一种刻蚀物去除装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种刻蚀物去除装置，包括：接板室、温度控制室、湿法刻蚀室、出板室和传送装置，以及位于温度控制室内的控温系统，刻蚀物在传送装置的带动下，依次通过接板室、湿法刻蚀室和出板室；还包括清洗机构，包括位于接板室和湿法刻蚀室之间的第一清洗室；位于湿法刻蚀室和出板室之间的第二清洗室；以及位于第二清洗室和出板室之间的干燥室；清洗机构包括溢流槽，溢流槽为上开口结构，用于去除漂浮杂质；传送装置包括由若干传送辊并行排列组成的的传送棍路，本实用新型专利技术通过溢流的方式去除刻蚀漂浮杂质，省去了高压冲洗的步骤，且设备成本较低，并且通过后续高压吸气去除水分，在干燥的同时还能够对杂质起到进一步的去除作用。作用。作用。

【技术实现步骤摘要】
一种刻蚀物去除装置


[0001]本技术涉及湿法刻蚀
，尤其涉及一种刻蚀物去除装置。

技术介绍

[0002]湿法刻蚀工艺主要是指采用液态化学药品对刻蚀物进行去除的刻蚀技术。湿法刻蚀是采用适当的刻蚀液与刻蚀物进行化学反应，以改变刻蚀物的结构以及刻蚀物表面的形貌，使刻蚀物产生陷光结构及后续镀膜要求的形貌结构。
[0003]当下在刻蚀完成后，通常需要高压冲洗，且采用压辊的方式施压对液体进行收集，全程采用高压操作，容易导致残留杂质对本体结构冲击产生影响，从而导致刻蚀效果被破坏，当下还没有通过溢流清洗以及高压吸气的柔性清洗方式应用在湿法刻蚀过程的装置。

技术实现思路

[0004]本技术克服了现有技术的不足，提供一种刻蚀物去除装置。
[0005]为达到上述目的，本技术采用的技术方案为：一种刻蚀物去除装置，包括：接板室、温度控制室、湿法刻蚀室、出板室和传送装置，以及位于所述温度控制室内的控温系统，其特征在于：刻蚀物在所述传送装置的带动下，依次通过所述接板室、所述温度控制室、所述湿法刻蚀室和所述出板室；还包括清洗机构，包括位本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种刻蚀物去除装置，包括：接板室、温度控制室、湿法刻蚀室、出板室和传送装置，以及位于所述温度控制室内的控温系统，其特征在于：刻蚀物在所述传送装置的带动下，依次通过所述接板室、所述温度控制室、所述湿法刻蚀室和所述出板室；还包括清洗机构，包括位于所述接板室和所述湿法刻蚀室之间的第一清洗室；位于所述湿法刻蚀室和所述出板室之间的第二清洗室；以及位于所述第二清洗室和所述出板室之间的干燥室；所述清洗机构包括溢流槽，所述溢流槽为上开口结构，用于去除漂浮杂质；所述传送装置包括由若干传送辊并行排列组成...

【专利技术属性】
技术研发人员：代智杰，周广福，韩广龙，
申请(专利权)人：苏州昶明微电子科技合伙企业有限合伙，
类型：新型
国别省市：