一种陶瓷基片的敷粉机构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种陶瓷基片的敷粉机构，包括敷粉箱和烘干箱；敷粉箱的箱体壳体顶部设有敷粉管驱动电机和曲柄铰接座；敷粉管驱动电机的转轴连接曲柄的前段，曲柄的后段中央铰接曲柄铰接座，曲柄的后段尾端连接敷粉管；所述弧形板位于敷粉管下方，且弧形板两端连接箱体壳体的内壁，弧形板的凸面朝上，且弧形板中央设有长槽；箱体壳体未连接弧形板的两侧内壁下沿分别设有一个集液箱；集液箱位于弧形板未连接箱体壳体的两侧边沿的正下方；烘干箱位于敷粉箱后侧；烘干箱通过管路连通鼓风机，烘干箱下部开口。本实用新型专利技术一种陶瓷基片的敷粉机构能够实现陶瓷基片的表面均匀敷粉，避免隔粘粉浆沿着敷粉机构内壁滴落到陶瓷基片表面。粘粉浆沿着敷粉机构内壁滴落到陶瓷基片表面。粘粉浆沿着敷粉机构内壁滴落到陶瓷基片表面。

【技术实现步骤摘要】
一种陶瓷基片的敷粉机构


[0001]本技术属于陶瓷基片制备领域，尤其涉及一种陶瓷基片的敷粉机构。

技术介绍

[0002]氮化铝/氧化铝陶瓷基片在制备过程中有一道敷粉烧结的工序，即在陶瓷基片表面喷洒一层隔粘粉浆，再将完成敷粉的陶瓷基片放入烧结炉进行烧结的过程。
[0003]由于隔粘粉浆在使用时的状态是浆状的，现有的敷粉设备常存在诸多问题。比如，喷洒的区域过于集中，使得陶瓷基片表面的敷粉不够均匀；又比如，在喷洒隔粘粉浆时，粉浆喷洒在敷粉机构内部，随着时间的延长，粉浆在敷粉机构内壁汇聚成细流，细流会沿着敷粉机构内壁滴落到陶瓷基片表面，从而导致陶瓷基片表面敷粉不均，最终影响陶瓷基片的烧结效果。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种陶瓷基片的敷粉机构，旨在通过该敷粉机构实现陶瓷基片的表面均匀敷粉，避免隔粘粉浆沿着敷粉机构内壁滴落到陶瓷基片表面。
[0005]为了实现上述目的，本技术的技术方案是设计一种陶瓷基片的敷粉机构，包括敷粉箱和烘干箱；所述敷粉箱包括箱体壳体、弧形板、集液箱、敷粉管驱动电机、曲柄、曲柄铰接座、敷粉管；
[0006]所述箱体壳体下端开口，在箱体壳体顶部设有缺口；所述箱体壳体顶部设有敷粉管驱动电机和曲柄铰接座；所述敷粉管驱动电机的转轴连接曲柄的前段，曲柄的后段中央铰接曲柄铰接座，曲柄的后段尾端连接敷粉管；敷粉管从箱体壳体顶部的缺口伸入箱体壳体内部；所述弧形板位于敷粉管下方，且弧形板两端连接箱体壳体的内壁，弧形板的凸面朝上，且弧形板中央设有长槽；所述箱体壳体未连接弧形板的两侧内壁下沿分别设有一个集液箱；所述集液箱位于弧形板未连接箱体壳体的两侧边沿的正下方；
[0007]所述烘干箱位于敷粉箱后侧；所述烘干箱通过管路连通鼓风机，烘干箱下部开口。
[0008]进一步的，所述敷粉管后端通过软管连接装有隔粘粉浆的搅拌箱；所述敷粉管的管体为硬质管。
[0009]进一步的，所述弧形板未连接箱体壳体的两侧边沿的下方与集液箱上方之间还设有第二集液板；所述第二集液板朝着集液箱方向倾斜。
[0010]进一步的，所述集液箱底部设有排浆管。
[0011]进一步的，所述箱体壳体连接弧形板的两侧内壁下沿设有第一集液板，第一集液板位于弧形板和集液箱之间；所述第一集液板呈“V”形，且第一集液板中央高起，两端向集液箱倾斜。
[0012]进一步的，所述第一集液板所在的箱体壳体内壁的外侧设有加热管。
[0013]进一步的，所述箱体壳体上部为上窄下宽的梯形结构，箱体壳体下部为矩形箱体；所述箱体壳体内壁自上而下设有若干条倾斜的集液条。
[0014]进一步的，所述箱体壳体外壁设有带有可视窗口的箱门。
[0015]进一步的，所述烘干箱下部设有导向风板，导向风板覆盖在烘干箱的出风口。
[0016]敷粉机构设置在输送机构上方，陶瓷基片通过输送机构从敷粉机构下方经过。当陶瓷基片经过敷粉箱的箱体壳体下端开口时，装有隔粘粉浆的搅拌箱内的隔粘粉浆被泵入敷粉管，敷粉管在敷粉管驱动电机和曲柄的传动下做周期性的摆动，隔粘粉浆随着敷粉管的运动均匀喷洒到陶瓷基片上，在该过程中隔粘粉浆一部分穿过弧形板长槽，另一部分沿着弧形板流到第二集液板，再经由第二集液板流入集液箱。当集液箱内的隔粘粉浆集聚较多时，可以打开集液箱上的排浆管，将隔粘粉浆排出。当有水气凝结在第一集液板上方区域，或由水滴溅射到第一集液板上方区域时，这些水滴可沿着第一集液板流入集液箱内，或者通过加热管将第一集液板上方区域的水滴加热挥发。集液条的作用是将溅射到箱体壳体内壁的隔粘粉浆收集并最终引流到集液箱内，避免隔粘粉浆在箱体壳体内壁成股流下。烘干箱的导向风板能够使得热风均匀吹到陶瓷基片表面，使得陶瓷基片表面的隔粘粉浆内的水分均匀挥发。
[0017]本技术的优点和有益效果在于：本技术一种陶瓷基片的敷粉机构能够实现陶瓷基片的表面均匀敷粉，避免隔粘粉浆沿着敷粉机构内壁滴落到陶瓷基片表面，从而影响陶瓷基片的烧结效果。
附图说明
[0018]图1为本技术的结构示意图。
[0019]图2为敷粉箱一侧打开的状态示意图。
[0020]图3为敷粉箱的斜向仰视示意图。
[0021]图4为本技术去掉敷粉箱箱体壳体的结构示意图。
[0022]其中，箱体壳体1、弧形板2、集液箱3、第一集液板4、第二集液板5、加热管6、敷粉管驱动电机7、曲柄8、曲柄铰接座9、敷粉管10、集液条11、烘干箱12、导向风板13。
具体实施方式
[0023]下面结合附图和实施例，对本技术的具体实施方式作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本技术的技术方案，而不能以此来限制本技术的保护范围。
[0024]实施例：
[0025]陶瓷基片的敷粉机构，包括敷粉箱和烘干箱12；所述敷粉箱包括箱体壳体1、弧形板2、集液箱3、敷粉管驱动电机7、曲柄8、曲柄铰接座9、敷粉管10；
[0026]所述箱体壳体1下端开口，在箱体壳体1顶部设有缺口；所述箱体壳体1顶部设有敷粉管驱动电机7和曲柄铰接座9；所述敷粉管驱动电机7的转轴连接曲柄8的前段，曲柄8的后段中央铰接曲柄铰接座9，曲柄8的后段尾端连接敷粉管10，敷粉管10从箱体壳体1顶部的缺口伸入箱体壳体1内部；所述弧形板2位于敷粉管10下方，且弧形板2两端连接箱体壳体1的内壁，弧形板2的凸面朝上，且弧形板2中央设有长槽；所述箱体壳体1未连接弧形板2的两侧内壁下沿分别设有一个集液箱3；所述集液箱3位于弧形板2未连接箱体壳体1的两侧边沿的正下方；所述弧形板2未连接箱体壳体1的两侧边沿的下方与集液箱3上方之间还设有第二
集液板5；所述第二集液板5朝着集液箱3方向倾斜；所述集液箱3底部设有排浆管；所述箱体壳体1连接弧形板2的两侧内壁下沿设有第一集液板4，第一集液板4位于弧形板2和集液箱3之间；所述第一集液板4呈“V”形，且第一集液板4中央高起，两端向集液箱3倾斜；所述第一集液板4所在的箱体壳体1内壁的外侧设有加热管6；
[0027]所述敷粉管10后端通过软管连接装有隔粘粉浆的搅拌箱；所述敷粉管10的管体为硬质管。
[0028]所述箱体壳体1上部为上窄下宽的梯形结构，箱体壳体1下部为矩形箱体；所述箱体壳体1内壁自上而下设有若干条倾斜的集液条11。
[0029]所述箱体壳体1外壁设有带有可视窗口的箱门。
[0030]所述烘干箱12位于敷粉箱后侧；所述烘干箱12通过管路连通鼓风机，烘干箱12下部开口；所述烘干箱12下部设有导向风板13，导向风板13覆盖在烘干箱12的出风口。
[0031]以上所述仅是本技术的优选实施方式，应当指出，对于本
的普通技术人员来说，在不脱离本技术技术原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本技术的保护范围。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种陶瓷基片的敷粉机构，其特征在于：包括敷粉箱和烘干箱；所述敷粉箱包括箱体壳体、弧形板、集液箱、敷粉管驱动电机、曲柄、曲柄铰接座、敷粉管；所述箱体壳体下端开口，在箱体壳体顶部设有缺口；所述箱体壳体顶部设有敷粉管驱动电机和曲柄铰接座；所述敷粉管驱动电机的转轴连接曲柄的前段，曲柄的后段中央铰接曲柄铰接座，曲柄的后段尾端连接敷粉管；敷粉管从箱体壳体顶部的缺口伸入箱体壳体内部；所述弧形板位于敷粉管下方，且弧形板两端连接箱体壳体的内壁，弧形板的凸面朝上，且弧形板中央设有长槽；所述箱体壳体未连接弧形板的两侧内壁下沿分别设有一个集液箱；所述集液箱位于弧形板未连接箱体壳体的两侧边沿的正下方；所述烘干箱位于敷粉箱后侧；所述烘干箱通过管路连通鼓风机，烘干箱下部开口。2.根据权利要求1所述的一种陶瓷基片的敷粉机构，其特征在于：所述敷粉管后端通过软管连接装有隔粘粉浆的搅拌箱；所述敷粉管的管体为硬质管。3.根据权利要求1所述的一种陶瓷基片的敷粉机构，其特征在于：所述弧形板未连接箱体壳体的两侧边...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙山鹏，周正余，
申请(专利权)人：苏州暾达智能装备有限公司，
类型：新型
国别省市：