离子注入设备及离子注入方法技术

本发明专利技术公开了一种离子注入设备及离子注入方法。该离子注入设备设置有控制装置，该装置在未对衬底进行离子注入的过程中控制其运行状态处于选自以下模式的任意模式中的状态，该模式为：（ａ）待机模式，其中，供给至离子源的原料气体的流速以及从等离子体发生电源供给的功率降低到能保持离子源内等离子体的产生的数值；（ｂ）磁体关闭模式，其中，除了待机模式中的状态外，自能量分离磁体电源、扫描磁体电源和束平行化磁体电源的输出也被停止；以及（ｃ）停机模式，其中，原料气体的供给终止，且自电源的输出终止。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种离子注入设备和离子注入方法，其通过用离子束辐照衬底(例如说明书的以下描述中的半导体衬底)来注入离子。更具体地，本专利技术涉及一种离子注入设备和离子注入方法，其能减小运行该离子注入设备所需的能量。
技术介绍
在现有技术的离子注入设备中，在未对衬底进行离子注入的时候，例如在从已经对某组衬底完成离子注入时到对下一组衬底开始离子注入时的时期中，设备的运行状态为以下的状态(a)或(b)。即，运行状态(a)为除了没有用离子束辐照衬底外，保持与注入过程相同的状态，并且产生了所需离子类型的离子束。运行状态(b)为处于构成离子注入设备的几乎所有装置均停止的状态。近年来，作为环境保护措施的一部分，已经要求离子注入设备实现节能，该能量节约包括减小功耗。更宽泛地说，要求离子注入设备不仅实现功耗的降低，还要实现COO(设备所有人的耗费有关设备运行和维护的总的维护成本)的减小，例如原料气体消耗、装置耗费、维护花费等。然而，由于(a)运行状态连续产生所需离子类型的离子束，所以，不仅消耗浪费的功率或离子源原料气体，还耗费/劣化离子源，加速用于去除废气和其它装置中包含的有害物质的除气设备寿命缩短本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种离子注入设备，包括：一离子源，用于电离原料气体以产生等离子体，并从该等离子体中引出离子束；气体供给装置，用于向离子源供给原料气体；一主泵和一初级泵，用于对连接于离子源且离子束经过其中的束路线真空室内部抽真空；一注入腔室，在该腔室内，以自离子源引出的离子束辐照衬底，以将离子注入到衬底中；一真空预备室，在注入腔室和外界大气之间，衬底放入其中或从其中取出；一真空预备室泵，用于对真空预备室的内部抽真空；以及一控制装置，用于实施以下模式中的至少一种，该些模式为：（ａ）初级泵低速模式，其中，控制初级泵以一旋转速度运行，该速度比束路线真空室内部处于预定高真空状态、且原料气体未从气体供给装置供给到离子源的...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：松本贵雄，织平浩一，中尾和浩，中村光则，
申请(专利权)人：日新意旺机械股份公司，
类型：发明
国别省市：JP[日本]