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一种用于真空镀膜工艺的光束共蒸发专用装置，包括：光源；其特征在于：还包括一凹面镜、凸透镜；其中光源放在一凹面镜、凸透镜之间，并处在凹面镜的焦点上；凸透镜的焦点在靶面上；光源和凹面镜放在凸透镜的２倍焦距之外，该聚光装置安装在真空室外；光束通过...
该专利属于中国科学院物理研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院物理研究所授权不得商用。

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