一种硅晶片抛光大盘冷却装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种硅晶片抛光大盘冷却装置，涉及硅晶片抛光设备技术领域，包括：盘体，盘体内开设有冷却液通道，冷却液通道的两端均设有开口朝下的进水口和出水口，冷却液通道的上壁面对应于进水口和出水口的位置设有向上延伸的反水槽；通入冷却液时，只要保证反水槽内冷却液的液位高于冷却液通道的上壁面即可保证冷却液充满通道，进而提高冷却效率。进而提高冷却效率。进而提高冷却效率。

【技术实现步骤摘要】
一种硅晶片抛光大盘冷却装置


[0001]本技术涉及硅晶片抛光设备
，特别是涉及一种硅晶片抛光大盘冷却装置。

技术介绍

[0002]硅晶片需要固定在抛光大盘精磨，精磨过程中温度会升高，高温会使硅晶片破裂，导致硅晶片及抛光大盘的报废，抛光大盘需要冷却装置；传统的冷却装置的水道由于重力原因，冷却液上表面难以接触到上板，冷却效率降低。

技术实现思路

[0003]本技术的目的是提供一种硅晶片抛光大盘冷却装置，以解决上述现有技术存在的问题，提高冷却效率。
[0004]为实现上述目的，本技术提供了如下方案：
[0005]本技术提供一种硅晶片抛光大盘冷却装置，包括：盘体，所述盘体内开设有冷却液通道，所述冷却液通道的两端均设有开口朝下的进水口和出水口，所述冷却液通道的上壁面对应于所述进水口和所述出水口的位置设有向上延伸的反水槽。
[0006]优选的，所述冷却液通道呈盘旋状。
[0007]优选的，所述盘体内开设有两个所述冷却液通道，两个所述冷却液通道交错盘旋设置于所述盘体内，两个所述冷却液通道中冷却液的流向相反。
[0008]优选的，所述盘体包括上板和下板，所述上板和所述下板相对且固定连接，所述冷却液通道开设于所述上板朝向所述下板的一端面上，所述下板朝向所述上板的一侧设置有第一过水通道和第二过水通道，所述第一过水通道与两个所述冷却液通道的出水口均连通，所述第一过水通道上还设置有总出水口；所述第二过水通道与两个所述冷却液通道的进水口均连通，所述第二过水通道上还设置有总进水口。/>[0009]优选的，下板朝向所述上板的一端面上开设有两个流水槽，两个所述流水槽的底面上分别开设有总进水口和总出水口，两个所述流水槽上分别盖设有第一连接桥和第二连接桥并形成所述第一过水通道和所述第二过水通道，所述第一连接桥上设置有两个子出水口，两个所述子出水口能够与两个所述出水口对接并连通，所述第二连接桥上设置有两个子进水口，两个所述子进水口能够与两个所述进水口对接并连通。
[0010]优选的，所述上板和所述下板密封焊接。
[0011]优选的，所述上板上还嵌入固定有温度检测装置。
[0012]本技术相对于现有技术取得了以下技术效果：
[0013]本技术提供的硅晶片抛光大盘冷却装置中的冷却液通道的进水口和出水口朝下开设，冷却液通道的上壁面对应于进水口和出水口的位置设有向上延伸的反水槽，区别于传统的硅晶片抛光大盘冷却装置中的冷却液通道，传统的硅晶片抛光大盘冷却装置中的冷却液通道也是下进水和下出水，而由于其并未设置反水槽，这就导致冷却液在通道中
流动时，由于重力原因，冷却液难以填满整个通道，直接导致通道的上壁面不与冷却液接触，降低了冷却效率，而本技术提供的硅晶片抛光大盘冷却装置中的冷却液通道内设置有反水槽，通入冷却液时，只要保证反水槽内冷却液的液位高于冷却液通道的上壁面即可保证冷却液能够充满通道，进而提高冷却效率。
附图说明
[0014]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0015]图1为本技术提供的硅晶片抛光大盘冷却装置中上板的结构示意图；
[0016]图2为本技术提供的硅晶片抛光大盘冷却装置中下板的结构示意图；
[0017]图3为本技术提供的硅晶片抛光大盘冷却装置中第一连接桥的结构示意图；
[0018]图4为本技术提供的硅晶片抛光大盘冷却装置截面结构示意图；
[0019]图中：1
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冷却液通道、2
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进水口、3
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出水口、4
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温度检测装置、5
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上板、6
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下板、7
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流水槽、8
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总进水口、9
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总出水口、10
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第一连接桥、11
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子出水口。
具体实施方式
[0020]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0021]本技术的目的是提供一种硅晶片抛光大盘冷却装置，以解决现有技术存在的问题，提高冷却效率。
[0022]为使本技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图和具体实施方式对本技术作进一步详细的说明。
[0023]本技术提供一种硅晶片抛光大盘冷却装置，如图1～4所示，包括：盘体，盘体内开设有冷却液通道1，冷却液通道1的两端均设有开口朝下的进水口2和出水口3，冷却液通道1的上壁面对应于进水口2和出水口3的位置设有向上延伸的反水槽。
[0024]本技术提供的硅晶片抛光大盘冷却装置中的冷却液通道1的进水口2和出水口3朝下开设，冷却液通道1的上壁面对应于进水口2和出水口3的位置设有向上延伸的反水槽，区别于传统的硅晶片抛光大盘冷却装置中的冷却液通道1，传统的硅晶片抛光大盘冷却装置中的冷却液通道1也是下进水和下出水，而由于其并未设置反水槽，这就导致冷却液在通道中流动时，由于重力原因，冷却液难以填满整个通道，直接导致通道的上壁面不与冷却液接触，降低了冷却效率，而本技术提供的硅晶片抛光大盘冷却装置中的冷却液通道1内设置有反水槽，通入冷却液时，只要保证反水槽内冷却液的液位高于冷却液通道1的上壁面即可保证冷却液能够充满通道，进而提高冷却效率。
[0025]进一步的，冷却液通道1呈盘旋状，冷却液通道1的起点靠近盘体的中心设置，冷却液通道1的末端靠近盘体的边缘设置，以便于在有限的面积上设置较长的通道，也能够使得
盘体各处的温度大致相同，进而提高冷却效率。
[0026]进一步的，盘体内开设有两个冷却液通道1，两个冷却液通道1交错盘旋设置于盘体内，两个冷却液通道1中冷却液的流向相反，可以使盘体各部位处的温度均匀。
[0027]进一步的，盘体包括上板5和下板6，上板5和下板6相对且固定连接，优选为焊接连接，冷却液通道1开设于上板5朝向下板6的一端面上，下板6能够将冷却液通道1密封，下板6朝向上板5的一侧设置有第一过水通道和第二过水通道，第一过水通道与两个冷却液通道1的出水口3均连通，第一过水通道上还设置有总出水口9；第二过水通道与两个冷却液通道1的进水口2均连通，第二过水通道上还设置有总进水口2，采用上述设置可实现仅设置一个进水管和出水管即可，节省了资源。
[0028]进一步的，下板6朝向上板5的一端面上开设有两个流水槽7，两个流水槽7的底本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种硅晶片抛光大盘冷却装置，其特征在于：包括：盘体，所述盘体内开设有冷却液通道，所述冷却液通道的两端均设有开口朝下的进水口和出水口，所述冷却液通道的上壁面对应于所述进水口和所述出水口的位置设有向上延伸的反水槽。2.根据权利要求1所述的硅晶片抛光大盘冷却装置，其特征在于：所述冷却液通道呈盘旋状。3.根据权利要求1所述的硅晶片抛光大盘冷却装置，其特征在于：所述盘体内开设有两个所述冷却液通道，两个所述冷却液通道交错盘旋设置于所述盘体内，两个所述冷却液通道中冷却液的流向相反。4.根据权利要求3所述的硅晶片抛光大盘冷却装置，其特征在于：所述盘体包括上板和下板，所述上板和所述下板相对且固定连接，所述冷却液通道开设于所述上板朝向所述下板的一端面上，所述下板朝向所述上板的一侧设置有第一过水通道和第二过水通道，所述第一过水通道与两个所述冷却液通道的出水...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙中臣，
申请(专利权)人：亿元达天津机电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：