选择制造光掩模的掩模制造商的方法技术

本发明专利技术的课题是一种掩模制造商选择方法，包含下述步骤：从掩模制造商的计算机接收描绘面积１００％区域数据和单价数据的步骤（Ｓ１０４）；一旦从预定数目以上的掩模制造商的计算机接收到数据（在Ｓ１０８中为“是”），则根据描绘面积１００％区域数据，抽出符合条件的１００％代码的步骤（Ｓ１１０）；根据所抽出的１００％代码的描绘１００％区域和描绘区域数据的描绘区域，算出描绘面积率的步骤（Ｓ１１２）；根据单价数据和描绘面积率，从描绘面积率算出单价的步骤（Ｓ１１４）；以及根据所算出的单价，决定订货目的方的掩模制造商的步骤（Ｓ１１６）。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及在半导体器件的订货系统中选择作为半导体器件用晶片的原版而被使用的光掩模的接受订货商的方法，特别是涉及可使光掩模的单价降低的选择方法。
技术介绍
迄今，由IC芯片制造商(晶片制造商)生产备有根据客户所要求的规格而变更布线图形的电路的IC(集成电路)芯片。这样的IC芯片是在作为IC芯片的制造工序之一的光刻工序中，将在合成石英衬底上用金属薄膜形成了遮光图形的光掩模作为原版而制造的。由掩模制造商制造该光掩模。与规格有关的信息被存储在磁带等中，从作为订货商的晶片制造商交给、或在线发送给作为接受订货商的掩模制造商。掩模制造商根据送来的与规格有关的信息，生成制造光掩模用的制造数据。另一方面，光掩模的数量、交货期等定货信息从作为订货商的晶片制造商用电话、或在线传递给作为接受订货商的掩模制造商。掩模制造商根据定货信息，按照生产管理中必要的优先顺序，生成包括产品编号、数量、发送目的地和交货期等信息、以及品质管理所必要的信息的管理数据。所建立的管理数据被送给光掩模生产线。光掩模生产线根据基于规格生成的制造数据、以及基于定货信息建立的管理数据，制造光掩模。例如，利用由制造数据控制的电子束曝光装置，制成光掩模。作为这样的半导体器件的生产方法，有特开2002-41126号公报中公开的生产方法。该公报中公开了的生产方法是在有意愿的接受订货商与有意愿的订货商之间通过网络接收、发送信息，从而进行接受半导体器件的生产的订货，生产半导体器件的方法。该生产方法包括根据有意愿的订货商的要求，促使有意愿的订货商输入半导体器件的规格的第1步骤；根据由有意愿的订货商所选择的半导体器件的规格，考虑到采用字符投影方式的带电粒子束曝光而复制图形的条件，生成多个电路图形，同时算出关于各电路图形的至少2个图形的设计参数的第2步骤；以及对于各电路图形由有意愿的订货商提示上述至少2个图形的设计参数，促使有意愿的订货商选择满足所期望的条件的电路图形的第3步骤。如果采取该公报中所记述的生产方法，则委托半导体器件的生产的有意愿的订货商通过网络与有意愿的接受订货商直接连接，可通过模拟进行欲生产的器件的电路图形的生成。此时，分别由有意愿的订货商提示为有意愿的订货商所必须的器件的性能、芯片面积及成本、时限等成为有意愿的订货商委托生产时的判断材料的各参数，由有意愿的订货商作出选择，从而不产生以往在设计人员、工艺技术人员与有意愿的订货商之间所产生的器件设计意识的偏差，对有意愿的订货商来说，可实现最佳的图形的选择和订货。更具体地说，可选择能够廉价或快速生产的图形，以代替器件性能稍差的图形。可是，在上述公报所公开的生产方法中，采用了字符投影方式。按照该字符投影方式，将电路图形分割成微小的长方形或三角形，重复进行曝光。从而，在进行图形曝光时不必制作专用的掩模。因此，将该公报中公开了的生产方法应用于光掩模的订货系统也看不到效果。即，在使用光掩模时，光掩模的价格根据图形描绘装置、缺陷检查装置等所使用的制造装置的运行成本来设定。运行成本一般从装置的运转率按简单平均求得。用该方法可得到与芯片的面积的大小无关的恒定的价格。在这种情况下，掩模制造商虽然可得到与芯片面积的差值对应的边际利润，但结果却是掩模价格居高不下。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供能决定制造低价格的光掩模的制造商的掩模制造商选择方法。本专利技术的另一目的在于提供能容易地决定制造低价格的光掩模的制造商的掩模制造商选择方法。本专利技术的又一目的在于提供能准确地决定制造低价格的光掩模的制造商的掩模制造商选择方法。本专利技术的掩模制造商选择方法是从制造用于半导体晶片的制造的光掩模的2个以上的掩模制造商中选择1个掩模制造商。该掩模制造商选择方法包含对2个以上的每一掩模制造商，存储光掩模上所描绘的图形的最大面积的步骤；对2个以上的每一掩模制造商，存储由订货商根据最大面积与光掩模上所描绘的图形的面积的比率为光掩模的制造所支付的价格的步骤；存储包含光掩模的图形的面积的订货规格数据的步骤；对2个以上的每一掩模制造商，算出最大面积与在订货规格数据中所包含的光掩模的图形的面积的描绘比率的步骤；对2个以上的每一掩模制造商，根据所算出的描绘比率和根据所存储的比率而存储的价格，算出对订货规格数据的估计价格的步骤；以及根据对2个以上的每一掩模制造商所算出的、2个以上的估计价格，从2个以上的掩模制造商中选择1个掩模制造商的步骤。按照本专利技术，根据掩模图形的最大面积和订货规格数据中所包含的光掩模的图形的面积，算出描绘比率。根据该描绘比率，按照比率算出预先存储的价格。例如，可设定为比率越高，价格越高；比率越低，价格越低。因此，可算出实际订货的图形的面积相对于最大面积越小，估计价格就越低。这样一来，可根据光掩模的描绘比率改变估计价格，选择掩模制造商。其结果是，可提供能容易地决定制造低价格的光掩模的制造商的掩模制造商选择方法。本专利技术的另一方面的掩模制造商选择方法是从制造用于半导体晶片的制造的光掩模的2个以上的掩模制造商中选择1个掩模制造商。该掩模制造商选择方法包含对2个以上的每一掩模制造商，存储光掩模上所描绘的图形的最大面积的步骤；存储包含光掩模的多个图形的面积的订货规格数据的步骤；对2个以上的每一掩模制造商，算出最大面积与在订货规格数据中所包含的光掩模的图形的面积的描绘比率的步骤；对2个以上的每一掩模制造商，建立将多个图形组合起来的可合成信息以使组合图形的描绘比率满足所预定的条件的步骤；以及根据对2个以上的每一掩模制造商所建立的可合成信息，从2个以上的掩模制造商中选择1个掩模制造商的步骤。按照本专利技术，根据掩模图形的最大面积和在订货规格数据中所包含的光掩模的图形的面积，可算出描绘比率。例如，可建立将多个图形组合起来的可合成信息，使得该描绘比率不远远超过100％。如果有可能将实际订货的多个图形组合起来制造，则估计价格会降低。这样一来，根据光掩模的描绘比率，可找到被合成的图形，选择掩模制造商。其结果是，可提供能容易地决定制造低价格的光掩模的制造商的掩模制造商选择方法。附图说明图1是本专利技术的第1实施例的掩模制造商选择系统的整体结构图。图2是表示在光掩模中所描绘的图形的描绘面积的图。图3是实现图1中所示的服务器的计算机的外观图。图4是图3中所示的计算机的控制框图。图5是表示从本专利技术第1实施例的掩模制造商用计算机发送给服务器并存储起来的描绘面积100％区域数据的图。图6是表示从本专利技术第1实施例的掩模制造商用计算机发送给服务器并存储起来的单价数据的图。图7是表示被存储在本专利技术第1实施例的服务器中的描绘区域数据的图。图8是表示在本专利技术第1实施例的掩模制造商选择系统中所执行的程序的控制结构的流程图。图9和图10是表示估计价格的比较表的图。图11是表示在本专利技术第1实施例的变例的掩模制造商选择系统中所执行的程序的控制结构的流程图。图12是表示被存储在本专利技术第2实施例的服务器中的各光掩模工序中的规格和用途数据库的图。图13是表示被存储在本专利技术第2实施例的服务器中的光掩模可合成数据的图。图14是表示在本专利技术第2实施例的掩模制造商选择系统中所执行的程序的控制结构的流程图。具体实施例方式以下，参照附图，同时说明本专利技术的实施例。在以下的说明和附图中，对同一部件标以同一符号。它们的名称本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩模制造商选择方法，该掩模制造商选择方法可用来从制造使用于半导体晶片的制造的光掩模的２个以上的掩模制造商中选择１个掩模制造商，其特征在于：上述掩模制造商选择方法包含：对上述２个以上掩模制造商的每一个，存储光掩模上所描绘的图形的最 大面积的步骤；对上述２个以上掩模制造商的每一个，根据上述最大面积与在光掩模上所描绘的图形的面积的比率，对上述光掩模的制造，存储订货商支付的价格的步骤；存储包含上述光掩模的图形的面积的订货规格数据的步骤；对上述２个以上掩模制造商的 每一个，算出上述最大面积与上述订货规格数据中所包含的光掩模的图形的面积的描绘比率的步骤；对上述２个以上掩模制造商的每一个，根据上述算出的描绘比率和按照上述被存储了的上述比率而被存储了的价格，算出对上述订货规格数据的估计价格的步骤；以及 根据对上述２个以上掩模制造商的每一个算出的２种以上的上述估计价格，从上述２个以上掩模制造商中选择１个掩模制造商的步骤。

【技术特征摘要】
JP 2002-7-18 209520/021.一种掩模制造商选择方法，读掩模制造商选择方法可用来从制造使用于半导体晶片的制造的光掩模的2个以上的掩模制造商中选择1个掩模制造商，其特征在于上述掩模制造商选择方法包含对上述2个以上掩模制造商的每一个，存储光掩模上所描绘的图形的最大面积的步骤；对上述2个以上掩模制造商的每一个，根据上述最大面积与在光掩模上所描绘的图形的面积的比率，对上述光掩模的制造，存储订货商支付的价格的步骤；存储包含上述光掩模的图形的面积的订货规格数据的步骤；对上述2个以上掩模制造商的每一个，算出上述最大面积与上述订货规格数据中所包含的光掩模的图形的面积的描绘比率的步骤；对上述2个以上掩模制造商的每一个，根据上述算出的描绘比率和按照上述被存储了的上述比率而被存储了的价格，算出对上述订货规格数据的估计价格的步骤；以及根据对上述2个以上掩模制造商的每一个算出的2种以上的上述估计价格，从上述2个以上掩模制造商中选择1个掩模制造商的步骤。2.如权利要求1所述的掩模制造商选择方法，其特征在于上述掩模制造商选择方法还包含从上述掩模制造商中接收与上述最大面积和上述比率对应的价格的步骤。3.如权利要求1所述的掩模制造商选择方法，其特征在于上述掩模制造商选择方法还包含将对每一上述掩模制造商所算出的估计价格发送给上述订货商的步骤。4.如权利要求1所述的掩模制造商选择方法，其特征在于上述掩模制造商选择方法还包含建立对上述选定了的上述1个掩模制造商的订货数据的步...

【专利技术属性】
技术研发人员：森正芳，细野邦博，有本一郎，菊田裕子，
申请(专利权)人：三菱电机株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]