本发明专利技术的目的在与提供一种在使用伯努利吸盘支承工件时，能够维持吸附力，并且能够防止工件的表面的干燥的工件支承装置、工件处理装置、工件输送装置、工件支承方法及工件处理方法。工件支承装置(12)具备：通过喷射气体而产生吸引力的伯努利吸盘(14)；配置为包围伯努利吸盘(14)，并在伯努利吸盘(14)的周围排出液体的液体排出部件(13)。体的液体排出部件(13)。体的液体排出部件(13)。
【技术实现步骤摘要】
工件支承装置、工件处理装置、工件输送装置、工件支承方法及工件处理方法
[0001]本专利技术涉及一种工件支承装置及工件支承方法。
技术介绍
[0002]近年来，存储器电路、逻辑电路、图像传感器(例如CMOS传感器)等器件越来越高集成化。在形成这些器件的工序中，微小颗粒、尘埃等异物可能附着于器件。附着于器件的异物会引起配线间的短路、不良的情况。因此，为了提高器件的可靠性，需要清洗形成有器件的晶片，从而去除晶片上的异物。
[0003]在晶片的背面(非器件面)也可能像上述那样附着微小颗粒、粉尘等异物。当这样的异物附着于晶片的背面时，晶片会从曝光装置的载物台基准面离开，或晶片表面相对于载物台基准面倾斜，其结果是，会产生图案形成的偏差、焦点距离的偏差。为了防止这样的问题，需要去除附着于晶片的背面的异物。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本特开2018
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111146号公报
[0007]专利文献2：日本特开2019
‑
77003号公报
[0008]专利技术所要解决的技术问题
[0009]以往，作为支承晶片等的工件的机构，使用了伯努利吸盘。伯努利吸盘是通过喷出流体并利用伯努利定理产生吸引力的吸盘，经由流体以非接触状态来支承工件。但是，通常，使用压缩空气作为流体，因此由伯努利吸盘支承的工件的表面干燥，从而成为空气中的异物、因研磨处理而产生的研磨屑等异物附着的原因。
[0010]为了防止工件的表面干燥，可以考虑向伯努利吸盘供给纯水来代替压缩空气。但是，存在伯努利吸盘的吸附力与供给压缩空气时相比变弱的问题。
技术实现思路
[0011]本专利技术的目的在于，提供一种在使用伯努利吸盘支承工件时，能够维持吸附力，并且能够防止工件的表面的干燥的工件支承装置。
[0012]用于解决技术问题的技术手段
[0013]在一方式中，提供一种工件支承装置，具备：伯努利吸盘，该伯努利吸盘通过喷射气体而产生吸引力；以及液体排出部件，该液体排出部件配置为包围所述伯努利吸盘，并在所述伯努利吸盘的周围排出液体。
[0014]在一方式中，所述液体排出部件具有多个液体排出口，该多个液体排出口排列于所述伯努利吸盘的周围。
[0015]在一方式中，所述伯努利吸盘具备朝向该伯努利吸盘的半径方向外侧的多个气体喷出口，所述多个气体喷出口配置为放射状地喷射气体。
[0016]在一方式中，在从所述液体排出部件的上方看时，所述多个液体排出口位于从所述伯努利吸盘的中心穿过所述多个气体喷出口而延伸的多条直线上。
[0017]在一方式中，所述液体排出部件具备：包围所述伯努利吸盘的侧壁、与所述侧壁连接的底部、以及朝向所述伯努利吸盘的外表面的液体排出口，所述液体排出口配置为：当排出液体时，使所述液体从所述伯努利吸盘与所述液体排出部件的间隙沿着所述工件的表面向外侧流动。
[0018]在一方式中，所述液体排出口位于所述底部。
[0019]在一方式中，所述液体排出口位于所述侧壁的内表面。
[0020]在一方式中，所述气体喷出口配置为：在从所述伯努利吸盘的上方看时，该气体喷出口朝向相对于所述伯努利吸盘的半径方向倾斜的方向，从而形成气体的回旋流。
[0021]在一方式中，提供一种工件处理装置，具备：用于处理工件的处理头；以及用于支承所述工件的上述支承装置。
[0022]在一方式中，提供一种工件输送装置，具备：用于支承工件的上述支承装置；以及使所述工件支承装置移动的移动装置。
[0023]在一方式中，提供一种工件支承方法，一边通过从伯努利吸盘喷射气体而产生的吸引力来吸引工件，一边通过所述气体的流动支承所述工件，从包围所述伯努利吸盘的液体排出部件在所述伯努利吸盘的周围排出液体。
[0024]在一方式中，所述液体从排列于所述伯努利吸盘的周围的多个液体排出口沿着所述工件的表面向外侧流动。
[0025]在一方式中，所述气体从设置于所述伯努利吸盘的多个气体喷出口朝向外侧放射状地喷射。
[0026]在一方式中，在从所述液体排出部件的上方看时，所述多个液体排出口位于从所述伯努利吸盘的中心穿过所述多个气体喷出口而延伸的多条直线上。
[0027]在一方式中，所述液体从所述伯努利吸盘与所述液体排出部件的间隙沿着所述工件的表面向外侧流动。
[0028]在一方式中，从所述伯努利吸盘的气体喷出口喷射所述气体而形成回旋流。
[0029]在一方式中，提供一种工件处理方法，一边通过从伯努利吸盘喷射气体而产生的吸引力来吸引工件，一边通过所述气体的流动支承所述工件，从包围所述伯努利吸盘的液体排出部件在所述伯努利吸盘的周围排出液体，一边向所述工件的处理点供给所述液体，一边利用处理头处理所述工件的所述处理点。
[0030]专利技术的效果
[0031]根据本专利技术，能够维持伯努利吸盘对工件的吸附力，并且向工件的表面供给液体，从而能够防止工件的干燥。
附图说明
[0032]图1是表示研磨装置的一实施方式的示意图。
[0033]图2是表示由工件保持部支承晶片的样子的俯视图。
[0034]图3中的(a)是表示工件支承装置的一实施方式的俯视图，图3的(b)是图3的(a)的A
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A线剖视图。
[0035]图4是表示图3的(a)和图3的(b)表示的工件支承装置支承晶片的下表面的样子的示意图。
[0036]图5的(a)是表示工件支承装置的其他实施方式的俯视图，图5的(b)是图5的(a)的B
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B线剖视图。
[0037]图6的(a)是表示工件支承装置的另一实施方式的俯视图，图6的(b)是图6的(a)的C
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C线剖视图。
[0038]图7的(a)是表示工件支承装置的另一实施方式的俯视图，图7的(b)是图7的(a)的D
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D线剖视图。
[0039]图8的(a)是表示工件支承装置的另一实施方式的俯视图，图8的(b)是图8的(a)的E
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E线剖视图。
[0040]图9是表示工件输送装置的一实施方式的示意图。
[0041]符号说明
[0042]1研磨装置
[0043]2a第一面
[0044]2b第二面
[0045]3研磨带
[0046]10工件保持部
[0047]11辊
[0048]12工件支承装置
[0049]13液体排出部件
[0050]13a液体排出口
[0051]13b液体流路
[0052]13c侧壁
[0053]13d底部
[0054]13e间隙
[0055]14伯努利吸盘
[0056]14a吸引面
[0057]14b气体喷出口
[0058]14c气体流路
[0059]14d壁面...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种工件支承装置，其特征在于，具备：伯努利吸盘，该伯努利吸盘通过喷射气体而产生吸引力；以及液体排出部件，该液体排出部件配置为包围所述伯努利吸盘，并在所述伯努利吸盘的周围排出液体。2.根据权利要求1所述的工件支承装置，其特征在于，所述液体排出部件具有多个液体排出口，该多个液体排出口排列于所述伯努利吸盘的周围。3.根据权利要求2所述的工件支承装置，其特征在于，所述伯努利吸盘具备朝向该伯努利吸盘的半径方向外侧的多个气体喷出口，所述多个气体喷出口配置为放射状地喷射气体。4.根据权利要求3所述的工件支承装置，其特征在于，在从所述液体排出部件的上方看时，所述多个液体排出口位于从所述伯努利吸盘的中心穿过所述多个气体喷出口而延伸的多条直线上。5.根据权利要求1所述的工件支承装置，其特征在于，所述液体排出部件具备：包围所述伯努利吸盘的侧壁、与所述侧壁连接的底部、以及朝向所述伯努利吸盘的外表面的液体排出口，所述液体排出口配置为：当排出液体时，使所述液体从所述伯努利吸盘与所述液体排出部件的间隙沿着所述工件的表面向外侧流动。6.根据权利要求5所述的工件支承装置，其特征在于，所述液体排出口位于所述底部。7.根据权利要求5所述的工件支承装置，其特征在于，所述液体排出口位于所述侧壁的内表面。8.根据权利要求1、2、5、6、7中的任一项所述的工件支承装置，其特征在于，所述伯努利吸盘具备气体喷出口，该气体喷出口喷出所述气体，所述气体喷出口配置为：在从所述伯努利吸盘的上方看时，该气体喷出口朝向相对于所述伯努利吸盘的半径方向倾斜的方向，从而形成气体的回旋流。9.一种工件处理装置，其特征在于，具备：用于处理工...
【专利技术属性】
技术研发人员：柏木诚，伊泽真于，
申请(专利权)人：株式会社荏原制作所，
类型：发明
国别省市：
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