用于真空镀膜工艺的光束共蒸发专用装置制造方法及图纸

一种用于真空镀膜工艺的光束共蒸发专用装置，包括：光源；其特征在于：还包括一凹面镜、凸透镜；其中光源放在一凹面镜、凸透镜之间，并处在凹面镜的焦点上；凸透镜的焦点在靶面上；光源和凹面镜放在凸透镜的２倍焦距之外，该聚光装置安装在真空室外；光束通过真空室的观察窗入射到真空室内的靶面上。（*该技术在2012年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及到高温超导膜的制膜设备，特别是涉及采用光束共蒸发工艺制备大面积高温超导钇钡铜氧(YBa2Cu3O7-δ)厚膜用的设备。
技术介绍
目前，制备大面积高温超导厚膜的主要困难是沉积速率慢，费用高，随着膜面积变大难度迅速增加。常用制备大面积高温超导膜的方法是脉冲激光沉积法(以下简称PLD)，溅射法，电子束共蒸发等。PLD方法能生长出超导性能优良的高温超导薄膜，但它的生长速度会随膜层面积增加增厚而变缓慢，制备难度亦随之迅速增加。此外，PLD法还需要昂贵的大功率准分子激光器，而且用激光加热靶会产生小颗粒(particle)，影响膜的质量。如文献1Double-sided YBa2Cu3O7-δthin films madeby off-axis pulsed laser deposition，supercond.Sci.Technol.14，543-547，2001中所介绍的。采用溅射方法制备大面积YBa2Cu3O7-δ膜，如文献2Uniform depositionof YBa2Cu3O7-δthinfilms over an 8 inch diameter area by a 9本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于真空镀膜工艺的光束共蒸发专用装置，包括光源；其特征在于还包括一凹面镜、凸透镜；其中光源放在一凹面镜、凸透镜之间，并处在凹面镜的焦点上；凸透镜的焦点在靶面上；光源和凹面镜放在凸透镜的2倍焦距之外，该聚光装置安装在真空室外；光束通过真...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱亚彬，周岳亮，王淑芳，许加迪，陈正豪，吕惠宾，杨国桢，
申请(专利权)人：中国科学院物理研究所，
类型：实用新型
国别省市：