浸润液控制装置、曝光机设备及检测浸润液污染的方法制造方法及图纸

本申请公开了一种浸润液控制装置、曝光机设备及检测浸润液污染的方法，该浸润液控制装置，包括：真空抽气管道，其与浸润液供给装置的真空抽气口连通；检测部件，其安装于所述真空抽气管道的内壁，所述检测部件用于检测所述真空抽气管道内的气体流速。通过检测部件对真空抽气管道内的气体流速进行检测，可判断出浸润液流场上是否堆积有污染物，若堆积有污染物则需要及时进行清除，可避免堆积的污染物掉落在浸润液下面的晶圆上，进而可提高制程中的产品良率。良率。良率。

【技术实现步骤摘要】
浸润液控制装置、曝光机设备及检测浸润液污染的方法


[0001]本申请涉及半导体光刻曝光的
，特别涉及一种浸润液控制装置、曝光机设备及检测浸润液污染的方法。

技术介绍

[0002]现代光刻设备以光学光刻为基础，它利用光学系统把掩膜版上的图形精确地投影曝光到涂过光刻胶的衬底(如硅片)上。浸润式曝光(或浸没式光刻)是指在曝光镜头与硅片之间充满水(或其他浸没浸液)形成浸润液流场，以取代传统干式光刻技术中对应的空气，例如曝光机为了获取更佳分辨率，在Lens(透镜)与待曝光晶圆的介面加入水(或其他浸润液)。保持浸润液在曝光区域内的光学一致性和透明度，是保障浸润式光刻曝光质量的关键。由于浸润式曝光机的抽气口和载台上待曝光晶圆的间隙小，一般在300um以下，这样在生产过程中的挥发物和微尘等污染物掉落后无法发现，会造成产品的缺陷，影响产品良率。

技术实现思路

[0003]本申请实施例提供一种浸润液控制装置、曝光机设备及检测浸润液污染的方法。
[0004]本申请的第一方面提供了一种浸润液控制装置，包括：真空抽气管道，其与浸润液供给装置的真空抽气口连通；检测部件，其安装于所述真空抽气管道的内壁，所述检测部件用于检测所述真空抽气管道内的气体流速。
[0005]一些实施例中，浸润液控制装置，还包括：支架，所述支架的一端与所述真空抽气管道的外壁连接，所述支架的另一端插入所述真空抽气管道内，所述检测部件位于所述支架的另一端。
[0006]一些实施例中，所述支架包括立杆和所述立杆连接的探杆，所述立杆沿所述真空抽气管道的长度方向的外壁设置，所述探杆插入所述真空抽气管道内。
[0007]一些实施例中，所述检测部件为微型传感器。
[0008]一些实施例中，所述检测部件位于距离所述真空抽气管道的入口的5
‑
10mm处。
[0009]一些实施例中，所述检测部件沿所述真空抽气管道的内径呈圆周间隔分布。
[0010]一些实施例中，所述立杆内设有第一空腔，所述探杆内设有第二空腔，所述第一空腔和第二空腔连通，且所述第一空腔和第二空腔用于所述检测部件的传输导线的容纳且导向至所述真空抽气管道外。
[0011]一些实施例中，所述探杆的长度设为100
‑
150um。
[0012]一些实施例中，所述微型传感器的直径为10～15um。
[0013]一些实施例中，所述真空抽气管道的内径大于所述真空抽气口的尺寸。
[0014]一些实施例中，所述检测部件呈圆周分布的直径等于或大于所述真空抽气口的尺寸。
[0015]一些实施例中，所述检测部件的测量范围位于：气体流速为0～50m/s。
[0016]本申请的第二方面提供了一种曝光机设备，包括：浸润液供给装置，其具有真空抽
气口；以及浸润液控制装置，浸润液控制装置的真空抽气管道与所述真空抽气口连通。
[0017]本申请的第三方面提供了一种检测浸润液污染的方法，包括：检测浸润液控制装置的真空抽气管道内的气体流速；判断获取到的真空抽气管道内的气体流速是否超过设定的阈值，若气体流速超过设定的阈值，则发送报警信号。
[0018]一些实施例中，检测浸润液控制装置的真空抽气管道内的气体流速包括：当获取到的真空抽气管道内的气体流速为0～2m/s时，测量精度为
±
0.1m/s与测量值的5％相加的值；当获取到的真空抽气管道内的气体流速为2～15m/s时，测量精度为
±
0.3m/s与测量值的5％相加的值。
[0019]本申请的上述技术方案至少具有如下有益的技术效果：
[0020]本申请实施例的技术方案通过检测部件对真空抽气管道内的气体流速进行检测，可判断出浸润液流场上是否堆积有污染物，若堆积有污染物则需要及时进行清除，可避免堆积的污染物掉落在浸润液下面的晶圆上，进而可提高制程中的产品良率。
附图说明
[0021]图1是根据本申请第一实施方式提供的曝光机设备的结构示意图；
[0022]图2为图1的Ⅰ处放大视图；
[0023]图3为图1的A向视图；
[0024]图4是根据本申请第二实施方式提供的浸润液控制装置的结构示意图；
[0025]图5是根据本申请第三实施方式提供的检测浸润液污染的方法流程图；
[0026]图6是本申请实施例提供的气体流速检测图表。
具体实施方式
[0027]为使本申请的目的、技术方案和优点更加清楚明了，下面结合具体实施方式并参照附图，对本申请进一步详细说明。应该理解，这些描述只是示例性的，而并非要限制本申请的范围。此外，在以下说明中，省略了对公知结构和技术的描述，以避免不必要地混淆本申请的概念。
[0028]可以理解，本申请所使用的术语“第一”、“第二”等可在本文中用于描述各种元件，但这些元件不受这些术语限制。这些术语仅用于将第一个元件与另一个元件区分。举例来说，在不脱离本申请的范围的情况下，可以将第一电阻称为第二电阻，且类似地，可将第二电阻称为第一电阻。第一电阻和第二电阻两者都是电阻，但其不是同一电阻。
[0029]在此使用时，单数形式的“一”、“一个”和“所述/该”也可以包括复数形式，除非上下文清楚指出另外的方式。还应当理解的是，术语“包括/包含”或“具有”等指定所陈述的特征、整体、步骤、操作、组件、部分或它们的组合的存在，但是不排除存在或添加一个或更多个其他特征、整体、步骤、操作、组件、部分或它们的组合的可能性。同时，在本说明书中使用的术语“和/或”包括相关所列项目的任何及所有组合。
[0030]如图1所示，浸润式曝光机设备包括：晶圆载台100，用于承载待曝光晶圆101；浸润液供给装置102，设置于待曝光晶圆101上方，用于形成浸润液流场103，其中，曝光光源经由浸润液流场103实现对待曝光晶圆101的曝光；以及边缘限液装置104，设置于晶圆载台100上，且边缘限液装置104位于待曝光晶圆101的外围，并与待曝光晶圆101的外缘之间具有间
距。
[0031]在一示例中，晶圆载台100承载待曝光晶圆101并带动待曝光晶圆101作高速的扫描、步进等动作；浸润液供给装置102可以形成浸润液流场103，如根据晶圆载台100的运动状态，在曝光物镜,例如是透镜105的视场范围内，提供一个稳定的浸润液流场103，同时保证浸润液流场103与外界的密封，保证浸润液不泄漏；在一示例中，待曝光晶圆101包括待处理晶圆和形成于待处理晶圆上表面的光刻胶，在曝光过程中，光路经由透镜105、浸润液流场103、光刻胶以及待处理晶圆，将掩膜板上的图形转移至光刻胶上。
[0032]在一示例中，如图1所示，对于浸润液供给装置102，其位于待曝光晶圆101的上方，可以与待曝光晶圆的上表面之间具有一定的间隙，该间隙处形成部分浸润液流场103，浸润液流场103可以直接覆盖待曝光晶圆101的上表面，另外，该间隙大小的选择可以依据实际需求设定，一般设定为300um本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种浸润液控制装置，其特征在于，包括：真空抽气管道，其与浸润液供给装置的真空抽气口连通；检测部件，其安装于所述真空抽气管道的内壁，所述检测部件用于检测所述真空抽气管道内的气体流速。2.根据权利要求1所述的浸润液控制装置，其特征在于，还包括：支架，所述支架的一端与所述真空抽气管道的外壁连接，所述支架的另一端插入所述真空抽气管道内，所述检测部件位于所述支架的另一端。3.根据权利要求2所述的浸润液控制装置，其特征在于，所述支架包括立杆和与所述立杆连接的探杆，所述立杆沿所述真空抽气管道的长度方向的外壁设置，所述探杆插入所述真空抽气管道内。4.根据权利要求3所述的浸润液控制装置，其特征在于，所述检测部件为微型传感器。5.根据权利要求4所述的浸润液控制装置，其特征在于，所述检测部件位于距离所述真空抽气管道的入口的5
‑
10mm处。6.根据权利要求4所述的浸润液控制装置，其特征在于，所述检测部件沿所述真空抽气管道的内径间隔分布。7.根据权利要求3所述的浸润液控制装置，其特征在于，所述立杆内设有第一空腔，所述探杆内设有第二空腔，所述第一空腔和第二空腔连通，且所述第一空腔和第二空腔用于所述检测部件的传输导线的容纳且导向至所述真空抽气管道外。8.根据权利要求4所述的浸润液控制装置，其特征在于，所述探杆的长度设为100
‑
150um。9.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：张燕妮，
申请(专利权)人：长鑫存储技术有限公司，
类型：发明
国别省市：