一种钼合金靶材及其制备方法和应用技术

本发明专利技术涉及稀有金属和粉末冶金技术领域，具体涉及一种钼合金靶材及其制备方法和应用，以质量百分数计，所述靶材包括10～30％的Ni，5～25％的Ti和0.5～5％的Re，余量为Mo和不可避免的杂质，且Mo的质量百分比≥50％。本发明专利技术在钼合金中加特定量的铼后，可以细化晶粒尺寸，使晶粒更均匀，降低材料脆性，增加塑韧性，提高变形加工能力，使得到的坯料可以进行轧制工序从而得到不同形状或大尺寸的靶材，作为靶材制备膜层时膜层厚度更均匀，溅射速度更快。溅射速度更快。溅射速度更快。

【技术实现步骤摘要】
一种钼合金靶材及其制备方法和应用


[0001]本专利技术涉及稀有金属和粉末冶金
，具体涉及一种钼合金靶材及其制备方法和应用。

技术介绍

[0002]液晶显示器、显示面板等平面显示装置的技术升级换代需求，需要配线膜的低电阻化。同时，平板显示器的大画面、高精细度、高速响应化，以及柔性面板的大型化，也要求较低的膜电阻水平。
[0003]薄膜晶体管(TFT)作为显示面板的驱动元件，使用Al或Cu作为主配线材料。但是如果Al或Cu与Si直接接触，会在制备过程中由于热加工形成热扩散，使得薄膜晶体管性能恶化。Mo及Mo
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Nb、Mo
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Ti等钼合金具有较好的耐腐蚀性、耐热性，与基板的密合性较好。但是在制备过程中，基板上形成层叠配线膜后，有时会长时间放置于大气中。在显示面板安装信号电缆时，有时需在大气中加热，而且在使用氧化物的半导体薄膜中，为实现提高性能和稳定化，需要在有氧环境下加热处理，因此增强耐氧化性的需求很强烈。另外，便携性的轻型、柔性显示面板使用的树脂膜与玻璃基板相比，具有透湿性，需要层叠配线膜具有较高本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种钼合金靶材，以质量百分数计，所述靶材包括10％～30％的Ni，5％～25％的Ti和0.5％～5％的Re，余量为Mo和不可避免的杂质，且Mo的质量百分比≥50％。2.如权利要求1所述的钼合金靶材，其特征在于，以质量百分数计，所述靶材还包括0.01％
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15％的M，所述M为Cr、Zr、Ta、Nb中的至少一种，所述M用于替代部分Ti。3.如权利要求1或2所述的钼合金靶材，其特征在于，以质量百分数计，所述靶材包括15％～25％的Ni，10％～20％的Ti、1％～5％的Re，0％
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5％的M，余量为Mo和不可避免的杂质，且Mo的质量百分比≥50％。4.如权利要求1
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3任一项所述钼合金靶材的制备方法，包括如下步骤：(1)配制原料：按照权利要求1
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3任一项所述靶材成分质量比例称取原料进行混合，得到混合粉末；(2)热等静压：将步骤(1)中的混合粉末装入包套，进行热等静压，得到带包套的热压坯体；(3)热轧：对带包套的热压坯体进行热轧处理得到轧件；(4)退火：对轧件进行退火处理，得到所述钼合金靶材。5.如权利要求4所述的钼合金靶材的制备方法，其特征在于，所述靶材中成分Mo的原料为纯度≥3N5的钼粉，其费氏粒度范围优选为2.5μm～4μm；优选地，所述靶材中成分Ni的原料为纯度≥3N的镍粉，其费氏粒度范围优选为2μm～3μm；优选地，所述靶材中成分Ti的原料为纯度≥3N的钛粉，其费氏粒度范围优选为2μm～4μm；优选地，所述靶材成分Re的原料为铼粉或铼酸铵，所述铼粉的纯度≥4N、费氏粒度优选为2μm～4μm，所述铼酸铵的纯度≥4N、粒度优选为150目～350目。6.如权利要求4所述的钼合金靶材的制备方法，其特征在于，当靶材成分Re的原料为铼酸铵时，步骤(1)中称取原料后，先取原料钼粉中的一部分和铼酸铵混合，然后经过还原处理得到钼铼合金粉末，再将钼铼合金粉末与剩余钼粉及其他原料进行混合得到混合粉末；优选地，所述还原处理在氢气气氛中进行，所述还原处理的温度为500℃～900℃，所述还原处理的时间为2h～8h；优选地，所述钼铼合金粉末中，钼铼质量比例为95:5～50:50；优选地，步骤(1)中，所述混合的方式为球磨，所述球磨的球料比为1：(0.5
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2)，优选为1:1；优选...

【专利技术属性】
技术研发人员：王广达，熊宁，弓艳飞，牛曼，杨亚杰，季鹏飞，李强，李旺，王凤权，
申请(专利权)人：安泰天龙北京钨钼科技有限公司安泰科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：