【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及制造叠层结构的方法，以及通过该方法制造的叠层结构、显示器件和显示单元，该叠层结构适合作为反射电极、反射薄膜或配线。
技术介绍
近年来，作为一种平板显示器，使用有机发光器件的有机发光显示器已成为关注的焦点。有机发光显示器是自发光类型，因此认为有机发光显示器具有宽视角、低功耗和适合于响应高清晰度高速度的视频信号的优点。因此，有机发光显示器的发展已经朝着实际应用进行。作为有机发光器件，例如，熟知的是叠层，该叠层包括其间依次在基材上的第一电极、包含发光层的有机层和具有TFT(薄膜晶体管)的第二电极、平面化层等。发光层中产生的光可以从基材侧或第二电极侧引出。作为引出光的电极，在很多情况下，使用由具有透光性的导电材料制成的透明电极，例如包含铟(In)、锡(Sn)和氧(O)的化合物(ITO；氧化铟锡)。先前已经提出了透明电极的各种结构。例如，为了防止由于ITO薄膜厚度的增加而造成成本的增加，提出了一种透明电极，该透明电极包括由银(Ag)等制成的金属薄膜和由氧化锌(ZnO)等制成的高折射率薄膜的叠层(例如，参见日本待审专利申请公开2002-334792)。在该透...
【技术保护点】
一种制造叠层结构的方法，包括如下步骤： 在基材上层叠多个层； 在该多个层上形成掩模；及 利用该掩模同时蚀刻该多个层。
【技术特征摘要】
JP 2003-5-29 153052/03;JP 2003-8-28 305285/031.一种制造叠层结构的方法，包括如下步骤在基材上层叠多个层；在该多个层上形成掩模；及利用该掩模同时蚀刻该多个层。2.根据权利要求1的制造叠层结构的方法，其中在该多个层之间形成一层由银(Ag)或含银合金制成的银层。3.根据权利要求2的制造叠层结构的方法，其中该多个层的形成步骤包括下列步骤在该基材上形成粘接层；形成与该粘接层表面接触的银层；及形成与该银层表面接触的用于保护该银层的阻挡层。4.根据权利要求3的制造叠层结构的方法，其中该粘接层或阻挡层中至少一层是由金属化合物或导电氧化物制成的，所述金属化合物或导电氧化物包含至少一种选自铟(In)、锡(Sn)和锌(Zn)的元素。5.根据权利要求3的制造叠层结构的方法，其中该粘接层或阻挡层中至少一层是由选自含铟(In)、锡(Sn)和氧(O)的化合物，含铟(In)、锌(Zn)和氧(O)的化合物，氧化铟(In2O3)，氧化锡(SnO2)和氧化锌(ZnO)中的至少一种制成的。6.根据权利要求4的制造叠层结构的方法，其中该粘接层和阻挡层包含至少一种选自铟(In)、锡(Sn)和锌(Zn)的共同元素。7.根据权利要求6的制造叠层结构的方法，其中该粘接层和阻挡层都至少包含铟(In)。8.根据权利要求7的制造叠层结构的方法，其中该粘接层和阻挡层是由含铟、锡和氧的化合物制成的。9.根据权利要求7的制造叠层结构的方法，其中该粘接层由含铟、锡和氧的化合物制成的，该阻挡层是由含铟、锌和氧的化合物制成的。10.根据权利要求7的制造叠层结构的方法，其中该粘接层和阻挡层是由含铟、锌和氧的化合物制成的。11.根据权利要求4的制造叠层结构的方法，其中在同时蚀刻该多个层的步骤中，利用蚀刻气体进行干法蚀刻，该蚀刻气体包括能与所有该多个层形成挥发性化合物的成分。12.根据权利要求11的制造叠层结构的方法，其中该蚀刻气体包括甲烷(CH4)。13.根据权利要求2的制造叠层结构的方法，还包括用脱模剂除去该掩模的步骤。14.根据权利要求13的制造叠层结构的方法，其中该脱模剂包括有机氨基化合物及一种、两种或多种极性有机溶剂，所述有机氨基化合物包括选自二亚乙基三胺、2-(2-氨基乙基氨基)乙醇、2-(2-氨基乙基氨基)-2-丙醇、N-(3-氨丙基)-N-(2-羟乙基)-2-氨基乙醇、2-(2-氨基乙氧基)乙醇、二亚丙基三胺、三亚乙基四胺和福尔马林中的至少一种，且该脱模剂是非水的。15.根据权利要求13的制造叠层结构的方法，其中该脱模剂还包含防腐剂。16.根据权利要求14的制造叠层结构的方法，其中该有机氨基化合物在脱模剂中的总含量为20～50质量％，包括20质量％和50质量％。17.根据权利要求14的制造叠层结构的方法，其中该脱模剂中的极性有机溶剂包括选自1，3-二甲基-2-咪唑...
【专利技术属性】
技术研发人员：横山诚一，大和田拓央，石川典夫，
申请(专利权)人：索尼株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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