【技术实现步骤摘要】
一种可预热溅射靶材的旋靶管装置
[0001]本专利技术涉及磁控溅射镀膜领域，具体涉及一种可预热溅射靶材的旋靶管装置的设计方案。
技术介绍
[0002]磁控溅射镀膜技术是在辉光放电中进行，镀膜空间里有电子、氩离子可以接受电磁场的束缚，膜层粒子来源于辉光放电中的氩离子对于阴极靶材产生的阴极溅射作用。溅射出的膜层原子会沉积到基体上形成镀膜。和其他镀膜技术相比，磁控溅射镀膜技术所镀的膜层组织致密，膜层粒子的能量大，膜
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基结合力好，是镀制半导体器件、信息显示器件等功能薄膜的主要镀膜技术，目前，该技术在工模具沉积硬质膜层和飞机、汽车、轮船等装备上耐磨零件膜层的应用发展的十分广泛。
[0003]在近十几年来，磁控溅射镀膜技术迅速发展，在靶材选择、靶材利用率、膜
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基结合力、沉积速率等方面都有了一系列的发展，平面磁控溅射靶在生产应用中历史悠久，但也因为其利用率低、成本高等缺点，陆续研发出了柱状磁控溅射靶等靶型，与平面靶相比，柱状磁控溅射靶的靶材利用率更高，表面不易积存绝缘膜，不容易产生“靶中毒”...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.本发明提供了一种可预热溅射靶材的旋靶管装置，其中包括最外侧圆柱靶管和加热装置，加热装置外侧设置伸缩及固定机构连接外侧管，内侧为加热机构进行预热，通过旋转手轮，伸缩及固定机构可以对不同半径的靶材进行固定和移动，加热机构为电阻丝发热盘，电阻丝与管外电机相接，通电后本装置可以对靶材进行预热，防止靶材出现靶材开裂的情况。2.根据...
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