本实用新型专利技术公开了一种磁流变研磨装置，涉及研磨装置，旨在解决设备不使用时，空气中的灰尘往往会落到抛光盘内，影响磁流变液体质量的问题，其技术方案要点是：包括支架，支架上设有抛光盘，支架上设有呈环形设置的围挡，围挡的上端设有呈环状设置的基座，抛光盘位于基座和围挡之间，基座内开设有若干与其内沿和外沿连通的滑槽，滑槽内滑动连接有移动块，移动块包括呈扇形设置的拼合部，若干移动块上的拼合部相抵触形成用于封闭基座内沿的盖面。本实用新型专利技术通过若干拼合部相互拼合，形成遮蔽基座内沿的盖面，围挡、基座和盖面形成封闭空间，在研磨装置静置不用时，对抛光盘以及抛光盘内的磁流变液体起到防尘的效果，保持静置时磁流变液体的质量。体的质量。体的质量。
【技术实现步骤摘要】
一种磁流变研磨装置
[0001]本技术涉及研磨装置，更具体地说，它涉及一种磁流变研磨装置。
技术介绍
[0002]磁流变液是由磁性颗粒、基液和稳定剂组成的悬浮液，磁流变效应，是磁流变液在不加磁场时是可流动的液体，而在强磁场的作用下，其流变特性发生急剧的转变，表现为类似固体的性质，撤掉磁场时又恢复其流动特性的现象，磁流变抛光技术，正是利用磁流变抛光液在梯度磁场中发生流变而形成的具有黏塑行为的柔性“小磨头”与工件之间具有快速的相对运动，使工件表面受到很大的剪切力，从而使工件表面材料被去除，磁流变液是一种智能材料，其在磁场的作用下，可在1ms的时间内实现固液两相的可逆转换，利用这个性质，在磁流变液中加入一定浓度的微细磨料后，就成为可以进行高精度光学研磨的磁流变抛光液。
[0003]公开号为CN207043868U的中国专利公开的一种磁流变平面抛光装置，包括支架，支架顶端设有平台，平台上固定有旋转座，旋转座上设有抛光盘，旋转座连接有抛光盘驱动机构；抛光盘的上方设有工件夹持机构，工件夹持机构设有夹盘；平台下方设有磁场发生机构的转盘上以所述转盘的中心为起点，沿等速螺线均匀设置有若干永磁铁。
[0004]上述方案中解决了抛光质量不够理想的问题，但是在设备不使用时，空气中的灰尘往往会落到抛光盘内，从而影响磁流变液体的质量。
[0005]因此需要提出一种新的方案来解决这个问题。
技术实现思路
[0006]针对现有技术存在的不足，本技术的目的在于提供一种磁流变研磨装置，在研磨装置静置不用时，对抛光盘以及抛光盘内的磁流变液体起到防尘的效果，保持静置时磁流变液体的质量。
[0007]本技术的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：一种磁流变研磨装置，包括支架，所述支架上设有抛光盘，所述支架上设有呈环形设置的围挡，所述围挡的上端设有呈环状设置的基座，所述抛光盘位于基座和围挡之间，所述基座内开设有若干与其内沿和外沿连通的滑槽，所述滑槽内滑动连接有移动块，所述移动块包括呈扇形设置的拼合部，若干所述移动块上的拼合部相抵触形成用于封闭基座内沿的盖面。
[0008]通过采用上述技术方案，研磨装置静置不用时，通过移动移动块，移动块在滑槽内滑动，带动拼合部朝向基座内沿移动，从而使得若干扇形的拼合部相互拼合，形成遮蔽基座内沿的盖面，围挡、基座和盖面形成封闭空间，抛光盘位于其中，从而对抛光盘以及抛光盘内的磁流变液体起到防尘的效果，保持静置时磁流变液体的质量，打开时，反向进行上述操作，使得拼合部滑入滑槽内即可露出抛光盘，方便研磨装置的使用。
[0009]本技术进一步设置为：所述基座上开设有若干沿滑槽长度方向设置的通槽，所述通槽与滑槽连通，所述移动块上固定连接有穿过通槽的移动杆。
[0010]通过采用上述技术方案，通过移动移动杆，使得移动杆在通槽内移动，从而带动移动块在滑槽内移动，进而方便移动移动块。
[0011]本技术进一步设置为：所述基座内转动连接有呈环状且贯穿若干滑槽的传动环，所述传动环内沿设有若干卡齿，所述滑槽内转动连接有与卡齿相啮合的齿轮，所述移动块上固定连接有沿滑槽长度方向设置的齿条，所述齿条与齿轮相互啮合。
[0012]通过采用上述技术方案，一个移动块移动时，齿条随之移动，从而带动齿轮转动，齿轮转动后，通过与其啮合的卡齿带动传动环转动，传动环的转动能通过卡齿带动其余滑槽内的齿轮转动，从而带动其余移动块上的齿条移动，进而使得其余移动块移动，方便通过移动一个移动块带动所有移动块整体移动，进而使得盖面的形成和拆散更加快捷。
[0013]本技术进一步设置为：所述基座的顶面设有用于将移动杆固定在通槽两端的锁止组件。
[0014]通过采用上述技术方案，通过将移动杆固定在通槽的两端，从而保持拼合部收纳在基座里或若干拼合部相互拼合，进而方便研磨装置的使用或方便通过盖面保护抛光盘内的磁流变液体。
[0015]本技术进一步设置为：所述锁止组件包括转动连接在移动杆上的锁止杆和两个固定连接在基座顶面的锁止块，两个所述锁止块分别位于通槽的两端，所述锁止块的顶面开设有用于容纳锁止杆嵌入的锁止槽。
[0016]通过采用上述技术方案，通过转动锁止杆，使其嵌入锁止槽内，从而限制锁止杆在水平方向上的移动，将锁止杆和锁止块固定，从而方便将移动杆固定在通槽的两端。
[0017]本技术进一步设置为：所述基座内开设有若干通道，所述通道的两端连通相邻两个滑槽，所述通道的底面固定连接有若干滑动座，所述传动环的底面开设有呈沿其周向设置且用于容纳滑动座移动的环槽。
[0018]通过采用上述技术方案，通过滑动座在环槽内移动，从而对传动环在通道内的移动起到导向作用，使得传动环转动时更加平稳。
[0019]本技术进一步设置为：所述拼合部的一侧开设有凹槽，所述拼合部的另一侧固定连接有用于嵌入凹槽的凸块。
[0020]通过采用上述技术方案，通过凸块嵌入凹槽，从而使得若干拼合部之间相互支撑，从而提高拼合部拼合后的强度。
[0021]本技术进一步设置为：所述移动块采用聚乙烯材质。
[0022]通过采用上述技术方案,聚乙烯材质化学稳定性较好，在常温下耐酸、碱、盐类水溶液的腐蚀，使得移动块更加耐用。
[0023]综上所述，本技术具有以下有益效果：研磨装置静置不用时，通过移动移动块，移动块在滑槽内滑动，带动拼合部朝向基座内沿移动，从而使得若干扇形的拼合部相互拼合，形成遮蔽基座内沿的盖面，围挡、基座和盖面形成封闭空间，抛光盘位于其中，从而对抛光盘以及抛光盘内的磁流变液体起到防尘的效果，保持静置时磁流变液体的质量，打开时，反向进行上述操作，使得拼合部滑入滑槽内即可露出抛光盘，方便研磨装置的使用。
附图说明
[0024]图1为本技术的结构示意图；
[0025]图2为本技术中移动板的结构示意图；
[0026]图3为本技术中基座和围挡的剖视图；
[0027]图4为图3中A部的放大示意图；
[0028]图5为图3中B部的放大示意图；
[0029]图6为图3中C部的放大示意图。
[0030]图中：1、支架；2、抛光盘；3、基座；4、滑槽；5、移动块；6、拼合部；7、通槽；8、移动杆；9、传动环；10、卡齿；11、齿轮；12、齿条；13、围挡；14、锁止杆；15、锁止块；16、锁止槽；17、通道；18、滑动座；19、环槽；20、凹槽；21、凸块。
具体实施方式
[0031]下面结合附图和实施例，对本技术进行详细描述。
[0032]一种磁流变研磨装置，如图1、图2和图4所示，包括支架1，支架1转动连接有抛光盘2，支架1上焊接有呈环形设置的围挡13，围挡13的上端焊接有呈环状设置的基座3，抛光盘2位于基座3和围挡13之间，基座3内开设有若干与其内沿和外沿连通的滑槽4，若干滑槽4呈环状阵列分布，滑槽4内滑动连接有移动块5，移动块5采用聚乙烯材质，聚乙本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种磁流变研磨装置，其特征在于：包括支架(1)，所述支架(1)上设有抛光盘(2)，所述支架(1)上设有呈环形设置的围挡(13)，所述围挡(13)的上端设有呈环状设置的基座(3)，所述抛光盘(2)位于基座(3)和围挡(13)之间，所述基座(3)内开设有若干与其内沿和外沿连通的滑槽(4)，所述滑槽(4)内滑动连接有移动块(5)，所述移动块(5)包括呈扇形设置的拼合部(6)，若干所述移动块(5)上的拼合部(6)相抵触形成用于封闭基座(3)内沿的盖面。2.根据权利要求1所述的一种磁流变研磨装置，其特征在于：所述基座(3)上开设有若干沿滑槽(4)长度方向设置的通槽(7)，所述通槽(7)与滑槽(4)连通，所述移动块(5)上固定连接有穿过通槽(7)的移动杆(8)。3.根据权利要求1所述的一种磁流变研磨装置，其特征在于：所述基座(3)内转动连接有呈环状且贯穿若干滑槽(4)的传动环(9)，所述传动环(9)内沿设有若干卡齿(10)，所述滑槽(4)内转动连接有与卡齿(10)相啮合的齿轮(11)，所述移动块(5)上固定连接有沿滑槽(4)长度方向设置的齿条(12)，所述齿条(12)与齿轮...
【专利技术属性】
技术研发人员：吕新宇，巴翠兰，江霞，张进，陈森军，
申请(专利权)人：绍兴自远磨具有限公司，
类型：新型
国别省市：
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