一种镀膜挡板制造技术

本实用新型专利技术公开了一种镀膜挡板，安装在镀膜腔体内的转架上，所述转架上沿同一圆周设置有多个镀膜杆位，每个镀膜杆位上放置有一个镀膜杆；每个镀膜杆位上设置有一个所述镀膜挡板，所述镀膜挡板呈一端开口的长条形罩体形状，每个镀膜挡板罩在相应的镀膜杆的外部，所述镀膜挡板的开口端朝向所述转架的径向外侧延伸，且随着转架的旋转，每个镀膜挡板绕经靶材时该镀膜挡板的开口端正对靶面。本实用新型专利技术的镀膜挡板，可以有效控制靶材粒子入射沉积的方向，有效控制膜厚，提高膜层均匀性，提高沉积膜层的质量。膜层的质量。膜层的质量。

【技术实现步骤摘要】
一种镀膜挡板


[0001]本技术涉及一种镀膜挡板，属于PVD镀膜领域。

技术介绍

[0002]请参阅图1和图2，在镀膜设备的镀膜腔体内有一个大型转架1'，转架1'上沿同一圆周设置有多个镀膜杆位11'，用于放置镀膜杆2'，镀膜杆2'上装夹被镀工件。这类转架1'上，杆与杆之间连通无遮蔽。
[0003]在镀膜过程中，转架旋转带动被镀工件在镀膜腔体内旋转，旋转的工件绕经靶材附近时，靶材粒子沉积到工件表面进行镀膜。该镀膜方式存在的缺陷是，绕经靶材附近时，即接近和远离靶材的过程，工件一直暴露在靶材溅射范围，这样沉积在工件表面的膜层的膜厚无法精准控制，膜厚不均匀；与此同时，不同方向、不同距离入射沉积的膜层质量也会存在问题。如溅射空间存在的绕镀现象导致膜层厚度不均、膜层结合力差等问题。对膜厚、膜层质量有严格要求的膜层，使用该转架镀出来的该膜层将无法满足要求。以光学类膜层为例，膜厚不均匀将导致膜层的反射率、折射率等产生显著差别，从而在功能上、颜色上产生巨大差别，难以满足应用要求。

技术实现思路

[0004]本技术的目的是克服现有技术的缺陷，提供一种镀膜挡板，可以有效控制靶材粒子入射沉积的方向，有效控制膜厚，提高膜层均匀性，提高沉积膜层的质量。
[0005]实现上述目的的技术方案是：一种镀膜挡板，安装在镀膜腔体内的转架上，所述转架上沿同一圆周设置有多个镀膜杆位，每个镀膜杆位上放置有一个镀膜杆；其特征在于，每个镀膜杆位上设置有一个所述镀膜挡板，所述镀膜挡板呈一端开口的长条形罩体形状，每个镀膜挡板罩在相应的镀膜杆的外部，所述镀膜挡板的开口端朝向所述转架的径向外侧延伸，且随着转架的旋转，每个镀膜挡板绕经靶材时该镀膜挡板的开口端正对靶面。
[0006]上述的一种镀膜挡板，其中，所述镀膜挡板的横截面的形状包括但不限于矩形、梯形、半圆形、V形或U形。
[0007]上述的一种镀膜挡板，其中，多个镀膜杆位上的所有镀膜挡板的非开口端连接在一起，所有镀膜挡板构成一体成型结构。
[0008]上述的一种镀膜挡板，其中，所有镀膜挡板之间相互独立。
[0009]上述的一种镀膜挡板，其中，每个所述镀膜挡板沿长度方向采用可伸缩结构。
[0010]上述的一种镀膜挡板，其中，所有镀膜挡板沿同一圆周设置。
[0011]本技术的镀膜挡板，可以有效控制靶材粒子入射沉积的方向，有效控制膜厚，提高膜层均匀性，提高沉积膜层的质量。
附图说明
[0012]图1为现有技术中的镀膜腔体内的转架的结构图；
[0013]图2为现有技术中的镀膜腔体内的转架的使用状态图；
[0014]图3为实施例一的镀膜挡板的结构图；
[0015]图4为实施例一的镀膜挡板的使用状态图；
[0016]图5为实施例二的镀膜挡板的结构图；
[0017]图6为实施例二的镀膜挡板的使用状态图；
[0018]图7为实施例三镀膜挡板的结构图；
[0019]图8为实施例三的镀膜挡板的使用状态图；
[0020]图9为实施例四的镀膜挡板的结构图；
[0021]图10为实施例四的镀膜挡板的使用状态图。
具体实施方式
[0022]为了使本
的技术人员能更好地理解本技术的技术方案，下面结合附图对其具体实施方式进行详细地说明：
[0023]实施例一：
[0024]请参阅图3和图4，一种镀膜挡板3，安装在镀膜腔体内的转架1上，转架1上沿同一圆周设置有多个镀膜杆位11，每个镀膜杆位11上放置有一个镀膜杆2；每个镀膜杆位1上设置有一个镀膜挡板3，镀膜挡板3呈一端开口的长条形罩体形状，每个镀膜挡板3罩在相应的镀膜杆2的外部，镀膜挡板3的开口端朝向转架1的径向外侧延伸，且随着转架1的旋转，每个镀膜挡板3绕经靶材时该镀膜挡板3的开口端正对靶面。
[0025]每个镀膜挡板3为独立的结构，镀膜挡板3的横截面呈V形。所有镀膜挡板3沿同一圆周设置。镀膜挡板3的具体尺寸可以配合转架尺寸(半径、高度等)以及镀膜夹具尺寸进行设计。
[0026]实施例二(独立梯形挡板)：
[0027]请参阅图5和图6，一种镀膜挡板3，与实施例一的区别在于，镀膜挡板3的横截面呈梯形，镀膜挡板3的开口端为梯形的下底位置。所有镀膜挡板3之间相互独立。
[0028]实施例三(一体梯形挡板)：
[0029]请参阅图7和图8，一种镀膜挡板3，镀膜挡板3的横截面呈梯形，与实施例二的区别在于，多个镀膜杆位上的所有镀膜挡板3的非开口端连接在一起，即所有镀膜挡板3的相邻的腰重合，这样，所有的镀膜挡板3构成一体成型结构，形成一个一体挡板，更方便安装。
[0030]实施例四：
[0031]请参阅图9和图10，一种镀膜挡板3，镀膜挡板3的横截面呈U形。
[0032]本技术的镀膜挡板，镀膜挡板的横截面还可以呈矩形或半圆形。镀膜挡板沿长度方向采用可伸缩结构，方便适用不同装夹方式的、不同产品的镀膜需求。
[0033]镀膜杆位的数量，在实施例示图中都是展示的10个，但并非限定；镀膜杆位的数量是根据实际产品装夹需求，转架尺寸等因素设置的。
[0034]本技术的镀膜挡板，随着转架1的旋转，每个镀膜挡板3绕经靶材时该镀膜挡板3的开口端正对靶面，这样，在使用时，可以挡住其他方向入射的靶材粒子，即镀膜杆及其上的工件只有在旋转到正向面对靶面时，才会沉积膜层。在接近和远离靶材的过程，工件不会一直暴露在靶材溅射范围，这种方式，可以使得工件表面的膜层膜厚得到更加有效的控
制，膜层均匀性得到极大提高；同时，遮挡大入射角度、远距离较低能量的入射粒子，沉积的膜层质量得到极大提高。
[0035]综上所述，本技术的镀膜挡板，可以有效控制靶材粒子入射沉积的方向，有效控制膜厚，提高膜层均匀性，提高沉积膜层的质量。
[0036]本
中的普通技术人员应当认识到，以上的实施例仅是用来说明本技术，而并非用作为对本技术的限定，只要在本技术的实质精神范围内，对以上所述实施例的变化、变型都将落在本技术的权利要求书范围内。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种镀膜挡板，安装在镀膜腔体内的转架上，所述转架上沿同一圆周设置有多个镀膜杆位，每个镀膜杆位上放置有一个镀膜杆；其特征在于，每个镀膜杆位上设置有一个所述镀膜挡板，所述镀膜挡板呈一端开口的长条形罩体形状，每个镀膜挡板罩在相应的镀膜杆的外部，所述镀膜挡板的开口端朝向所述转架的径向外侧延伸，且随着转架的旋转，每个镀膜挡板绕经靶材时该镀膜挡板的开口端正对靶面。2.根据权利要求1所述的一种镀膜挡板，其特征在于，所述镀膜挡板的横截面的形状...

【专利技术属性】
技术研发人员：唐智，
申请(专利权)人：纳峰真空镀膜上海有限公司，
类型：新型
国别省市：