【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
【技术保护点】
碱溶性的浸没式光刻用抗蚀剂保护膜材料，其特征在于，包含聚合物（Ｆ），所述聚合物（Ｆ）包含通过具有含氟桥环结构的聚合性化合物（ｆ↑［ｍ］）的聚合而形成的重复单元（Ｆ↑［Ｕ］）。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：武部洋子，王舒钟，横小路修，代田直子，松川泰久，白川大祐，
申请(专利权)人：旭硝子株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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