【技术实现步骤摘要】
MPCVD法单晶金刚石制造装置及其制造方法
[0001]本专利技术涉及金刚石制造
,具体是MPCVD法单晶金刚石制造装置及其制造方法。
技术介绍
[0002]生长MPCVD单晶金刚石所用气源主要有氢气、甲烷、氮气和氧气,在微波作用下裂解成H、O、N原子或CH2、CH3、C2H2、OH等基团,含碳基团将在金刚石表面形成气固混合界面,在动态平衡模型或非平衡热力学 模型下实现金刚石、非晶碳或石墨的生长。,氢等离子体刻蚀非晶碳或石墨的速度比刻蚀金刚石快得多,因此CVD金刚石表面的非金刚石相被快速刻蚀,从而实现金刚石生长,金刚石生长所用的设备组成包括控制单元、微波单元、水冷单元、真空单元等,通过真空单元将腔体抽真空,保证金刚石生长所需低真空状态。
[0003]同质外延金刚石时,衬底的好坏直接影响着外延金刚石的质量,金刚石衬底需要尽可能的平滑、无明显 裂纹,否则金刚石在生长过程中容易形成孪晶、多晶、位错等缺陷,甚至出现开裂现象, 一般新购买或制备的的金刚石衬底表面的粗糙度较大,甚至有明显的研磨痕迹,因此需要使用研磨机对金刚石表面进行精细抛光处理,选定衬底后,需要使用去离子水、酒精、丙酮反复超声波清洗金刚石样品,以洗去金刚石样品表面明显的污渍,然后,分别使用酸、碱,在高温下清洗金刚石样品表面,除去金刚石表面的非金刚石相。
[0004]但是现有的MPCVD法单晶金刚石制造装置及其制造方法,金刚石衬底的处理环节是完全脱离于金刚石的生长设备的,也就是说都是人工按照一定的清理顺序依次将金刚石衬底放入不同的清理设备内, ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.MPCVD法单晶金刚石制造装置,包括金刚石生长室(1)、微波发生器(2)、波导管(21)、等离子体释放阀(22)、金刚石衬底(3)和样品台(4),所述微波发生器(2)通过波导管(21)连接等离子体释放阀(22),所述金刚石衬底(3)固定在样品台(4)上,所述等离子体释放阀(22)和金刚石衬底(3)均位于金刚石生长室(1)内,所述等离子体释放阀(22)位于金刚石衬底(3)的正上方,其特征在于,还包括衬底处理室(6)和水冷循环机构(9),所述衬底处理室(6)与金刚石生长室(1)之间设置有通道,所述通道内设置有密封组件(5),所述衬底处理室(6)内设置有衬底处理机构(7),所述样品台(4)上远离金刚石衬底(3)的一侧连接有升降组件(8),所述水冷循环机构(9)内设置有水循环组件(93);以及与水循环组件(93)连接的第一循环管(92)和第二循环管(94),所述样品台(4)包括导热盖板(41)和第一壳体(42),所述水循环组件(93)安装在第一壳体(42)内,所述金刚石衬底(3)安装在导热盖板(41)表面,所述导热盖板(41)上远离金刚石衬底(3)的一面与水循环组件(93)表面贴合,所述第一壳体(42)、第一循环管(92)和第二循环管(94)均安装在升降组件(8)上。2.根据权利要求1所述的MPCVD法单晶金刚石制造装置,其特征在于,所述衬底处理机构(7)包括骨架(71)、打磨部(72)、清洗部(73)、第三驱动部(74)和供液设备(75),所述打磨部(72)和清洗部(73)均与第三驱动部(74)啮合连接,且清洗部(73)还与清洗部(73)连接,所述骨架(71)包括伸缩件(711)、第一安装架(712)、第二驱动部(713)、第一转动管(714)、第一传动齿轮(715)和第二安装架(716),所述伸缩件(711)的一端安装在衬底处理室(6)内壁,所述第一安装架(712)安装在伸缩件(711)的另一端,所述供液设备(75)安装在第一安装架(712)上,所述第一安装架(712)通过第一转动管(714)连接第二安装架(716),所述第一转动管(714)与第一安装架(712)转动连接,所述第一转动管(714)上安装有第一传动齿轮(715),所述第一安装架(712)上安装的第二驱动部(713)与第一传动齿轮(715)啮合连接,所述打磨部(72)、清洗部(73)和第三驱动部(74)均安装在第二安装架(716)上。3.根据权利要求2所述的MPCVD法单晶金刚石制造装置,其特征在于,所述打磨部(72)包括磨盘(721)、转动轴(722)和第二传动齿轮(723),所述磨盘(721)通过转动轴(722)转动连接在第二安装架(716)上,所述转动轴(722)上安装有与第三驱动部(74)啮合连接的第二传动齿轮(723),所述清洗部(73)包括第二壳体(731)、第二转动管(732)、第三传动齿轮(733)、喷液孔(734)和海绵条(735),所述第二壳体(731)通过第二转动管(732)转动连接在第二安装架(716)上,所述第二转动管(732)上安装有与第三驱动部(74)啮合连接的第三传动齿轮(733),所述第二转动管(732)的端部还插合连接有导液管(751),所述导液管(751)套设于第一转动管(714)内,且导液管(751)的另一端与供液设备(75)连接,所述第二壳体(731)表面设置有若干个喷液孔(734)和海绵条(735)。4.根据权利要求3所述的MPCVD法单晶金刚石制造装置,其特征在于,所述水冷循环机构(9)还包括位于衬底处理室(6)内的循环驱动设备(91),所述循环驱动设备(91)设置有出液管和进液管,所述第一循环管(92)的一端和第二循环管(94)的一端分别均通过伸缩管连接出液管和进液管,所述水循环组件(93)包括柱形壳体(931)和环形连通管(...
【专利技术属性】
技术研发人员:李森淼,李凯,
申请(专利权)人:徐州景澜新材料科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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