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本发明提供浸没式光刻用抗蚀剂保护膜材料。包含聚合物（Ｆ）的碱溶性的浸没式光刻用抗蚀剂保护膜材料，所述聚合物（Ｆ）包含通过具有含氟桥环结构的聚合性化合物（ｆ↑［ｍ］）的聚合而形成的重复单元（Ｆ↑［Ｕ］）。例如，重复单元（Ｆ↑［Ｕ］）为通过选自...
该专利属于旭硝子株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过旭硝子株式会社授权不得商用。

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