真空处理装置制造方法及图纸

在使用多个基板保持器的通过型真空处理装置中，效率良好地对基板的两个表面进行处理，实现装置的小型化以及构成的简单化。运送通路具有将基板保持器（11）分别以水平状态向第一运送方向（P1）运送的往路侧运送部（33a）、向与第一运送方向（P1）相反的第二运送方向（P2）运送的返路侧运送部（33c）、从往路侧运送部（33a）朝向返路侧运送部（33c）的运送折返部（30B），借助基板保持器运送机构（3）的第一驱动部（36）运送基板保持器（11）。将具有第二驱动部（46）的方向转换机构（40）设置在运送折返部（30B）的附近。使基板保持器运送机构（3）的第一驱动部（36）和方向转换机构（40）的第二驱动部（46）同步而动作，将第一以及第二被驱动轴（12、13）沿方向转换机构（40）的第一以及第二方向转换通路（51、52）分别引导运送，将基板保持器（11）在维持了上下关系的状态下从往路侧运送部（33a）向返路侧运送部（33c）交付。部（33a）向返路侧运送部（33c）交付。部（33a）向返路侧运送部（33c）交付。

【技术实现步骤摘要】
真空处理装置


[0001]本专利技术涉及一种真空处理装置的技术，在真空中对被保持于基板保持器的基板的两个表面进行通过成膜等的真空处理。

技术介绍

[0002]以往以来，公知有将多个被成膜基板分别载置于托盘等的基板保持器而进行通过成膜等的真空处理的真空处理装置。
[0003]作为这样的真空处理装置，将作为处理对象的基板导入（装载）到真空槽内而使其保持于基板保持器，将处理结束后的基板从基板保持器取下而向真空槽之外排出（卸载）。
[0004]在现有技术的构成中，基板从装载位置到卸载位置，其处理面被保持为水平，一边在水平面内构成的环状的运送通路上移动一边进行各种工艺处理。
[0005]其结果，在这样的现有技术中，存在无法避免成膜装置的大型化以及复杂化的问题。
[0006]特别地，在对基板的两个表面进行处理的装置中，存在上述的课题更加严重并且难以使产量提高的问题。
[0007]专利文献1：日本特开2007
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031821号公报。

技术实现思路

[0008]本专利技术是考虑这样的现有技术的课题而提出的，其目的在于提供一种技术，在使用多个基板保持器的通过型真空处理装置中，能够效率良好地对基板的两个表面进行成膜等的处理，能够实现装置的小型化以及构成的简单化。
[0009]为了实现上述目的而提出的本专利技术是一种真空处理装置，具备：真空槽，形成单一的真空环境；第一以及第二处理区域，设置于前述真空槽内，在被保持于基板保持器的基板上进行既定的真空处理；运送通路，形成为相对于铅直面的投影形状为连续的环状，运送前述基板保持器；基板保持器运送机构，沿前述运送通路运送具有第一以及第二被驱动部的多个前述基板保持器，前述运送通路具有：第一运送部，使导入后的前述基板保持器以成为水平的状态沿前述运送通路向第一运送方向运送；第二运送部，使前述基板保持器以成为水平的状态沿前述运送通路向与前述第一运送方向相反方向的第二运送方向运送而排出；运送折返部，将前述基板保持器从前述第一运送部朝向前述第二运送部折返而运送，构成为前述第一运送部通过前述第一以及第二处理区域中的一方，并且前述第二运送部通过前述第一以及第二处理区域中的另一方，前述基板保持器运送机构具有与前述基板保持器的第一被驱动部接触而将该基板保持器沿前述运送通路驱动的多个第一驱动部，在前述运送通路的运送折返部附近设置有方向转换机构，所述方向转换机构具有：多个第二驱动部，与前述基板保持器的第二被驱动部接触而将该基板保持器分别向前述第一以及第二运送方向驱动；第一以及第二方向转换通路，用于将前述基板保持器的第一以及第二被驱动部分别引导而运送以使该基板保持器从前述第一运送方向向前述第二运送方向进行方向转换，
所述真空处理装置以如下方式构成：使前述基板保持器运送机构的第一驱动部和前述方向转换机构的第二驱动部同步地动作，将前述基板保持器的第一以及第二被驱动部沿前述方向转换机构的第一以及第二方向转换通路分别引导而运送，从而将前述基板保持器在维持了上下关系的状态下从前述运送通路的第一运送部向第二运送部交付。
[0010]本专利技术是一种真空处理装置，前述第一方向转换通路和前述第二方向转换通路形成为向前述第一运送方向侧凸出的相匹配的曲线形状。
[0011]本专利技术是一种真空处理装置，前述第一方向转换通路和前述第二方向转换通路通过如下方式而设置：以分别设置比前述基板保持器的第一被驱动轴的直径稍大的间隙而对置的方式接近地配置一对引导部件。
[0012]本专利技术是一种真空处理装置，前述基板保持器的第一以及第二被驱动部设置为向正交于前述第一以及第二运送方向的方向延伸，该第一以及第二被驱动部的长度不同。
[0013]本专利技术是一种真空处理装置，前述方向转换机构关于前述第一以及第二运送方向而配置在前述基板保持器运送机构的外侧的位置。
[0014]本专利技术是一种真空处理装置，前述第一以及第二处理区域是在真空中进行成膜的区域。
[0015]本专利技术是一种真空处理装置，前述基板保持器构成为在正交于前述第一以及第二运送方向的方向上排列保持多个成膜对象基板。
[0016]在本专利技术中，具备如下述的基板保持器运送机构：在形成单一的真空环境的真空槽内，运送通路形成为相对于铅直面的投影形状为连续的环状，并且将多个基板保持器沿运送通路运送，所以与现有技术相比能够大幅地削减运送通路占用的空间，由此能够实现装置的大幅的省空间化，因此能够提供小型且简单的构成的真空处理装置。
[0017]此外，本专利技术的运送通路构成为，将导入后的前述基板保持器以成为水平的状态沿运送通路向第一运送方向运送的第一运送部通过前述第一以及第二成膜区域中的一方，并且，将前述基板保持器以成为水平的状态沿运送通路向与第一运送方向相反方向的第二运送方向运送而排出的第二运送部通过第一以及第二成膜区域中的另一方。此外，构成为使基板保持器运送机构的第一驱动部和方向转换机构的第二驱动部同步动作，将基板保持器的第一以及第二被驱动部沿方向转换机构的第一以及第二方向转换通路分别引导而运送，从而将基板保持器以维持了上下关系的状态从运送通路的第一运送部向第二运送部交付。根据具有这样的构成的本专利技术，能够提供可以对基板的两个表面进行效率良好地处理的通过型的真空处理装置。
[0018]另一方面，在本专利技术中，在构成为基板保持器在正交于该运送方向的方向上排列保持多个基板的情况下，与例如现有技术那样的运送在基板的运送方向排列保持多个基板的基板保持器而进行处理的情况相比，能够削减基板保持器的长度以及伴随于此的剩余空间，因此能够实现真空处理装置的进一步省空间化。
附图说明
[0019]图1是表示本专利技术的真空处理装置的实施方式的整体的概略构成图。
[0020]图2（a）（b）是表示本实施方式的基板保持器运送机构以及方向转换机构的基本构成的图，图2（a）是俯视图，图2（b）是主视图。
[0021]图3（a）（b）是表示用于本实施方式的基板保持器的构成的图，图3（a）是俯视图，图3（b）是主视图。
[0022]图4（a）至（d）是表示设置于本实施方式的运送驱动部件的第一驱动部的构成的图，图4（a）是从运送方向下游侧观察的侧视图，图4（b）是主视图，图4（c）是从运送方向上游侧观察的侧视图，图4（d）是立体图。
[0023]图5是表示本实施方式的方向转换机构的构成的主视图。
[0024]图6是表示本实施方式的真空处理装置的动作的说明图（其一）。
[0025]图7是表示本实施方式的真空处理装置的动作的说明图（其二）。
[0026]图8是表示本实施方式的真空处理装置的动作的说明图（其三）。
[0027]图9（a）（b）是表示本实施方式的真空处理装置的动作的说明图（其四）。
[0028]图10（a）至（c）是表示本实施方式的基板保持器运送机构以及方向转换机构的动作的（其一）。
[0029]图11（a）至（c）是表示本实施方式的基板保持器运送机构以及方本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空处理装置，具备：第一以及第二处理区域，在被保持于基板保持器的基板上进行既定的真空处理；运送通路，以相对于铅直面的投影形状为连续的环状的方式形成，运送前述基板保持器；基板保持器运送机构，沿前述运送通路运送具有第一以及第二被驱动部的多个前述基板保持器，前述运送通路构成为，具有：第一运送部，使导入后的前述基板保持器以成为水平的状态沿前述运送通路向第一运送方向运送；第二运送部，使前述基板保持器以成为水平的状态沿前述运送通路向与前述第一运送方向相反方向的第二运送方向运送而排出；运送折返部，将前述基板保持器从前述第一运送部朝向前述第二运送部折返运送，前述第一运送部通过前述第一以及第二处理区域中的一方，并且前述第二运送部通过前述第一以及第二处理区域中的另一方，前述基板保持器运送机构具有与前述基板保持器的第一被驱动部接触而沿前述运送通路驱动该基板保持器的多个第一驱动部，在前述运送通路的运送折返部附近设置有方向转换机构，所述方向转换机构具有：多个第二驱动部，与前述基板保持器的第二被驱动部接触而将该基板保持器分别向前述第一以及第二运送方向驱动；第一以及第二方向转换通路，用于分别引导运送前述基板保持器的第一以及第二被驱动部以使该基板保持器从前述第一运送方向向前述第二运送方向进行方向转换，构成为使前述基板保持器运送机构的第一驱动部和前述方向转换机...

【专利技术属性】
技术研发人员：松崎淳介，高桥明久，水岛优，
申请(专利权)人：株式会社爱发科，
类型：发明
国别省市：