一种具有可快速更换靶材的磁控溅射阴极制造技术

本实用新型专利技术的一种具有可快速更换靶材的磁控溅射阴极，包括靶材安装座及靶材位于烟囱弹顶装置和磁轭冷却组件之间，烟囱弹顶装置安装在阴极屏蔽罩上，阴极屏蔽罩通过螺钉固定在磁轭冷却组件上。更换靶材时，利用磁控溅射设备自带的传样系统抓取靶材安装座边上的支耳，从阴极屏蔽罩侧边开口取出靶材安装座及其中的靶材后送至传样系统的腔室内；再利用传样系统将腔室内的新靶材安装座及其中的靶材送到原阴极屏蔽罩侧边开口，利用烟囱弹顶装置压紧靶材安装座的槽口，并且定位靶材安装座，使靶材安装座位于磁轭冷却组件正上方。该实用新型专利技术在不破坏主真空腔真空环境的情况下，实现快速换靶，大幅降低更换靶材的时间，也减少了主真空腔的污染。空腔的污染。空腔的污染。

【技术实现步骤摘要】
一种具有可快速更换靶材的磁控溅射阴极


[0001]本技术涉及真空镀膜
，具体涉及一种具有可快速更换靶材的磁控溅射阴极。

技术介绍

[0002]磁控溅射属于物理气相沉积(PVD)的一种，广泛应用于材料镀膜领域。磁控溅射的关键核心技术之一是磁控溅射阴极的的设计和制造，基本原理是利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。磁控溅射阴极其中的靶材需要更换时，传统方式是将主真空腔放气后，取出磁控溅射阴极进行靶材更换。更换完毕后将磁控溅射阴极放回，需再次将主真空腔抽至极限真空后才能正常工作。这样操作繁琐费时，且容易导致主真空腔被污染。

技术实现思路

[0003]本技术提出的一种具有可快速更换靶材的磁控溅射阴极，可至少解决上述
技术介绍
中提出的技术问题之一。
[0004]为实现上述目的，本技术采用了以下技术方案：
[0005]一种具有可快速更换靶材的磁控溅射阴极，包括靶材、靶材安装座及磁轭冷却组件，靶材安装在靶材安装座上，
[0006]还包括烟囱弹顶装置和阴极屏蔽罩；
[0007]靶材安装座位于烟囱本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种具有可快速更换靶材的磁控溅射阴极，包括靶材(2)、靶材安装座(3)及磁轭冷却组件(4)，靶材(2)安装在靶材安装座(3)上，其特征在于：还包括烟囱弹顶装置(1)和阴极屏蔽罩(5)；靶材安装座(3)位于烟囱弹顶装置(1)和磁轭冷却组件(4)之间，烟囱弹顶装置(1)安装在阴极屏蔽罩(5)上，阴极屏蔽罩(5)固定在磁轭冷却组件(4)上；其中，所述烟囱弹顶装置(1)具有弹性压紧和定位靶材安装座(3)的作用；所述靶材安装座(3)具有支耳和限位槽口；阴极屏蔽罩(5)侧边设有开口。2.根据权利要求1所述的具有可快速更换靶材的磁控溅射阴极，其特征在于：所述烟囱弹顶装置(1)包括烟囱(11)、弹顶销(12)、压力弹簧(13)及螺塞(14)；所述弹顶销(12)过孔具有导向作用；所述烟囱(11)包括导向限位孔，且底部带有螺纹，弹顶销(12)、压力弹簧(13)及螺塞(14)依次安装在烟囱(11)的导向限位孔中；所述螺塞(14)本身带有螺纹，且与烟囱(11)的导向限位孔底部螺纹相同，此时螺塞(14)挤压压力弹簧(13)，压力弹簧(13)挤压弹顶销(12)，烟囱(11)的导向限位孔起到固定导向的作用。3.根据权利要求2所述的具有可快速...

【专利技术属性】
技术研发人员：李成，汪建，杜寅昌，程厚义，赵巍胜，张悦，
申请(专利权)人：北京航空航天大学合肥创新研究院北京航空航天大学合肥研究生院，
类型：新型
国别省市：