一种用于大长径比金属管材内壁镀膜的磁控溅射装置制造方法及图纸

技术编号:32487491 阅读:27 留言:0更新日期:2022-03-02 09:53
本实用新型专利技术涉及一种用于大长径比金属管材内壁镀膜的磁控溅射装置,所述装置以大长径比金属管材(4)为磁控溅射腔体,包括:一个或多个空心圆柱状靶(12);用于支撑空心圆柱状靶的多根可伸缩支杆;控制空心圆柱状靶沿大长径比金属管材轴心方向移动的传动装置;用于大长径比金属管材两端密封的两个密封端;与一个密封端连接的抽真空系统(17);与空心圆柱状靶通过电线连接的磁控溅射电源(10)。本实用新型专利技术提供的用于大长径比金属管材内壁镀膜的磁控溅射装置能够控制靶沿大长径比金属管材轴心方向移动,解决现有技术中靶系统自重过大,移动轨道偏离管材轴心导致镀膜效果不稳定的问题,并且通过在安装多个靶实现复杂多层复合膜层的制备。制备。制备。

【技术实现步骤摘要】
一种用于大长径比金属管材内壁镀膜的磁控溅射装置


[0001]本技术属于连续镀覆的专用设备
,具体涉及一种用于大长径比金属管材内壁镀膜的磁控溅射装置。

技术介绍

[0002]大长径比金属管材被广泛应用于各行各业中,实际使用中,金属管材的使用寿命受化学腐蚀、热腐蚀、摩擦以及氧化等因素影响而大幅缩短。如何对金属管材内表面进行改性提高专用金属管内壁耐磨性、耐腐蚀性、耐热腐蚀性等属于本领域研究的热门课题,而在金属管材内壁镀膜是一种有效的改性方法。
[0003]使用电镀法在管材内壁镀膜时,需要使用有毒的化学试剂,且会产生大量的废液。此外,电镀法难以制备具有复杂结构的复合膜层。使用化学气相沉积法在管材内壁镀膜时,由于沉积所需温度一般高于1000℃,此温度高于大多金属材料的使用温度,容易对管材基体自身性能造成破坏。磁控溅射具有沉积速度快、基材温升低、对膜的损伤小等优点,展现了巨大优势,但现有磁控溅射方法要么采用与管材长度相当的柱状靶结构,或者是在管材轴线上架设供靶移动的导轨,这两种方案在面对长度过大的管材时,都会遇到自身重量过大导致靶或导轨弯曲难本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于大长径比金属管材内壁镀膜的磁控溅射装置,其特征在于,所述装置以大长径比金属管材(4)为磁控溅射腔体,包括:一个或多个空心圆柱状靶(12);用于支撑空心圆柱状靶的多根可伸缩支杆;控制空心圆柱状靶沿大长径比金属管材轴心方向移动的传动装置;用于大长径比金属管材两端密封的两个密封端;与一个密封端连接的抽真空系统(17);与空心圆柱状靶通过电线连接的磁控溅射电源(10)。2.根据权利要求1所述的用于大长径比金属管材内壁镀膜的磁控溅射装置,其特征在于,所述空心圆柱状靶(12)由内到外分别为磁体(9)、铜背板(2)以及靶材(3),铜背板内曲面设置有电源线接口和冷却水进出水管。3.根据权利要求1所述的用于大长径比金属管材内壁镀膜的磁控溅射装置,其特征在于,所述可伸缩支杆(8)一端与空...

【专利技术属性】
技术研发人员:章嵩涂溶王传彬张联盟沈强李志荣李迎春
申请(专利权)人:武汉理工大学
类型:新型
国别省市:

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