【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种通过投影光学系和液体对基板进行曝光的曝光 装置、使用该膝光装置的器件制造方法、及曝光装置的控制方法。
技术介绍
半导体器件或液晶显示器件通过将形成于掩模上的图形转印到 感光性基板上的所谓的光刻方法制造。该光刻工序使用的曝光装置具 有支承掩模的掩模台和支承基板的基板台, 一边依次移动掩模台和基 板台, 一边通过投影光学系将掩模的图形转印到基板。近年来,为了 应对器件图形的更进一步的高集成化,希望获得投影光学系的更高的 析像度。使用的曝光波长越短、投影光学系的数值孔径越大时,投影 光学系的析像度越高。为此,曝光装置使用的曝光波长逐年变短,投 影光学系的数值孔径也增大。现在主流的曝光波长为KrF受激准分子 激光的248nm,但更短波长的ArF受激准分子激光的193nm也正得 到实用化。另外,当进行曝光时,与析像度同样,焦深(DOF)也变 得重要。析像度R和焦深S分别用下式表示。R = k^X/NA …(1)fi = ±lc2 X/NA2 …(2)其中,k为曝光波长,NA为投影光学系的数值孔径,kp k2为 过程系数。从(1)式、(2)式可知,当为了提高析像度R而减小啄光波长3u增大数值孔径NA时,焦深3变窄。当焦深S变得过窄时,难以使基板表面与投影光学系的像面一 致,存在曝光动作时的余量不足的危险。因此,作为实质上减小曝光 波长而且扩大焦深的方法,例如提出有公开于国际公开第99/49504号 公报的液浸法。该液浸法用水或有机溶剂等液体充满投影光学系的下 面与基板表面之间,形成液浸区域,利用液体中的曝光用光的波长为 空气中的1/n (n为液体的 ...
【技术保护点】
一种通过液体将曝光用光照射到基板对基板进行曝光的曝光装置,其特征在于包括: 投影光学系统,将图形像投影到基板上; 保持上述基板并且可以移动的可动构件;和 液体供给机构,将液体供给到上述投影光学系统与基板之间, 上述液 体供给机构在检测到上述可动构件与上述投影光学系统的位置关系的异常时停止液体的供给。
【技术特征摘要】
JP 2003-7-28 2003-281183;JP 2004-2-20 2004-0451041. 一种通过液体将曝光用光照射到基板对基板进行曝光的曝光装置,其特征在于包括投影光学系统,将图形像投影到基板上;保持上述基板并且可以移动的可动构件;和液体供给机构,将液体供给到上述投影光学系统与基板之间,上述液体供给机构在检测到上述可动构件与上述投影光学系统的位置关系的异常时停止液体的供给。2. 根据权利要求l所述的曝光装置,其特征在于还包括 电气设备,为了防止因液体的附着而引起的漏电,当检测到上述位置关系的 异常时停止向上述电气设备的供电。3. 根据权利要求2所述的曝光装置,其特征在于 上述电气设备包含用于使上述可动构件移动的线性电动机。4. 根据权利要求1所述的曝光装置,其特征在于还包括 吸气口 ,为了防止液体的流入,当检测到上述位置关系的异常时停止从上 述吸气口的吸气。5. 根据权利要求4所述的膝光装置,其特征在于包括 空气轴承,具有吸气口且用于相对导向面非接触地使上述可动构件移动,上述吸气口对上述可动构件与上述导向面之间的气体进行吸气。6. 根据权利要求l所述的曝光装置,其特征在于上述异常的位置关系为不能在上述投影光学系统之下保持液体 的状态。7. 根据权利要求6所述的膝光装置,其特征在于包括 上述可动构件上的第1区域;和包含上述投影光学系统的像面侧前端部分、与上述第1区域相对 的第2区域,上述液体保持于上述第1区域的至少一部分与上述第2区域之间 形成液浸区域,上述投影光学系统和上述可动构件的位置关系的异常 包含上述第1区域与上述第2区域的位置关系的异常。8. 根据权利要求7所述的曝光装置,其特征在于 上述异常的位置关系包含上述液浸区域的至少一部分比起上述第1区域伸出到更外侧的状态。9. 根据权利要求6所述的曝光装置,其特征在于当检测到上述位置关系的异常时,停止上述可动构件的移动。10. 根据权利要求1所述的曝光装置,其特征在于包括 检测器,检测液体的泄漏;和控制装置,基于上述检测器的检测结果,对装置的动作进行控制。11.根据权利要求IO所述的曝光装置,其特征在于还包括 电气设备,上述检测器分别设于多个预定位置,上述控制装置依照检测出液体的泄漏的检测器的位置,选择停止一个动作,12.根据权利要求10所述的膝光装置,其特征在于还包括 电气设备,上述控制装置依照使用上述检测器检测出的液体的泄漏量,选择至少一个动作。13. 根据权利要求IO所述的膝光装置,其特征在于 上述检测器配置在保持上述基板的基板台。14. 根据权利要求IO所述的曝光装置,其特征在于 上述检测器配置在可移动地支承保持上述基板的基板台的底座构件上。15.根据权利要求10所述的曝光装置,其特征在于 上述检测器配置在用于移动保持上述基板的基板台的电》兹驱动 源的周边。16.根据权利要求IO所述的曝光装置,其特征在于 上述检测器配置在设于保持上述基板的基板台的液体回收口的内部。17. 根据权利要求16所述的曝光装置,其特征在于 在保持于上述基板台的基板的周围具有与该基板的表面处于同一平面的平坦部分,上述液体回收口i殳于上述平坦部分的外侧。18. 根据权利要求16所述的啄光装置,其特征在于: 上述液体回收口包含...
【专利技术属性】
技术研发人员:马込伸贵,小林直行,榊原康之,高岩宏明,
申请(专利权)人:株式会社尼康,
类型:发明
国别省市:JP[日本]
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