其特征在于，所述供给系统包括：储液瓶，其用于存储液体原料，储液瓶内部密封，在储液瓶的顶部具有进气管和出液管，进气管连接高压气源，所述进气管高于液体原料的液面，出液管淹没于液体原料的底部；第一阀门，其通过输送管道连接出液管；过滤器，其通过输送管道连接第一阀门；液体质量流量计，其通过输送管道连接过滤器；气液分离器，其通过输送管道连接液体质量流量计；第二阀门，其通过输送管道连接气液分离器和真空蒸镀机；加热装置，其布置于输送管道上。2.根据权利要求1所述的含有液体供给系统的镀膜设备，其特征在于：所述储液瓶的瓶口处设置有密封盖子，所述密封盖子为具有弹性的塑料塞或胶塞，所述进气管和出液管均为硬质管。3.根据权利要求2所述的含有液体供给系统的镀膜设备，其特征在于：所述储液瓶连接有升降机构，所述进气管和出液管的底端为针孔状的尖头。4.根据权利要求3所述的含有液体供给系统的镀膜设备，其特征在于：所述进气管和出液管为不锈钢管。5.根据权利要求4所述的含有液体供给系统的镀膜设备，其特征在于：所述加热装置包括加热带和温控装置，加热带缠绕在输送管道上，温控装置连接加热带控制加热带的温度。6.根据权利要求5所述的含有液体供给系统的镀膜设备，其特征在于：所述进气管和出液管的内径为1
‑
2mm，高压气源的压力为10
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100PSI。7.根据权利要求6所述的含有液体供给系统的镀膜设备，其特征在于：所述真空蒸镀机包括真空腔体，在...

【专利技术属性】
技术研发人员：涂新瑶，田成龙，杨勇，唐云俊，
申请(专利权)人：浙江艾微普科技有限公司，
类型：发明
国别省市：