监视一种工业设备运行状态的装置和方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种用于监视一工业设备３运行状态的装置，该设备３包括功能部件５，所述装置１包括检测设备３运行状态的检测器Ｄ↓［１，１］，…Ｄ↓［ｎ，ｊ］的组Ｇ↓［１］，Ｇ↓［２］，…Ｇ↓［ｎ］，每一组检测器负责监视一特定方面，还包括一显示单元１１，该单元包括传输由所述检测器Ｄ↓［１，１］，…Ｄ↓［ｎ，ｊ］接收到的运行状态的装置１３。该装置包括布置在所述检测器Ｄ↓［１，１］，…Ｄ↓［ｎ，ｊ］和显示单元１１之间用于处理由所述检测器Ｄ↓［１，１］，…Ｄ↓［ｎ，ｊ］接收到的运行状态并控制在所述的显示单元１１上有选择地显示预定的检测器Ｄ↓［１，１］，…Ｄ↓［ｎ，ｊ］的组Ｇ↓［１］，Ｇ↓［２］…Ｇ↓［ｎ］的整体运行状态信息的装置１５。（*该技术在2018年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及用于监视一工业设备的运行状态的一装置和一方法，该设备特别是指一用于向微电子工业中的电路制造提供气体的设备。微电子电路的制造需要使用各种所谓的“工作”气体，比如Cl2,NH3,HCl,HBr,NF3或WF6等，其中的大部分由于具有毒性和/或可燃性，对人类是有害的。这些气体由一整套设备向用户工作站比如微电子电路的制造工厂提供，用于向这些工作站提供气体的设备包括对于每一种气体都有至少一提供气体的装置，也称为“气体柜”，还可能有一用于配给来自于一供给装置的该气体进而可以同时向多个制造厂提供该气体的装置。由于所使用的气体具有毒性，监视这样一供给设备的运行状态是必要的。具体地说，在出现设备故障的情况下，快速识别故障性质和位置，在故障尚未导致材料损失甚至人员伤亡之前采取必要的防范措施。这就是为什么这样的设备要装备有一监视其运行状态的装置，该装置一方面包括检测设备的运行状态的检测器组特别是检测每一个用于供给和配给气体的工作站，每一组检测器负责监视一特定的方面，比如监视气体泄漏或监视一特定工作站的运行状态，另一方面包括一显示单元，此显示单元包括运行状态的信息通信装置以便可以负责发出本文档来自技高网...

【技术保护点】
用于监视一工业设备（３）特别是用于为微电子工业中的电路制造提供气体的设备运行状态的装置，所述设备包括功能部件（５），所述装置（１）包括检测每一个功能部件（５）的运行状态的检测器（Ｄ↓［１，１］，…Ｄ↓［ｎ，ｐ］）的组（Ｇ↓［１］，Ｇ↓［２］，…Ｇ↓［ｎ］），每一组检测器（Ｇ↓［１］，Ｇ↓［２］，…Ｇ↓［ｎ］）负责检测需要被监视的一特定方面，比如监视气体的泄漏或监视一功能部件（５）的运行状态，还包括一显示单元（１１），该显示单元包括由所述检测器（Ｄ↓［１，１］，…Ｄ↓［ｎ，ｐ］）接收到的运行状态的信息通信装置（１３），其特征在于：它包括布置在所述检测器（Ｄ↓［１，１］，…Ｄ↓［ｎ，ｐ］）和显示单...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：安德列沙旺，
申请(专利权)人：阿尔卑斯自动化系统公司，
类型：发明
国别省市：FR[法国]