本发明专利技术公开了一种硅片生产用高温臭氧氧化装置，包括工作台和壳体，所述壳体上设置有进料口和出料口，所述工作台的上侧壁设置有用于对硅片进行输送的输送机构，且输送机构通过驱动机构进行驱动，所述壳体内设置有多组用于对硅片进行加热的加热机构和用于对硅片表面进行氧化的氧化机构。该种硅片生产用高温臭氧氧化装置，采用陶瓷滚动轴对硅片进行输送，具有更好的耐高温性能，同时，在灯腔组内设置多个内置流道，向内置流道内通入循环冷却水，从而对下灯腔和上灯腔进行降温处理，避免高温对输送机构造成损坏，并且，在陶瓷滚动轴和传动轴之间设置有密封圈，起到缓震效果，能够避免输送过程中震动造成的影响，保证其使用寿命和输送效率。输送效率。输送效率。
【技术实现步骤摘要】
一种硅片生产用高温臭氧氧化装置
[0001]本专利技术涉及硅片生产
，尤其涉及一种硅片生产用高温臭氧氧化装置。
技术介绍
[0002]臭氧是一种绿色环保的强氧化剂，广泛地应用于消毒、灭菌、去除有机污染物、脱色除臭、食物保鲜和空气净化等诸多领域，其有效性已经得到了人们的一致认可。现有的硅片生产用高温臭氧氧化装置主要由输送机构、加热机构和臭氧氧化机构组成，在使用时，采用一定浓度的臭氧通过臭氧氧化机构在高温下对硅片表面进行氧化，从而形成一层氧化膜保护硅片。
[0003]然而，该种硅片生产用高温臭氧氧化装置在使用时，高温和震动容易导致输送机构损坏，需要经常维修和更换，浪费人力物力，同时，影响硅片的生产效率。
技术实现思路
[0004]为实现上述目的，本专利技术采用了如下技术方案：一种硅片生产用高温臭氧氧化装置，包括工作台和壳体，所述壳体上设置有进料口和出料口，所述工作台的上侧壁设置有用于对硅片进行输送的输送机构，且输送机构通过驱动机构进行驱动，所述壳体内设置有多组用于对硅片进行加热的加热机构和用于对硅片表面进行氧化的氧化机构，且加热机构和氧化机构位于输送机构的上方；
[0005]所述输送机构包括固定连接在工作台上侧壁两个对称设置的固定板，且固定板两个相对的侧壁通过传动轴转动连接有多个阵列设置的陶瓷滚动轴，所述陶瓷滚动轴套设在传动轴的侧壁上，且陶瓷滚动轴和传动轴之间设置有缓震组件，所述传动轴的侧壁固定套设有挡板；
[0006]各组所述加热机构包括灯腔组，且灯腔组包括下灯腔和上灯腔，所述下灯腔固定连接在工作台的上侧壁，且上灯腔设置在固定板的上侧壁上，所述陶瓷滚动轴插设在下灯腔内，且上灯腔的两端固定连接有灯罩壳，所述上灯腔内设置有加热灯管，且灯腔组内设置有降温组件。
[0007]优选的，所述缓震组件包括开设在各个传动轴侧壁上的多个环形槽，且环形槽内套设有密封圈，所述密封圈与陶瓷滚动轴的内侧壁相抵。
[0008]优选的，所述驱动机构包括固定连接在工作台侧壁上的驱动电机，所述驱动电机的输出端贯穿工作台的侧壁并固定连接有主动皮带轮，且位于同一侧的传动轴的一端贯穿固定板的侧壁并固定连接有从动皮带轮，所述工作台的侧壁设置有多个张紧轮，且从动皮带轮、张紧轮和主动皮带轮之间通过皮带传动。
[0009]优选的，所述降温组件包括设置在灯腔组内的内置流道，且内置流道的侧壁设置有进水管和出水管，所述进水管和出水管的另一端贯穿灯腔组的侧壁设置。
[0010]优选的，各个所述内置流道的侧壁开设有多个阵列设置的第一散热槽。
[0011]优选的，所述灯腔壳组的侧壁开设有多个阵列设置的第二散热槽。
[0012]优选的，各组所述氧化机构包括固定连接在固定板两个相对侧壁上两个对称设置的第一型材，且第一型材的上侧壁固定连接有臭氧框架，所述臭氧框架的上侧壁固定连接有两个对称设置的第二型材，且第二型材的上侧壁固定连接有顶板，所述臭氧框架的下方设置有U形的喷淋板，且喷淋板的下侧壁通过支撑条固定连接有喷淋面板，所述喷淋面板的侧壁设置有多个气孔，所述臭氧框架的侧壁设置有多个臭氧喷头，且臭氧喷头贯穿喷淋板的下侧壁设置。
[0013]本专利技术提供的技术方案带来的有益效果是：
[0014]1.本专利技术的硅片生产用高温臭氧氧化装置，通过设置缓震组件等，对硅片进行输送时，启动驱动电机，驱动电机的转动带动主动皮带轮的转动，进而通过张紧轮和皮带带动各个从动皮带轮进行转动，从动皮带轮的转动带动传动轴和陶瓷滚动轴的同步转动，从而对硅片进行输送，采用陶瓷滚动轴具有更好的耐高温性能，并且，在输送过程中，陶瓷滚动轴和传动轴之间设置有密封圈，起到缓震效果，能够避免输送过程中震动造成的影响，从而避免输送机构的损坏，保证其使用寿命和输送效率；
[0015]2.本专利技术的硅片生产用高温臭氧氧化装置，通过设置降温组件等，当对硅片进行高温加热时，启动加热灯管对硅片进行加热，通过在灯腔组内设置多个内置流道，并且，通过进水管和出水管的设置，保证向内置流道内通入循环冷却水，从而对下灯腔和上灯腔进行降温处理，并且，内置流道的侧壁设置有多个第一散热槽，灯腔组的侧壁设置有多个第二散热槽，增大散热面积，保证降温效果，避免高温对输送机构造成损坏，保证其使用寿命和输送效率。
附图说明
[0016]为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0017]图1是本专利技术的立体结构示意图；
[0018]图2是本专利技术的内部结构示意图；
[0019]图3是本专利技术中上灯腔的结构示意图；
[0020]图4是本专利技术中缓震组件的结构示意图；
[0021]图5是本专利技术的剖视结构示意图；
[0022]图6是本专利技术剖视结构另一个视角的结构示意图；
[0023]图7是图2中A处的放大结构示意图；
[0024]图8是图4中B处的放大结构示意图；
[0025]图9是图5中C处的放大结构示意图；
[0026]图10是图6中D处的放大结构示意图。
[0027]图中：101、工作台；102、壳体；103、进料口；104、出料口；201、固定板；202、传动轴；203、陶瓷滚动轴；204、挡板；301、从动皮带轮；302、驱动电机；303、主动皮带轮；304、张紧轮；305、皮带；401、下灯腔；402、上灯腔；403、灯罩壳；404、加热灯管；501、内置流道；502、进水管；503、出水管；6、第二散热槽；701、第一型材；702、臭氧框架；703、第二型材；704、顶板；
705、喷淋板；706、喷淋面板；707、臭氧喷头；708、支撑条；709、气孔；801、环形槽；802、密封圈；9、第一散热槽。
具体实施方式
[0028]为了使本
的人员更好地理解本专利技术方案，下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本专利技术保护的范围。
[0029]下面的描述中，为描述的清楚和简明，并没有对图中所示的所有多个部件进行描述。附图中示出了多个部件为本领域普通技术人员提供本专利技术的完全能够实现的公开内容。对于本领域技术人员来说，许多部件的操作都是熟悉而且明显的。
[0030]实施例：
[0031]如图1
‑
10所示，本实施例提供了一种硅片生产用高温臭氧氧化装置，包括工作台101和壳体102，壳体102上设置有进料口103和出料口104，工作台101的上侧壁设置有用于对硅片进行输送的输送机构，且输送机构通过驱动机构进行驱动，壳体102内设置有多组用于本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种硅片生产用高温臭氧氧化装置，包括工作台(101)和壳体(102)，所述壳体(102)上设置有进料口(103)和出料口(104)，其特征在于，所述工作台(101)的上侧壁设置有用于对硅片进行输送的输送机构，且输送机构通过驱动机构进行驱动，所述壳体(102)内设置有多组用于对硅片进行加热的加热机构和用于对硅片表面进行氧化的氧化机构，且加热机构和氧化机构位于输送机构的上方；所述输送机构包括固定连接在工作台(101)上侧壁两个对称设置的固定板(201)，且固定板(201)两个相对的侧壁通过传动轴(202)转动连接有多个阵列设置的陶瓷滚动轴(203)，所述陶瓷滚动轴(203)套设在传动轴(202)的侧壁上，且陶瓷滚动轴(203)和传动轴(202)之间设置有缓震组件，所述传动轴(202)的侧壁固定套设有挡板(204)；各组所述加热机构包括灯腔组，且灯腔组包括下灯腔(401)和上灯腔(402)，所述下灯腔(401)固定连接在工作台(101)的上侧壁，且上灯腔(402)设置在固定板(201)的上侧壁上，所述陶瓷滚动轴(203)插设在下灯腔(401)内，且上灯腔(402)的两端固定连接有灯罩壳(403)，所述上灯腔(402)内设置有加热灯管(404)，且灯腔组内设置有降温组件。2.根据权利要求1所述的一种硅片生产用高温臭氧氧化装置，其特征在于：所述缓震组件包括开设在各个传动轴(202)侧壁上的多个环形槽(801)，且环形槽(801)内套设有密封圈(802)，所述密封圈(802)与陶瓷滚动轴(203)的内侧壁相抵。3.根据权利要求2所述的一种硅片生产用高温臭氧氧化装置，其特征在于：所述驱动机构包括固定连接在工作台(101)侧壁上的驱动电机(302)，所述驱动电机(302)的...
【专利技术属性】
技术研发人员：常亮，居建华，
申请(专利权)人：无锡思锐电子设备科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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