一种连续批量大面积均匀镀膜热丝化学气相沉积设备及方法技术

本发明专利技术涉及化学气相沉积薄膜制备技术领域，具体地说，涉及一种连续批量大面积均匀镀膜热丝化学气相沉积设备及方法。包括设备箱体，设备箱体内从左至右依次设有进样室、镀膜室和出样室，进样室与镀膜室之间、镀膜室与出样室之间分别设有进样插板阀和出样插板阀，设备箱体内底面等距设有若干滑轨，滑轨上滑动连接有用于承托基片的基片支架。本发明专利技术设计的设备中使热场更均匀，提高镀膜质量；拉丝更长可以达到更大面积的镀膜；一次拉丝可连续进行多次镀膜，大大减少浪费，延长热丝的使用寿命；并实现批量化生产；其应用方法可以将制备过程中的各个环节进行优化重组，达到连续化、批量化、大面积、均匀镀膜效果，提高镀膜效率及质量、降低生产成本。低生产成本。低生产成本。

【技术实现步骤摘要】
一种连续批量大面积均匀镀膜热丝化学气相沉积设备及方法


[0001]本专利技术涉及化学气相沉积薄膜制备
，具体地说，涉及一种连续批量大面积均匀镀膜热丝化学气相沉积设备及方法。

技术介绍

[0002]目前热丝化学气相沉积方法制备薄膜材料是一种广泛应用的方法，可以制备诸如金刚石薄膜、类金刚石薄膜等多种薄膜材料。然而，现有的热丝化学气相沉积设备只有一个腔室，每次镀膜后都需要释放真空、更换热丝、重新抽真空，造成热丝、气源等材料和用电的严重浪费；另外目前的热丝化学气相沉积设备均采用单层水平面热丝排布，由于自重限制，热丝不宜过长，每次仅能对一层基片的一面镀膜，且热场分布不均匀，使得生产效率底下，镀膜成本较高，质量较差，严重限制了实际应用，市场迫切需要新型的热丝化学气相沉积设备及工艺方法来提高镀膜效率，降低成本。鉴于此，我们提出了一种连续批量大面积均匀镀膜热丝化学气相沉积设备及方法。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的在于提供一种连续批量大面积均匀镀膜热丝化学气相沉积设备及方法，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0004本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种连续批量大面积均匀镀膜热丝化学气相沉积设备，包括设备箱体(1)，其特征在于：所述设备箱体(1)内从左至右依次设有进样室(11)、镀膜室(12)和出样室(13)，所述进样室(11)与所述镀膜室(12)之间设有进样插板阀(2)，所述镀膜室(12)与所述出样室(13)之间设有出样插板阀(3)，所述设备箱体(1)内底面上平行设有若干滑轨(4)，所述滑轨(4)上滑动连接有用于承托基片(8)的基片支架(5)，每道所述滑轨(4)的前后两侧均并排设有两根热丝支架(6)，两根所述热丝支架(6)之间平行设有若干镀膜热丝(7)。2.根据权利要求1所述的连续批量大面积均匀镀膜热丝化学气相沉积设备，其特征在于：所述进样插板阀(2)、所述出样插板阀(3)均为真空插板阀。3.根据权利要求2所述的连续批量大面积均匀镀膜热丝化学气相沉积设备，其特征在于：所述进样插板阀(2)、所述出样插板阀(3)均集成在所述设备箱体(1)内。4.根据权利要求3所述的连续批量大面积均匀镀膜热丝化学气相沉积设备，其特征在于：所述滑轨(4)横向跨越所述进样室(11)、所述镀膜室(12)和所述出样室(13)。5.根据权利要求4所述的连续批量大面积均匀镀膜热丝化学气相沉积设备，其特征在于：所述滑轨(4)连接所述基片支架(5)用于将基片(8)从进样室(11)送至镀膜室(12)、从镀膜室(12)送至出样室(13)。6.根据权利要求5所述的连续批量大面积均匀镀膜热丝化学气相沉积设备，其特征在于：所述基片支架(5)滑动连接在所述滑轨(4)上，所述基片支架(5)通过滑轨(4)带动所述基片(8)在镀膜时来回摆动。7.根据权利要求6所述的连续批量大面积均匀镀膜热丝化学气相沉积设备，其特征在于：两根上下位置相对应的所述热丝支架(...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈志刚，盖志刚，姜辛，王宜豹，柴旭，郭风祥，张妹，刘寿生，孙小玲，王韶琰，胡鼎，张丽丽，张学宇，周雪松，夏广森，
申请(专利权)人：山东省科学院海洋仪器仪表研究所，
类型：发明
国别省市：