一种半导体设备扩散炉用冷阱制造技术

技术编号:34944838 阅读:18 留言:0更新日期:2022-09-17 12:20
本实用新型专利技术提供种半导体设备扩散炉用冷阱,用于对扩散炉中的特气进行收集;包括冷却筒1,内胆2,内冷却组件,和连接组件;所述冷却筒1,内胆2和内冷却组件依次由外至内共轴套设,通过顶部连接组件固定;连接组件,包括第二连接法兰6和内胆顶部的第一连接法兰23;所述冷却筒1上设置有进气口槽部11与设置在内胆2侧壁的进气口21配合;内胆2底部还设置有出气口22;内冷却组件,包括内冷却管3,冷却片4和冷却架5;冷却架5轴向设置;冷却架5顶部轴向设置有冷却管3;冷却管3贯穿冷却架5正上方的第二连接法兰6设置;本实用新型专利技术的有益效果:冷阱可实现尾气的冷凝,收集,环保;有助于提高尾气收集,减少排放。减少排放。减少排放。

【技术实现步骤摘要】
一种半导体设备扩散炉用冷阱


[0001]本技术主要涉及半导体设备
,尤其涉及一种半导体设备扩散炉用冷阱。

技术介绍

[0002]随着半导体行业的飞速发展,节能减排刻不容缓,环境要求越来越高,在晶圆生产环节中,扩散炉是一个非常关键的环节,扩散炉经常使用特气,而特气固有一部分不被完全使用,冷阱又是收集多余特气的组件,国内目前的半导体行业扩散炉所使用的冷阱(trap)冷却效率差,残留少,流入尾排多,洁净效率差。

技术实现思路

[0003]针对现有技术的上述缺陷,本技术提供一种半导体设备扩散炉用冷阱,用于对扩散炉中的特气进行收集。
[0004]本技术提供一种半导体设备扩散炉用冷阱,包括冷却筒1,内胆2,内冷却组件,和连接组件;
[0005]所述冷却筒1,内胆2和内冷却组件依次由外至内共轴套设,通过顶部连接组件固定;
[0006]连接组件,包括第二连接法兰6和内胆顶部的第一连接法兰23;
[0007]所述冷却筒1上设置有进气口槽部11与设置在内胆2侧壁的进气口21配合;内胆2底部还设置有出气口22;
[0008]内冷却组件,包括内冷却管3,冷却片4和冷却架5;冷却架5 轴向设置;冷却架5顶部轴向设置有内冷却管3;内冷却管3贯穿冷却架5正上方的第二连接法兰6设置;
[0009]所述冷却片4设置有多个,沿轴向水平设置在冷却架5上。
[0010]优选的,所述进气口槽部11设置在冷却筒1的顶部侧壁;为轴向向上的方形开口设置。
[0011]优选的,所述冷却片4呈半圆设置,每组冷却片4水平对称有两片,对称设置在冷却架5的两侧。
[0012]优选的,所述冷却片4上还设置有通气孔。
[0013]优选的,所述通气孔包括大通气孔和小通气孔;所述大通气孔和小通气孔交替排列设置在所述冷却片4上。方便特殊气体自上而下排出。
[0014]优选的,所述内胆2的顶部径向想外延伸处第一连接法兰23;所述第一连接法兰23和第二连接法兰6贴合设置。
[0015]优选的,所述冷却筒1顶部设置有与第一连接法兰23和第二连接法兰6配合的固定孔。
[0016]本技术的有益效果:冷阱可实现尾气的冷凝,收集,环保;有助于提高尾气收集,减少排放。
附图说明
[0017]图1为本技术结构示意图;
[0018]图2为本技术拆分图;
[0019]图中,
[0020]1、冷却筒,11进气口槽部;2、内胆,21、进气口,22、出气口, 23、第一连接法兰;3、内冷却管;4、冷却片;5、冷却架;6、第二连接法兰。
具体实施方式
[0021]下面结合附图对本实用进行详细描述,本部分的描述仅是示范性和解释性,不应对本技术的保护范围有任何的限制作用。
[0022]本技术提供一种半导体设备扩散炉用冷阱,包括冷却筒1,内胆2,内冷却组件,和连接组件;
[0023]所述冷却筒1,内胆2和内冷却组件依次由外至内共轴套设,通过顶部连接组件固定;
[0024]连接组件,包括第二连接法兰6和内胆顶部的第一连接法兰23;
[0025]所述冷却筒1上设置有进气口槽部11与设置在内胆2侧壁的进气口21配合;进气口槽部11设置在冷却筒1的顶部侧壁;为轴向向上的方形开口设置。内胆2底部还设置有出气口22;内胆2的顶部径向想外延伸处第一连接法兰23;所述第一连接法兰23和第二连接法兰6贴合设置。冷却筒1顶部设置有与第一连接法兰23和第二连接法兰6配合的固定孔。
[0026]内冷却组件,包括内冷却管3,冷却片4和冷却架5;冷却架5 轴向设置;冷却架5顶部轴向设置有内冷却管3;内冷却管3贯穿冷却架5正上方的第二连接法兰6设置;
[0027]所述冷却片4设置有多个,沿轴向水平设置在冷却架5上。冷却片4呈半圆设置,每组冷却片4水平对称有两片,对称设置在冷却架5的两侧。冷却片4上还设置有通气孔。通气孔包括大通气孔和小通气孔;所述大通气孔和小通气孔交替排列设置在所述冷却片4上。方便特殊气体自上而下排出。
[0028]高温特殊气体通过进气口21进入冷却内胆2内,与冷却片4接触,受到冷却后,特殊气体内的一些杂质会附着在冷却片上,以此对特殊气体内的杂质进行回收,而气体部分自内胆下方的排气口22排出。
[0029]需要说明的是,术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本技术和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本技术的限制。此外,术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
[0030]以上所述的本技术实施方式,并不构成对本技术保护范围的限定。任何在本技术的精神和原则之内所作的修改、等同替换和改进等,均应包含在本技术的权利要求保护范围之内。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种半导体设备扩散炉用冷阱,包括冷却筒(1),内胆(2),内冷却组件,和连接组件;其特征在于,所述冷却筒(1),内胆(2)和内冷却组件依次由外至内共轴套设,通过顶部连接组件固定;连接组件,包括第二连接法兰(6)和内胆顶部的第一连接法兰(23);所述冷却筒(1)上设置有进气口槽部(11)与设置在内胆(2)侧壁的进气口(21)配合;内胆(2)底部还设置有出气口(22);内冷却组件,包括内冷却管(3),冷却片(4)和冷却架(5);冷却架(5)轴向设置;冷却架(5)顶部轴向设置有内冷却管(3);内冷却管(3)贯穿冷却架(5)正上方的第二连接法兰(6)设置;所述冷却片(4)设置有多个,沿轴向水平设置在冷却架(5)上。2.根据权利要求1所述的半导体设备扩散炉用冷阱,其特征在于:所述进气口槽部(11)设置在冷却筒(1)的顶部侧壁;为轴向向...

【专利技术属性】
技术研发人员:程宪良
申请(专利权)人:无锡诺莱德智能科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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