一种半导体碱蚀刻的烘干装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种半导体碱蚀刻的烘干装置，其结构包括烘箱，其结构还包括热风机，烘箱的顶部设有活动槽，活动槽上设有产品伸入口，活动槽上设有可滑动的封闭板，封闭板的活动方向靠近或者远离产品伸入口，烘箱内部的底部设有可转动的顶轴，顶轴位于产品伸入口的正下方，烘箱的底部设有废液出口，废液出口上设有关断阀，烘箱的侧面从上到下开设有若干进气喷嘴，热风机的出风口上设有进气总管，若干进气喷嘴一一连通在进气总管上，烘箱的内部设有弧形板，弧形板的弧形开口朝向进气喷嘴，产品伸入口和顶轴的连接线位于进气喷嘴和弧形板之间，本实用新型专利技术提高了半导体的烘干效率。本实用新型专利技术提高了半导体的烘干效率。本实用新型专利技术提高了半导体的烘干效率。

【技术实现步骤摘要】
一种半导体碱蚀刻的烘干装置
[0001]
：
[0002]本技术涉及一种半导体的碱蚀刻
，尤其是一种半导体碱蚀刻的烘干装置。
[0003]
技术介绍
：
[0004]半导体在蚀刻完成后，半导体上会沾满了酸洗液、水渍等，需要进行清洗，产品在多次清洗后器表面会残留一定的水，因此需在蚀刻产品清洗后设置一烘干机进行烘干。
[0005]目前，半导体蚀刻机的烘干装置普遍比较简单，在半导体的烘干过程中，用于烘干的热量容易扩散，需要持续供给热量，不仅烘干效率低，而且浪费能源。
[0006]
技术实现思路
：
[0007]本技术的目的提供一种半导体碱蚀刻的烘干装置，解决上述现有技术问题中的一个或者多个。
[0008]为解决上述技术问题，本技术提供一种半导体碱蚀刻的烘干装置，其结构包括烘箱，其创新点在于：其结构还包括热风机，烘箱的顶部设有活动槽，活动槽上设有产品伸入口，活动槽上设有可滑动的封闭板，封闭板的活动方向靠近或者远离产品伸入口，烘箱内部的底部设有可转动的顶轴，顶轴位于产品伸入口的正下方，烘箱的底部设有废液出口，废液出口上设有关断阀，烘箱的侧面从上到下开设有若干进气喷嘴，热风机的出风口上设有进气总管，若干进气喷嘴一一连通在进气总管上，烘箱的内部设有弧形板，弧形板的弧形开口朝向进气喷嘴，产品伸入口和顶轴的连接线位于进气喷嘴和弧形板之间。
[0009]进一步，上述烘箱内部的底部设有固定座，固定座上设有可上下弹性运动的固定板，顶轴转动设置在固定板上。
[0010]进一步的，上述固定座上设有导向槽，固定板的底部设有导向杆，导向槽的内部设有缓冲弹簧，导向杆活动设置在导向槽的内部且和缓冲弹簧固定连接。
[0011]进一步的，上述烘箱上设有驱动封闭板进行活动的驱动气缸，驱动气缸上设有控制器，封闭板的端部设有物料传感器，物料传感器和控制器电连接。
[0012]进一步的，上述弧形板为吸热板。
[0013]本技术的有益效果在于：
[0014]1、本技术提供了一种半导体碱蚀刻的烘干装置，将需要烘干的半导体从产品伸入口放入烘箱的内部，半导体的底部定在顶轴的位置，烘干时，外部动力带动半导体进行转动，而顶轴的设定确保了半导体的转动保持稳定，随后，打开热风机，热风机产生的热风进入进入总管，并通过进气喷嘴向烘箱的内部喷发热风，喷发的热风对半导体进行烘干，在热风喷发过程中，弧形板的设定起到阻挡热风扩散的目的，使得热风限制在弧形板和进气喷嘴之间，提高了半导体的烘干效率。
[0015]2、本技术提供了一种半导体碱蚀刻的烘干装置，在半导体顶在顶轴上时，固定板可以在固定座上下弹性运动，从而避免了顶轴和半导体刚性接触，起到保护半导体的作用。
[0016]3、本技术提供了一种半导体碱蚀刻的烘干装置，半导体位于产品伸入口的位
置时，物料传感器能够检测到半导体，从而将信号传递给控制器，控制器控制驱动气缸驱动封闭板远离产品伸入口进行活动，从而使得产品伸入口处于打开的状态，方便半导体从产品伸入口伸入烘箱的内部，当半导体离开产品伸入口以后，物料传感器检测不到半导体，将信号传递给控制器，控制器控制驱动气缸驱动封闭板朝向产品伸入口进行活动，封闭板将产品伸入口进行封闭，从而避免了烘箱内部蚀刻液的挥发。
[0017]附图说明：
[0018]图1为本技术的侧面结构图。
[0019]图2为本技术烘箱的顶部剖面图。
[0020]具体实施方式：
[0021]为了加深对本技术的理解，下面将结合实施例和附图对本技术作进一步详述，该实施例仅用于解释本技术，并不构成对本技术保护范围的限定。
[0022]如图1到图2为本技术的一种具体实施方式，其结构包括烘箱1，其结构还包括热风机2，烘箱1的顶部设有活动槽11，活动槽11上设有产品伸入口12，活动槽11上设有可滑动的封闭板13，封闭板13的活动方向靠近或者远离产品伸入口12，烘箱1内部的底部设有可转动的顶轴14，顶轴14位于产品伸入口12的正下方，烘箱1的底部设有废液出口15，废液出口15上设有关断阀16，烘箱1的侧面从上到下开设有若干进气喷嘴17，热风机2的出风口上设有进气总管21，若干进气喷嘴17一一连通在进气总管21上，烘箱1的内部设有弧形板3，弧形板3的弧形开口朝向进气喷嘴17，产品伸入口12和顶轴14的连接线位于进气喷嘴17和弧形板3之间。
[0023]在本技术中，半导体烘干的过程如下：将需要烘干的半导体从产品伸入口12放入烘箱1的内部，半导体的底部定在顶轴14的位置，烘干时，外部动力带动半导体进行转动，而顶轴14的设定确保了半导体的转动保持稳定，随后，打开热风机2，热风机2产生的热风进入进入总管，并通过进气喷嘴17向烘箱1的内部喷发热风，喷发的热风对半导体进行烘干，在热风喷发过程中，弧形板3的设定起到阻挡热风扩散的目的，使得热风限制在弧形板3和进气喷嘴17之间，提高了半导体的烘干效率。
[0024]在本技术中，作为优选方案，上述烘箱1内部的底部设有固定座4，固定座4上设有可上下弹性运动的固定板41，顶轴14转动设置在固定板41上。
[0025]在本技术中，在半导体顶在顶轴14上时，固定板41可以在固定座4上下弹性运动，从而避免了顶轴14和半导体刚性接触，起到保护半导体的作用。
[0026]在本技术中，作为优选方案，上述固定座4上设有导向槽5，固定板41的底部设有导向杆51，导向槽5的内部设有缓冲弹簧52，导向杆51活动设置在导向槽5的内部且和缓冲弹簧52固定连接。
[0027]在本技术中，导向杆51在导向槽5的内部进行上下弹性运动，从而实现了固定板41的上下弹性运动，进而实现了顶轴14的上下弹性运动。
[0028]在本技术中，作为优选方案，上述烘箱1上设有驱动封闭板13进行活动的驱动气缸6，驱动气缸6上设有控制器，封闭板13的端部设有物料传感器，物料传感器和控制器电连接。
[0029]在本技术中，当半导体位于产品伸入口12的位置时，物料传感器能够检测到半导体，从而将信号传递给控制器，控制器控制驱动气缸6驱动封闭板13远离产品伸入口12
进行活动，从而使得产品伸入口12处于打开的状态，方便半导体从产品伸入口12伸入烘箱1的内部，当半导体离开产品伸入口12以后，物料传感器检测不到半导体，将信号传递给控制器，控制器控制驱动气缸6驱动封闭板13朝向产品伸入口12进行活动，封闭板13将产品伸入口12进行封闭，从而避免了烘箱1内部蚀刻液的挥发。
[0030]在本技术中，作为优选方案，上述弧形板3为吸热板。
[0031]在本技术中，弧形板3能够吸收热风的热量，从而可以避免热量的损失，在后续半导体进入到烘箱1的内部时，也能够为半导体的烘干提供热量，从而减少了热量的浪费。
[0032]本行业的技术人员应该了解，本技术不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种半导体碱蚀刻的烘干装置，其结构包括烘箱（1），其特征在于：其结构还包括热风机（2），所述烘箱（1）的顶部设有活动槽（11），所述活动槽（11）上设有产品伸入口（12），所述活动槽（11）上设有可滑动的封闭板（13），所述封闭板（13）的活动方向靠近或者远离所述产品伸入口（12），所述烘箱（1）内部的底部设有可转动的顶轴（14），所述顶轴（14）位于所述产品伸入口（12）的正下方，所述烘箱（1）的底部设有废液出口（15），所述废液出口（15）上设有关断阀（16），所述烘箱（1）的侧面从上到下开设有若干进气喷嘴（17），所述热风机（2）的出风口上设有进气总管（21），若干所述进气喷嘴（17）一一连通在所述进气总管（21）上，所述烘箱（1）的内部设有弧形板（3），所述弧形板（3）的弧形开口朝向所述进气喷嘴（17），所述产品伸入口（12）和所述顶轴（14）的连接线位于所述进气喷嘴（17）和所述弧形板（3）之间。...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱恺华，王百强，赵正东，
申请(专利权)人：南通伟腾半导体科技有限公司，
类型：新型
国别省市：