【技术实现步骤摘要】
用于浸没式光刻机中的负压环境下的连续气液分离装置
本专利技术涉及连续气液分离装置，特别是涉及一种用于浸没式光刻机中的负压环境下的连续气液分离装置。技术背景浸没式光刻(Immersion Lithography)设备通过在最后一片投影物镜与娃片之间填充某种高折射率的液体，相对于中间介质为气体的干式光刻机，提高了投影物镜的数值孔径(NA)，从而提高了光刻设备的分辨率和焦深。在已提出的下一代光刻机中，浸没式光刻对现有设备改动最小，对现在的干式光刻机具有良好的继承性。目前常采用的方案是局部浸没法，即将液体限制在硅片上方和最后一片投影物镜的下表面之间的局部区域内，并保持稳定连续的液体流动。一方面，已有的气密封装置在回收过程中都存在气液两相流的问题，将两者放在一起回收将会引起管路的振动，从而严重影响曝光质量。另一方面，浸没式光刻中需要保持浸没流场稳定的流动，这要求气液混合物回收时负压必须同时得到稳定的控制。因此，浸没式光刻技术中要求配备具有气液分离回收的功能以及负压回收功能的装置。目前的气液分离解决方案中，一方面，气液两相流的供给和气液分离过程有一定的时序关系，在气液...
【技术保护点】
用于浸没式光刻机中的负压环境下的连续气液分离装置，其特征在于：包括装有液位探测元件（7）的气液分离贮存容腔（8），真空回路和排水回路；所述真空回路，包括真空压力变送器（9），控制器（10），真空比例阀（11），开关阀（12），真空泵（13），汽水分离器（14）：气液混合物与气液分离贮存容腔（8）的上部的入口连接，真空压力变送器（9）的入口与气液分离贮存容腔（8）的上部的出口连接，真空压力变送器（9）的出口依次经真空比例阀（11）、开关阀（12）、真空泵（13）和汽水分离器（14）和气体回收点（11）连接，真空压力变送器（9）和真空比例阀（11）与控制器（10）电连接；所述排...
【技术特征摘要】
1.用于浸没式光刻机中的负压环境下的连续气液分离装置，其特征在于:包括装有液位探测元件(7)的气液分离贮存容腔(8)，真空回路和排水回路； 所述真空回路，包括真空压力变送器(9)，控制器(10)，真空比例阀(11)，开关阀(12)，真空泵(13)，汽水分离器(14):气液混合物与气液分离贮存容腔(8)的上部的入口连接，真空压力变送器(9)的入口与气液分离贮存容腔(8)的上部的出口连接，真空压力变送器(9)的出口依次经真空比例阀(11)、开关阀(12)、真空泵(13)和汽水分离器(14)和气体回收点(11)连接，真空压力变送器(9 )和真空比例阀(11)与控制器(10 )电连接； 所述排水回路，包括流量调节阀(16)，卸载阀(17)，自吸泵(18);气液分离贮存容腔(...
【专利技术属性】
技术研发人员：傅新，陈伊骅，李星，陈文昱，
申请(专利权)人：浙江大学，
类型：发明
国别省市：浙江;33
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