【技术实现步骤摘要】
清洁系统、曝光机台及清洁方法
[0001]本专利技术涉及半导体制造
,尤其涉及一种清洁系统、曝光机台及清洁方法。
技术介绍
[0002]曝光机台的浸没罩中存在超纯水,在维持水流稳定时需要数量较多的进水孔和出水孔。当一些进水孔或出水孔堵塞时,会造成浸没罩的水流不稳、存在气泡或者水流分布不均等问题,进而造成晶圆表面缺陷。
[0003]为检测和清洁浸没罩上堵塞的孔洞,现有的浸没罩通孔检测方案为:将曝光机台停机,对浸没罩的孔洞进行逐一检测,并在发现堵塞的孔洞时,采用手动清理方式去除污染源。
[0004]然而,上述现有检测和清洁方案中,由于采用手动清理、拆装曝光机台的方式,为工程师增加了大量工作量,且拆装过程中容易出现结构损伤。并且,上述现有方案中,需要在检测和清理前将曝光机台停机,导致曝光机台停机和重启都需要耗费较长时间,严重影响曝光机台的产能。
技术实现思路
[0005]本专利技术的一个主要目的在于克服上述现有技术的至少一种缺陷,提供一种无需曝光机停机即可自动清洁浸没罩的通孔的清洁系统。 />[0006]为实本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种清洁系统,其特征在于,所述清洁系统集成于曝光机台中,所述曝光机台包含浸没罩及可平移地设置于所述浸没罩下方的工作台;所述清洁系统包含:图像采集单元,设置于所述工作台表面,用以采集所述浸没罩的通孔的图像信息;清洁单元,包含清洁管及真空泵,所述清洁管设置于所述工作台内部,且一端由所述工作台顶面伸出,所述真空泵连接于所述清洁管另一端;以及控制单元,电连接于所述图像采集单元和所述真空泵;其中,所述控制单元用以根据所述图像信息判断所述通孔是否堵塞,控制所述工作台平移,使所述清洁管一端位于堵塞的所述通孔的正下方,并控制所述真空泵通过所述清洁管对堵塞的所述通孔施加负压,以清洁所述浸没罩。2.根据权利要求1所述的清洁系统,其特征在于,所述清洁单元还包含:驱动机构,设置于所述工作台内部,所述驱动机构用以驱动所述清洁管移动,而使所述清洁管一端可伸缩地由所述工作台顶面伸出;其中,所述控制单元电连接于所述驱动机构,据此控制所述驱动机构驱动所述清洁管,使所述清洁管一端与堵塞的所述通孔连通。3.根据权利要求2所述的清洁系统,其特征在于,所述清洁管上设置有驱动固定结构,所述驱动固定结构连接于所述驱动机构,以供所述驱动机构通过所述驱动固定结构驱动所述清洁管移动。4.根据权利要求2所述的清洁系统,其特征在于,所述驱动机构包含电机、主动轮、从动轮、传动带及连接件,所述电机用以驱动所述主动轮,所述主动轮通过所述传动带与所述从动轮传动连接,所述连接件连接于所述传动带与所述清洁管之间。5.根据权利要求1所述的清洁系统,其特征在于,所述清洁管伸出于所述工作台顶面的一端设置有接头,所述工作台顶面设置有卡扣,所述清洁管一端设置的接头穿过所述卡扣,以使所述卡扣与所述接头单向卡接固定。6.根据权利要求1所述的清洁系统,其特征在于,所述清洁单元还包含:定位导向管,设置于所述工作台内部,并具有第一段和第二段,所述第一段沿水平方向延伸,所述第二段一端连接于所述第一段,另一端弯曲向上延伸;其中,所述清洁管穿设于所述定位导向管内,以使所述清洁管一端保持沿竖直方向伸出于所述工作台顶面,且另一端沿水平方向延伸。7.根据权利要求1所述的清洁系统,其特征在于,所述清洁单元还包含:控制阀组,设置于所述清洁管上...
【专利技术属性】
技术研发人员:房璐璐,梁学玉,
申请(专利权)人:长鑫存储技术有限公司,
类型:发明
国别省市:
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