一种镀膜挡板制造技术

本实用新型专利技术公开了一种镀膜挡板，安装在镀膜腔体内的转架上，所述转架上沿同一圆周设置有多个镀膜杆位，每个镀膜杆位上放置有一个镀膜杆；每个镀膜杆位上设置有一个所述镀膜挡板，所述镀膜挡板呈一端开口的长条形罩体形状，每个镀膜挡板罩在相应的镀膜杆的外部，所述镀膜挡板的开口端朝向所述转架的径向外侧延伸，且随着转架的旋转，每个镀膜挡板绕经靶材时该镀膜挡板的开口端正对靶面。本实用新型专利技术的镀膜挡板，可以有效控制靶材粒子入射沉积的方向，有效控制膜厚，提高膜层均匀性，提高沉积膜层的质量。膜层的质量。膜层的质量。

【技术实现步骤摘要】
一种镀膜挡板


[0001]本技术涉及一种镀膜挡板，属于PVD镀膜领域。

技术介绍

[0002]请参阅图1和图2，在镀膜设备的镀膜腔体内有一个大型转架1'，转架1'上沿同一圆周设置有多个镀膜杆位11'，用于放置镀膜杆2'，镀膜杆2'上装夹被镀工件。这类转架1'上，杆与杆之间连通无遮蔽。
[0003]在镀膜过程中，转架旋转带动被镀工件在镀膜腔体内旋转，旋转的工件绕经靶材附近时，靶材粒子沉积到工件表面进行镀膜。该镀膜方式存在的缺陷是，绕经靶材附近时，即接近和远离靶材的过程，工件一直暴露在靶材溅射范围，这样沉积在工件表面的膜层的膜厚无法精准控制，膜厚不均匀；与此同时，不同方向、不同距离入射沉积的膜层质量也会存在问题。如溅射空间存在的绕镀现象导致膜层厚度不均、膜层结合力差等问题。对膜厚、膜层质量有严格要求的膜层，使用该转架镀出来的该膜层将无法满足要求。以光学类膜层为例，膜厚不均匀将导致膜层的反射率、折射率等产生显著差别，从而在功能上、颜色上产生巨大差别，难以满足应用要求。

技术实现思路

[0004]本技术的目的是克服现有技术的缺陷，提本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种镀膜挡板，安装在镀膜腔体内的转架上，所述转架上沿同一圆周设置有多个镀膜杆位，每个镀膜杆位上放置有一个镀膜杆；其特征在于，每个镀膜杆位上设置有一个所述镀膜挡板，所述镀膜挡板呈一端开口的长条形罩体形状，每个镀膜挡板罩在相应的镀膜杆的外部，所述镀膜挡板的开口端朝向所述转架的径向外侧延伸，且随着转架的旋转，每个镀膜挡板绕经靶材时该镀膜挡板的开口端正对靶面。2.根据权利要求1所述的一种镀膜挡板，其特征在于，所述镀膜挡板的横截面的形状...

【专利技术属性】
技术研发人员：唐智，
申请(专利权)人：纳峰真空镀膜上海有限公司，
类型：新型
国别省市：