本实用新型专利技术公开了一种抛光防止陶瓷盘带起的装置，涉及抛光装置技术领域。本实用新型专利技术包括抛光组件、两个升降组件，升降组件内装设有斜导轮，斜导轮侧部开设有多个通气槽，升降组件下端依次装设有抛头吸附垫、压力分散环，抛头吸附垫下端开设有放射状凹槽。本实用新型专利技术通过通气槽降低陶瓷盘与压力分散环形成密闭空间，导致陶瓷盘被升降组件带起的概率，通过放射状凹槽降低抛头吸附垫被陶瓷盘背面残留的水浸湿，因水的张力升降组件将陶瓷盘带起的概率，通过通气槽和放射状凹槽配合，降低因升降组件将陶瓷盘带起，而使陶瓷盘掉落砸坏抛光组件、陶瓷盘破碎、人员伤害等巨大风险发生的概率。概率。概率。
【技术实现步骤摘要】
一种抛光防止陶瓷盘带起的装置
[0001]本技术属于抛光装置
，特别是涉及一种抛光防止陶瓷盘带起的装置。
技术介绍
[0002]陶瓷盘抛光是在陶瓷盘研磨后为进一步提高表面精度，使用软质弹性或粘弹性的工具和微粉磨料，使工件表面达到镜面的光洁度，抛光的机理有力学的微小除去：磨料前端的微小切削作用除去表面凹凸。
[0003]现有的陶瓷盘抛光结束后，贴片陶瓷盘易被抛光头带起在空中掉落，陶瓷盘掉落有着砸坏大盘、陶瓷盘破碎、人员伤害等巨大风险。
技术实现思路
[0004]本技术的目的在于提供一种抛光防止陶瓷盘带起的装置，解决了现有的陶瓷盘抛光结束后，贴片陶瓷盘易被抛光头带起在空中掉落，陶瓷盘掉落有着砸坏大盘、陶瓷盘破碎、人员伤害等巨大风险的技术问题。
[0005]为达上述目的，本技术是通过以下技术方案实现的：
[0006]一种抛光防止陶瓷盘带起的装置，包括抛光组件、两个升降组件，升降组件内装设有斜导轮，斜导轮侧部开设有多个通气槽，升降组件下端依次装设有抛头吸附垫、压力分散环，抛头吸附垫下端开设有放射状凹槽，抛头吸附垫下端与抛光组件之间设有陶瓷盘。
[0007]可选的，升降组件包括有第一气缸、抛头，抛头上端开设有槽孔，第一气缸输出端位于槽孔内，斜导轮位于第一气缸输出端的周侧。
[0008]可选的，抛头吸附垫、压力分散环均装设在抛头的下端，压力分散环位于抛头吸附垫的周侧。
[0009]可选的，抛光组件包括有第二气缸，第二气缸下端装设有电机，电机输出端装设有抛光大盘。<br/>[0010]可选的，两个第一气缸对称分布在第二气缸的侧部，抛光大盘位于抛头吸附垫的下方。
[0011]可选的，放射状凹槽的宽度为3mm。
[0012]本技术的实施例具有以下有益效果：
[0013]本技术的一个实施例通过通气槽降低陶瓷盘与压力分散环形成密闭空间，导致陶瓷盘被升降组件带起的概率，通过放射状凹槽降低抛头吸附垫被陶瓷盘背面残留的水浸湿，因水的张力升降组件将陶瓷盘带起的概率，通过通气槽和放射状凹槽配合，降低因升降组件将陶瓷盘带起，而使陶瓷盘掉落砸坏抛光组件、陶瓷盘破碎、人员伤害等巨大风险发生的概率。
[0014]当然，实施本技术的任一产品并不一定需要同时达到以上所述的所有优点。
附图说明
[0015]构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本技术的进一步理解，本技术的示意性实施例及其说明用于解释本技术，并不构成对本技术的不当限定。在附图中：
[0016]图1为本技术一实施例的抛光组件平面结构示意图；
[0017]图2为本技术一实施例的升降组件剖面结构示意图；
[0018]图3为本技术一实施例的斜导轮立体结构示意图；
[0019]图4为本技术一实施例的抛头吸附垫平面结构示意图。
[0020]其中，上述附图包括以下附图标记：
[0021]抛头1，槽孔101，压力分散环2，陶瓷盘3，抛头吸附垫4，放射状凹槽401，抛光大盘5，斜导轮6，通气槽601，第一气缸7，第二气缸8，电机9。
具体实施方式
[0022]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。以下对至少一个示例性实施例的描述实际上仅仅是说明性的，决不作为对本技术及其应用或使用的任何限制。
[0023]为了保持本技术实施例的以下说明清楚且简明，本技术省略了已知功能和已知部件的详细说明。
[0024]请参阅图1
‑
4所示，在本实施例中提供了一种抛光防止陶瓷盘带起的装置，包括：安装架，安装架下侧依次装设有抛光组件、两个升降组件，两个升降组件对称分布在抛光组件的侧部，抛光组件部分结构位于升降组件下方，升降组件内装设有斜导轮6，斜导轮6侧部开设有多个通气槽601，升降组件下端依次装设有抛头吸附垫4、压力分散环2，抛头吸附垫4下端开设有放射状凹槽401，抛头吸附垫4下端与抛光组件之间设有陶瓷盘3。
[0025]本实施例一个方面的应用为：使用时，升降组件带动斜导轮6上升，直至升到顶部，此过程中，通气槽601使得升降组件内部气流与外部流通，陶瓷盘3与压力分散环2难以形成真空，升降组件从陶瓷盘3上脱离，同时，当陶瓷盘3在搬运和抛光过程中，陶瓷盘3背面有少量水残留时，抛头吸附垫4与陶瓷盘3相互作用，抛头吸附垫4也会被水浸湿，放射状凹槽401可以减少水的张力，达到陶瓷盘3难以被升降组件带起的的效果。需要注意的是，本申请中所涉及的用电设备均可通过蓄电池供电或外接电源。
[0026]通过通气槽601降低陶瓷盘3与压力分散环2形成密闭空间，导致陶瓷盘3被升降组件带起的概率，通过放射状凹槽401降低抛头吸附垫4被陶瓷盘3背面残留的水浸湿，因水的张力升降组件将陶瓷盘3带起的概率，通过通气槽601和放射状凹槽401配合，降低因升降组件将陶瓷盘3带起，而使陶瓷盘3掉落砸坏抛光组件、陶瓷盘3破碎、人员伤害等巨大风险发生的概率。
[0027]如图2所示，本实施例的升降组件包括有第一气缸7、抛头1，抛头1上端开设有槽孔101，斜导轮6、第一气缸7输出端均位于槽孔101内，斜导轮6位于第一气缸7输出端的周侧，斜导轮6装设在槽孔101内壁的周侧。
[0028]如图1所示，本实施例的抛头吸附垫4、压力分散环2均装设在抛头1的下端，压力分
散环2位于抛头吸附垫4的周侧，抛头1下端开设有多个气孔，气孔开口处位于抛头吸附垫4与压力分散环2之间，气孔与通气槽601连通。
[0029]如图1所示，本实施例的抛光组件包括有第二气缸8，第二气缸8下端装设有电机9，电机9输出端装设有抛光大盘5。两个第一气缸7对称分布在第二气缸8的侧部，抛光大盘5位于抛头吸附垫4的下方，第一气缸7、第二气缸8均装设在安装架的下侧。
[0030]如图4所示，本实施例的放射状凹槽401的宽度为3mm，通过放射状凹槽401使抛头吸附垫4既可以保证中心加压压力均匀分布，又可减少水的张力。
[0031]上述实施例可以相互结合。
[0032]需要说明的是，本申请的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本申请的实施方式能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。
[0033]在本技术的描述中，需要理解的是，方位词如“前、后、上、下、左、右”、“横向、竖向、垂直、水平”和“顶、底”等所指示的方位或位置关系通常是基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，在未作相反说明的情况下，这些方位词并不指示和暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位或者以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术保护范围的本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种抛光防止陶瓷盘带起的装置，其特征在于，包括：抛光组件、两个升降组件，升降组件内装设有斜导轮(6)，斜导轮(6)侧部开设有多个通气槽(601)，升降组件下端依次装设有抛头吸附垫(4)、压力分散环(2)，抛头吸附垫(4)下端开设有放射状凹槽(401)，抛头吸附垫(4)下端与抛光组件之间设有陶瓷盘(3)。2.如权利要求1所述的一种抛光防止陶瓷盘带起的装置，其特征在于，升降组件包括有第一气缸(7)、抛头(1)，抛头(1)上端开设有槽孔(101)，第一气缸(7)输出端位于槽孔(101)内，斜导轮(6)位于第一气缸(7)输出端的周侧。3.如权利要求2所述的一种抛光防止...
【专利技术属性】
技术研发人员：黄盛军，尹文宝，菅明辉，王彦君，孙晨光，曹锦伟，
申请(专利权)人：中环领先半导体材料有限公司，
类型：新型
国别省市：
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