【技术实现步骤摘要】
匀胶机的排液装置
本技术涉及半导体领域的匀胶机，尤其涉及一种匀胶机的排液装置。背景才支术半导体工艺中的匀胶机适用于在基片表面制作薄膜，其工作原理是高速旋 转基片，使滴在基片上的胶液在表面张力和旋转离心力的联合作用下被展成一 层均匀的薄膜，可以通过胶液的浓度和匀胶机的转速来控制胶膜的厚度。目前， 每台匀胶机内有多个排液管道，其中，每个排液管道排放一种废液，如专门排 放多余匀胶液的管道、专门排放显影液的管道以及专门排放漂洗液的管道，该 多个排液管分别伸到匀胶机的外侧，在匀胶机的外侧该每个排液管又分别和对 应的排液管相连接，以进一步排出废液。但是，由于匀胶液的成分特性，其排 放时易堵塞匀胶机内的排液管道，且如果匀胶机内的 一个排液管道因堵塞出现 故障时，整台匀胶机需停下来进行维修。用不同排液管道分别单独地进行排液， 不仅操作繁瑣，工作量大，而且设备维护人员也需经常关注和维修排放管道， 致使生产效率低下。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是提供一种匀胶机的排液装置，能有效防止 匀胶液排液管道的堵塞，显著提高半导体的生产效率。为了解决上述技术问题，本技术匀胶机的排液...
【技术保护点】
一种匀胶机的排液装置，至少包括两个第一排液管，其中一个用于排放匀胶液，另一个用于排放显影液，其特征在于，还包括一个第二排液管，所述两个第一排液管分别与该第二排液管相连通。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：叶宗桂，钟建国，尚峰，
申请(专利权)人：深圳深爱半导体有限公司，
类型：实用新型
国别省市：94[中国|深圳]
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