基于动态压力检测的浸没流场自适应密封方法技术

本发明专利技术公开了一种基于动态压力检测的浸没流场自适应密封方法。在浸没式光刻系统中投影透镜组和待曝光硅片衬底之间的浸没单元内部进行的密封方法，通过在回收流道和气密封通道之间周向布置一圈压力传感器来实现流场泄漏状况的实时监测和气密封装置注气量的自适应控制。本发明专利技术通过对回收流道与气密封通道中间区域的压力进行检测，实现对浸没流场泄漏状况的实时监测；并且将此信号反馈给气密封装置，气密封装置依据此信号实时的改变其进气量，进行动态的自适应密封，保证了最佳的密封效果的同时，降低了过高的气密封压力导致的前进接触角处的液体卷吸气泡的问题及硅片所受应力过大等问题，同时减少了气体的损耗，较大程度的优化气密封装置的性能。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种基于动态压力检测的浸没流场自适应密封方法，其特征在于：在浸没式光刻系统中投影透镜组(1)和待曝光硅片衬底(3)之间的浸没单元(2)内部进行的密封方法，通过在回收流道(2B)和气密封通道(2C)之间周向布置一圈压力传感器(4)来实现流场泄漏状况的实时监测和气密封装置注气量的自适应控制。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：傅新，黄瑶，胡亮，陈文昱，
申请(专利权)人：浙江大学，
类型：发明
国别省市：浙江;33