一种门阀装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种门阀装置，门阀装置设置在TM传送腔室和干刻腔室之间，干刻腔室上设置有贯穿孔，门阀装置覆盖贯穿孔的孔口并且和孔口附近的腔壁连接，门阀装置包括密封板、密封件、外密封圈和内密封圈，密封板设置在干刻腔室的外侧，外密封圈设置在密封板和腔壁之间，内密封圈设置在外密封圈内侧，密封件包括一环形块，环形块设置在贯穿孔内并且环形块的外侧壁和贯穿孔的内侧壁紧密贴合，内密封圈设置在密封板和环形块之间。置在密封板和环形块之间。置在密封板和环形块之间。

A door valve device

【技术实现步骤摘要】
一种门阀装置


[0001]本申请涉及显示面板制造领域，具体而言，涉及一种门阀装置。

技术介绍

[0002]显示面板(例如TFT
‑
LCD、OLED、AMOLED等)在制备过程中需要进行干法刻蚀，干法刻蚀的典型步骤包括：将表面有图形化光刻胶层的玻璃基板由TM传送腔室传送至等离子体刻蚀设备的干刻腔室内，干刻腔室通工艺气体并加载射频功率后，干刻腔室内产生等离子体，对干刻腔室内的玻璃基板进行刻蚀加工。
[0003]在显示面板的制备过程中出于良品率的需求，因此对杂质颗粒(particle)的管控尤为重要。干法刻蚀的过程中在干刻腔室内会因为反应而产生大量生成物，部分生成物以气态的方式被泵抽走排出，部分生成物会累积在工艺腔室内并凝结成固态形成杂质颗粒(particle)，在随后的生产中掉落到基板上造成刻蚀残留，最终产品表现为点线缺陷等不良。
[0004]显示面板在进行干法刻蚀时基板的传输路径为由TM传送腔室移动至干刻腔室，在TM传送腔室和干刻腔室之间会设立门阀装置(如图1所示)，保证干刻腔室内的真空度和阻挡干刻腔室内的生成物污染到TM传送腔室。门阀装置和干刻腔室的腔壁间必然使用橡胶材质密封圈来进行密封，由于密封圈的存在使得与门阀装置和腔壁之间存在缝隙，干刻腔室内的生成物会在缝隙中累计(如图2所示)并且累计的数量会随着生产的基板的数量增加而增加。每次干刻腔室完成单片基板的干法刻蚀后进行交换片，门阀装置会进行一次开关，开关的机械动作会对门阀装置带来振动，振动会把原来粘附于缝隙处的杂质颗粒(particle)在交换片的同时掉落到基板上形成刻蚀残留，所以避免形成刻蚀残留，需要定期对门阀装置进行清洁保养。但由于门阀装置设置在TM传送腔室，因此对于干刻腔室清洁的时候无法对门阀装置进行同步的清洁和保养，需要打开TM传送腔室才能对门阀装置进行同步清洁，这大大提高了对门阀装置的保养的难度。
[0005]公开于本技术
技术介绍
部分的信息仅仅旨在加深对本技术的一般
技术介绍
的理解，而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域技术人员所公知的现有技术。

技术实现思路

[0006]针对现有技术中存在的技术问题，本技术提供一种门阀装置，该门阀装置是在现有的门阀装置的结构的基础上进行改进。
[0007]本技术提出了一种门阀装置，用于隔离TM传送腔室和干刻腔室，并且对干刻腔室进行密封。干刻腔室上设置有贯穿孔用于让基板进入，门阀装置覆盖所述贯穿孔的孔口并且和孔口附近的腔壁连接。
[0008]根据本技术的门阀装置，所述门阀装置包括密封板、密封件、外密封圈和内密封圈，所述密封板设置在所述干刻腔室的外侧，所述外密封圈设置在密封板和腔壁之间，所
述内密封圈设置在所述外密封圈内侧，所述密封件包括一环形块，所述环形块设置在所述贯穿孔内并且所述环形块的外侧壁和所述贯穿孔的内侧壁紧密贴合，所述内密封圈设置在所述密封板和环形块之间。
[0009]所述密封件还包括一盖板，所述盖板设置在所述干刻腔室的内侧，所述盖板和所述环形块远离所述密封板的端面连接，所述盖板的宽度大于所述贯穿孔的孔径。所述盖板和所述腔壁之间通过连接件可拆卸连接。优选的，连接件为螺丝。
[0010]在所述密封板靠近所述腔壁的端面的边缘处设置有第一环形凹槽，所述腔壁上设置有与所述第一环形凹槽对应的第三环形凹槽；在所述第一环形凹槽内侧设置有第二环形凹槽，所述环形块远离所述盖板的端面上设置有与第二环形凹槽对应的第四环形凹槽。所述外密封圈设置在所述第一环形凹槽和所述第三环形凹槽之间，所述内密封圈设置在所述第二环形凹槽和所述第四环形凹槽之间。
[0011]根据本技术的门阀装置，内密封圈起密封干刻腔室的作用，通过内密封圈对杂质颗粒(particle)起到阻挡作用，故在进行干法刻蚀时，干刻腔室内的生成物会累积在内密封圈的内侧，而不会污染外侧的外密封圈，当干刻腔室进行清洁时可以从干刻腔室的内侧拆卸密封件进行清洁保养或更换内密封圈，而无需打开TM传送腔室，因此TM传送腔室可以保持生产状态。本技术提供的门阀装置可以降低杂质颗粒(particle)的累积从而提升显示面板的良品率。同时该门阀装置因为具有包括外密封圈和内密封圈的双密封圈结构，因此可以提高干刻腔室的密封性，提高干刻腔室的真空稳定性。
[0012]本技术的方法具有其它的特性和优点，这些特性和优点从并入本文中的附图和随后的具体实施例中将是显而易见的，或者将在并入本文中的附图和随后的具体实施例中进行详细陈述，这些附图和具体实施例共同用于解释本技术的特定原理。
附图说明
[0013]构成本申请的一部分的附图用来提供对本申请的进一步理解，使得本申请的其它特征、目的和优点变得更明显。本申请的示意性实施例附图及其说明用于解释本申请，并不构成对本申请的不当限定。在附图中：
[0014]图1为现有的TM传送腔室和干刻腔室的连接示意图；
[0015]图2为现有技术的门阀装置的示意图；
[0016]图3为根据本技术的示例性实施方案的门阀装置的示意图。
[0017]主要附图标记说明：1.干刻腔室；11.腔壁；2.TM传送腔室；31.密封板；321.环形块322.盖板；33.外密封圈；34.内密封圈；4.贯穿孔；51.第一环形凹槽；52.第二环形凹槽；53.第三环形凹槽；54.第四环形凹槽；6.杂质颗粒。
具体实施方式
[0018]为了使本
的人员更好地理解本申请方案，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本申请保护的范围。
[0019]需要说明的是，本申请的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本申请的实施例。此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含，例如，包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元，而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。
[0020]在本申请中，术语“上”、“下”、“左”、“右”、“前”、“后”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“中”、“竖直”、“水平”、“横向”、“纵向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系。这些术语主要是为了更好地描述本技术及其实施例，并非用于限定所指示的装置、元件或组成部分必须具有特定方位，或以特定方位进行构造和操作。
[0021]并且，上述部分术语除了可以用于表示方位或位置关系以外，还可能用于表示其他含义，例如术语“上”在某些情况下也可能用于表示某种依附关系或连接关系本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种门阀装置，所述门阀装置设置在TM传送腔室和干刻腔室之间，所述干刻腔室上设置有贯穿孔，所述门阀装置覆盖所述贯穿孔的孔口并且和所述孔口附近的腔壁连接，其特征在于：所述门阀装置包括密封板、密封件、外密封圈和内密封圈，所述密封板设置在所述干刻腔室的外侧，所述外密封圈设置在密封板和所述腔壁之间，所述内密封圈设置在所述外密封圈内侧，所述密封件包括一环形块，所述环形块设置在所述贯穿孔内并且所述环形块的外侧壁和所述贯穿孔的内侧壁紧密贴合，所述内密封圈设置在所述密封板和所述环形块之间。2.根据权利要求1所述的门阀装置，其特征在于：所述密封件还包括一盖板，所述盖板设置在所述干刻腔室的内侧，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：冼伟材，刘伟，李伟界，戴成云，
申请(专利权)人：信利惠州智能显示有限公司，
类型：新型
国别省市：