磁控溅射设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种磁控溅射设备，所述磁控溅射设备用于为薄膜镀膜，所述磁控溅射设备包括：放卷机构、收卷机构和镀膜单元，所述镀膜单元包括多个，多个所述镀膜单元沿所述薄膜的输送方向依次布置在所述放卷机构和所述收卷机构之间，所述镀膜单元包括：主辊和多个溅射源，多个所述溅射源在所述主辊的周向间隔设置并位于所述主辊与所述薄膜的包角范围内，且多个所述溅射源与所述主辊在所述主辊的径向方向间隔开。根据本实用新型专利技术的磁控溅射设备，通过设置多个镀膜单元，每个镀膜单元又包括一个主辊和多个溅射源，这样，能够减少镀膜时膜面的热量，提高单位设备空间的产能，提高镀膜沉积效率。沉积效率。沉积效率。

【技术实现步骤摘要】
磁控溅射设备


[0001]本技术涉及镀膜设备领域，尤其是涉及一种磁控溅射设备。

技术介绍

[0002]磁控溅射是真空镀膜的重要方法之一，其具有膜层厚度控制精度高，镀膜均匀性好等优点。近年来，随着柔性光电产品的市场需求不断扩大，尤其对复杂膜系结构产品，镀膜产品的需求成不断扩大趋势。
[0003]相关技术中指出，薄膜镀膜的磁控溅射设备多为单个主辊，根据单个主辊的冷却效果设置的靶材数量是有限的，无法满足产品要求，增加靶材的数量会导致镀膜时膜面的温度过高，造成薄膜的变形，影响产品的质量。

技术实现思路

[0004]本技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本技术在于提出一种磁控溅射设备，所述磁控溅射设备能够减少镀膜时膜面的热量，多个主辊能够提高主辊对膜面的冷却效果减少金属沉积时热量对膜面的影响，提高了单位设备空间的产能，提高镀膜沉积效率。
[0005]根据本技术的磁控溅射设备，所述磁控溅射设备用于为薄膜镀膜，所述磁控溅射设备包括：放卷机构和收卷机构；镀膜单元，所述镀膜单元包括多个，多个所述镀膜单元沿所述薄膜的输送方向依次布置在所述放卷机构和所述收卷机构之间，所述镀膜单元包括：主辊和多个溅射源，多个所述溅射源在所述主辊的周向间隔设置并位于所述主辊与所述薄膜的包角范围内，且多个所述溅射源与所述主辊在所述主辊的径向方向间隔开。
[0006]根据本技术的磁控溅射设备，通过设置多个镀膜单元，每个镀膜单元又包括一个主辊和多个溅射源，这样，能够减少镀膜时膜面的热量，多个主辊能够提高主辊对膜面的冷却效果减少金属沉积时热量对膜面的影响，提高了单位设备空间的产能，提高镀膜沉积效率。
[0007]在一些实施例中，所述多个所述镀膜单元中的多个所述主辊均沿顺时针方向转动或均沿逆时针方向转动。
[0008]在一些实施例中，在输送所述薄膜镀膜时，多个所述镀膜单元的多个所述主辊中的一部分沿顺时针方向转动且另一部分沿逆时针方向转动。
[0009]在一些实施例中，所述主辊沿顺时针方向转动的所述镀膜单元为第一镀膜单元，所述主辊沿逆时针方向转动的镀膜单元为第二镀膜单元，所述第一镀膜单元包括多个，所述第二镀膜单元包括多个。
[0010]在一些实施例中，多个所述第一镀膜单元布置在多个所述第二镀膜单元沿薄膜输送方向的上游或下游。
[0011]在一些实施例中，所述放卷机构和所述收卷机构在第一方向上间隔布置，多个所述第一镀膜单元在垂直于所述第一方向的第二方向上间隔布置，多个所述第二镀膜单元在
所述第二方向上间隔设置，且多个所述第一镀膜单元和多个所述第二镀膜单元在所述第一方向上间隔布置。
[0012]在一些实施例中，所述镀膜单元还包括：第一过辊和第二过辊，所述第一过辊、所述主辊和所述第二过辊在所述薄膜的输送方向上依次布置，所述薄膜在所述主辊上的包角大于等于200
°
。
[0013]在一些实施例中，所述镀膜单元的数量在2
‑
30范围。
[0014]在一些实施例中，所述主辊的直径在300mm到1200mm范围。
[0015]在一些实施例中，每个所述镀膜单元中的多个所述溅射源的数量为2
‑
10。
[0016]在一些实施例中，所述溅射源为镀膜靶材，多个所述镀膜靶材在所述包角范围内均匀间隔设置。
[0017]在一些实施例中，还包括：多个展平辊，所述展平辊布置多个所述镀膜单元之间、所述镀膜单元与所述放卷机构之间以及所述镀膜单元与所述收卷机构之间。
[0018]在一些实施例中，还包括：外壳，所述外壳内限定出镀膜空间，所述放卷机构、所述收卷机构和多个所述镀膜单元均设于所述镀膜空间内；真空机构，所述真空机构设于所述外壳用于将所述镀膜空间抽真空。
[0019]在一些实施例中，所述真空机构包括：机械泵、罗茨泵和分子泵。
[0020]本技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本技术的实践了解到。
附图说明
[0021]图1是根据本技术实施例的磁控溅射设备的示意图；
[0022]图2是根据本技术又一实施例的磁控溅射设备的示意图。
[0023]附图标记：
[0024]100、磁控溅射设备；
[0025]110、放卷机构；
[0026]120、收卷机构；
[0027]130、镀膜单元；131、主辊；132、溅射源；133、第一过辊；134、第二过辊；
[0028]140、展平辊；
[0029]150、外壳；151、镀膜空间；
[0030]161、机械泵；162、罗茨泵；163、分子泵。
具体实施方式
[0031]下面详细描述本技术的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本技术，而不能理解为对本技术的限制。
[0032]下面参考图1描述根据本技术实施例的磁控溅射设备100。
[0033]如图1所示，根据本技术实施例的磁控溅射设备100，包括：放卷机构110、收卷机构120和镀膜单元130。
[0034]具体地，放卷机构110用于放出薄膜进入镀膜单元130，收卷机构120用于收取从镀膜单元130完成镀膜的薄膜，其中，镀膜单元130可以包括多个，多个镀膜单元130沿薄膜的输送方向依次布置在放卷机构110和收卷机构120之间，镀膜单元130可以包括：主辊131和多个溅射源132，多个溅射源132在主辊131的周向间隔设置并位于主辊131与薄膜的包角范围内，且多个溅射源132与主辊131在主辊131的径向方向间隔开，这样，设置多个镀膜单元130，能够减少镀膜时膜面的热量，避免薄膜在镀膜的过程中发生变形，影响产品的质量。
[0035]需要说明的是，在镀膜所需的溅射源132数量相同的情况下，采用多个主辊131能够减少镀膜时膜面的热量，多个主辊131能够提高主辊131对膜面的冷却效果，避免薄膜因为温度过高而发生变形，影响产品的质量。
[0036]例如，如图1所示，磁控溅射设备100包括放卷机构110、收卷机构120和镀膜单元130，镀膜单元130包括十二个，镀膜单元130沿薄膜的输送方向依次布置在放卷机构110与收卷机构120之间，每个镀膜单元130均包括一个主辊131和四个溅射源132，四个溅射源132在主辊131的周向间隔设置并位于主辊131与薄膜的包角范围内，且四个溅射源132与主辊131在主辊131的径向方向间隔开，这样，薄膜通过磁控溅射设备100的镀膜过程后，可以经过四十八次的镀膜，保证了镀膜的质量，提高了镀膜的沉积效率，相对与单个大主辊的镀膜设备。
[0037]根据本技术的磁控溅射设备100，通过设置多个镀膜单元130，每个镀膜单元130又本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种磁控溅射设备，其特征在于，所述磁控溅射设备用于为薄膜镀膜，所述磁控溅射设备包括：放卷机构和收卷机构；镀膜单元，所述镀膜单元包括多个，多个所述镀膜单元沿所述薄膜的输送方向依次布置在所述放卷机构和所述收卷机构之间，所述镀膜单元包括：主辊和多个溅射源，多个所述溅射源在所述主辊的周向间隔设置并位于所述主辊与所述薄膜的包角范围内，且多个所述溅射源与所述主辊在所述主辊的径向方向间隔开。2.根据权利要求1所述的磁控溅射设备，其特征在于，所述多个所述镀膜单元中的多个所述主辊均沿顺时针方向转动或均沿逆时针方向转动。3.根据权利要求1所述的磁控溅射设备，其特征在于，在输送所述薄膜镀膜时，多个所述镀膜单元的多个所述主辊中的一部分沿顺时针方向转动且另一部分沿逆时针方向转动。4.根据权利要求3所述的磁控溅射设备，其特征在于，所述主辊沿顺时针方向转动的所述镀膜单元为第一镀膜单元，所述主辊沿逆时针方向转动的镀膜单元为第二镀膜单元，所述第一镀膜单元包括多个，所述第二镀膜单元包括多个。5.根据权利要求4所述的磁控溅射设备，其特征在于，多个所述第一镀膜单元布置在多个所述第二镀膜单元沿薄膜输送方向的上游或下游。6.根据权利要求5所述的磁控溅射设备，其特征在于，所述放卷机构和所述收卷机构在第一方向上间隔布置，多个所述第一镀膜单元在垂直于所述第一方向的第二方向上间隔布置，多个所述第二镀膜单元在所述第二方向上间隔设置，且多个所述第一镀膜单元和多个所述第二镀膜单元在所述第一方向上间隔布置。7.根据权利要求1
‑
6中任一项所述的磁控溅射设备，其特征在于，所述镀膜单元还包...

【专利技术属性】
技术研发人员：周龙，扈锋，张喜冲，张汉都，王芝芝，陈嘉圣，庞文杰，
申请(专利权)人：厦门海辰新能源科技有限公司，
类型：新型
国别省市：