一种光刻机硅片台双工位交换装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种光刻机硅片台双工位交换装置，包括底座，所述底座底部两端设有两个立架，两个立架之间设有水平设置的滑杠。电机架将电机和滑座连接为一个整体，进行齿轮传动时，两个滑座可同步移动，一个滑座移动至工作位，另一个滑座远离工作位，实现工作位切换，此时，远离工作位的滑座可准备对准等辅助工作，提高工作效率；需要对工位台的高度位置进行调节，此时，工位台底部连接有螺杆，螺杆与滑座螺纹连接，通过转动螺杆，可实现螺杆上下移动，进而实现对滑座高度调节，提高其适用性；储油瓶内润滑油在重力作用下会充满储油槽，当润滑套移动时，储油槽内的润滑油会均匀涂在滑杠上，实现无间断润滑。实现无间断润滑。实现无间断润滑。

【技术实现步骤摘要】
一种光刻机硅片台双工位交换装置


[0001]本技术涉及光刻机
，尤其涉及一种光刻机硅片台双工位交换装置。

技术介绍

[0002]在集成电路芯片的生产过程中，芯片的设计图形在硅片表面光刻胶上的曝光转印(光刻)是其中最重要的工序之一，该工序所用的设备称为光刻机(曝光机)；传统的硅片台，光刻机中只有一个硅片运动定位单元，即一个硅片台。调平调焦等准备工作都要在上面完成，这些工作所需的时间很长，特别是对准，由于要求进行精度极高的低速扫描，因此所需时间很长，导致工作效率不高。

技术实现思路

[0003]本技术的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种光刻机硅片台双工位交换装置。
[0004]为了实现上述目的，本技术采用了如下技术方案：
[0005]一种光刻机硅片台双工位交换装置，包括底座，所述底座底部两端设有两个立架，两个立架之间设有水平设置的滑杠，滑杠上滑动设有两个滑座，两个滑座由驱动装置驱动沿水平方向同步移动，往复切换位置，滑座上方设有可上下调节的工位台。
[0006]优选地，所述驱动装置包括电机，电机本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光刻机硅片台双工位交换装置，包括底座(1)，其特征在于，所述底座(1)底部两端设有两个立架(2)，两个立架(2)之间设有水平设置的滑杠(3)，滑杠(3)上滑动设有两个滑座(4)，两个滑座(4)由驱动装置驱动沿水平方向同步移动，往复切换位置，滑座(4)上方设有可上下调节的工位台(5)。2.根据权利要求1所述的一种光刻机硅片台双工位交换装置，其特征在于，所述驱动装置包括电机，电机通过电机架(7)分别与两个滑座(4)链接，电机的输出端连接有齿轮(8)，所述底座(1)上安装有与齿轮(8)相对应的齿条(12)。3.根据权利要求2所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：周杰，张琪，李俊毅，符友银，
申请(专利权)人：安徽睿芯半导体科技有限公司，
类型：新型
国别省市：